JP4742782B2 - X線検査装置 - Google Patents

X線検査装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4742782B2
JP4742782B2 JP2005281990A JP2005281990A JP4742782B2 JP 4742782 B2 JP4742782 B2 JP 4742782B2 JP 2005281990 A JP2005281990 A JP 2005281990A JP 2005281990 A JP2005281990 A JP 2005281990A JP 4742782 B2 JP4742782 B2 JP 4742782B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
measurement
ray
measurement point
stage
input
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005281990A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007093343A (ja
JP2007093343A5 (ja
Inventor
嘉浩 立澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2005281990A priority Critical patent/JP4742782B2/ja
Publication of JP2007093343A publication Critical patent/JP2007093343A/ja
Publication of JP2007093343A5 publication Critical patent/JP2007093343A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4742782B2 publication Critical patent/JP4742782B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

本発明は、工業製品などの透視検査またはCT検査などを行うためのX線検査装置に関し、さらに詳細には、同一形状の量産品を順次、X線測定視野内に移動して測定を行うX線検査装置に関する。
工業製品などの透視検査を行うX線検査装置では、X線発生装置のX線源に対向するようにして、イメージインテンシファイア(以下、IIと略す)とCCDカメラとを組み合わせたX線検出器を配置し、さらにX線源とX線検出器との間に移動可能なステージを配置して、ステージ上に被測定物を載置するようにしてある。そして、ステージを移動して測定視野内(X線通過領域)に被測定物を移動し、X線測定を行う。最近はII、CCDカメラからなるX線検出器に代えて、フラットパネルX線検出器を使用したX線検査装置も利用されている。
X線検査では、多数の測定点を次々と測定することがある。このような場合に、産業用ロボットに予め検査対象物の複数の測定点をティーチングしておき、産業用ロボットにより検査対象物を移動して各測定点の透視像を得るようにした装置が開示されている(特許文献1参照)。ティーチングとは、予め、搬送ロボットなどの装置の駆動機構を操作して測定部位を実際に測定視野内に移動し、そのときの位置情報(あるいは位置情報とともに他のX線条件や画像処理条件)を記憶させることをいう。
また、X線検査では同一品種の大量生産品を、次々と測定視野内に移動して測定を行うことも多い。このような場合に、同一品種の複数の製品をステージ上に搭載するためのパレットと呼ばれる専用の搭載治具が用いられる。パレットには、製品をパレット上で縦横に一定間隔で規則正しく配列し、かつ、製品の搭載位置が変動しないようにするための位置決め手段が設けられている。例えば図6に示すように、製品(被測定物S)の外形形状に合わせた凹部を一定間隔ごとに形成しておき、各々の凹部に製品を入れるようにして位置決めを行うようにしてある。
パレットに搭載した複数の製品のX線検査を行う場合は、まず、初回測定対象となる製品についての検査部位の位置座標をティーチングにより装置に記憶し、続いて、次回測定対象となる製品の位置座標について同様に検査部位をティーチングにより記憶し、以下同様にして、すべてのパレット搭載製品の検査部位について、ひとつひとつティーチングにより記憶する操作を行う。ティーチングにより取得した位置情報は、シーケンス情報として記憶され、X線測定が開始されると、このシーケンス情報に基づいてX線測定視野内に各検査部位を順次移動させて次々と測定を行う。
(特許文献1参照)。
特開2001−153818号公報
パレットに搭載された多数の製品を、ティーチングを利用して次々と測定する場合、すべての製品に対し、ひとつひとつの製品の位置座標をティーチングにより記憶させておく必要があり、非常に手間がかかった。
また、パレット上には、同一形状の製品が規則正しく並んでおり、また、一般にX線検査装置の測定視野は狭く、表示装置の表示画面には、パレットの全体像ではなく局所的な透視X線画像が表示されるため、ティーチングの際に、その時点で表示画面に表示されている製品を誤って別の位置の製品であると認識し、その結果、測定されない製品が生じたり二重に測定される製品が生じたりするおそれがある。
そこで、本発明は、同一形状の被測定物群(製品)を規則的に配列する搭載治具(パレット)を用いて、これら被測定物を次々と測定する場合に、すべての被測定物の測定点についてティーチングを行う手間をなくし、さらにティーチング時に生じやすい位置混同のミスをなくすようにしたX線検査装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するためになされた本発明のX線検査装置は、同一形状の被測定物群を一定間隔ごとに規則的に配列する搭載治具を用いてステージ上に複数の被測定物群を載置し、ステージを挟んで対向配置されたX線源とX線検出器とからなるX線測定光学系の測定視野内に各被測定物が順次移動するようにステージ駆動機構を制御しつつステージ上の各被測定物の透視X線像を撮影するX線検査装置において、初回測定点位置、測定点間距離、測定繰り返し回数を含む測定位置情報の入力を促す測定位置情報入力制御部と、入力された測定位置情報に基づいて各測定点位置を算出する測定点位置算出部と、算出された各測定点位置を順次X線測定光学系の測定視野内に移動するステージ駆動機構制御部とを備えるようにしている。
本発明によれば、測定位置情報入力制御部は初回測定点位置、測定点間距離、測定繰り返し回数を含む測定位置情報の入力を促す。具体的には、測定位置情報の入力画面を表示して、操作者に初回測定点位置、測定点間距離、測定繰り返し回数の入力を促す。これら3つの入力パラメータうち、初回測定点位置の入力は、入力画面上に初回測定対象の被測定物が映る画像を表示し、入力画面上で位置を指定するようにするのが望ましいが、位置指定ができるのであれば他の方法でもよい。例えば、初回測定点の位置座標が予めわかっているのであれば、直接座標データを入力するようにしてもよい。また、測定点間距離、測定繰り返し回数の入力パラメータは、入力画面上から直接数値で入力するのが望ましいが、これに限られない。例えば、測定点間距離は、入力画面上に隣り合う2つの被測定物が映る画像を表示し、2つの被測定物それぞれの測定点を指定する操作により、2つの測定点の座標差から測定点間距離を導きだすようにしてもよい。
入力される測定点間距離は、搭載治具上の被測定物間の間隔に一致し、測定繰り返し回数は被測定物の配列数に一致する。なお、搭載治具上に被測定物が一次元配置される場合は、X方向の測定点間距離とX方向の測定繰り返し回数の入力を促し、被測定物が二次元配置される場合は、X方向とY方向との測定点間距離、測定繰り返し回数の入力を促す。操作者によるこれら入力パラメータの入力が完了すると、測定点位置算出部は、初回測定点位置を基準に、測定点間の移動距離、測定繰り返し回数に基づいて、次々と各測定点の位置座標を算出する。そして、ステージ駆動機構制御部は、算出された座標に対応する各測定位置を、順次、測定視野内に移動する。これにより、各測定点位置について測定が行えるようにする。
本発明によれば、実際に測定視野内に、測定位置がくるように移動させてティーチングを行う必要がなくなり、測定点数の大小に関わらず、簡単な入力操作で測定点を入力することができる。また、個々の測定点位置に移動してのティーチングを行わないため、ティーチング中の位置誤認によるティーチングミスを防ぐことができる。
(その他の課題を解決するための手段および効果)
上記発明において、測定位置情報としてステージの移動方向順に関する情報を含むようにしてもよい。具体的には、一次元配置される場合には、左端から右端に移動するか右端から左端移動するかを設定する。また、二次元配置される場合には、X方向に沿って左上端から右上端まで一方向に移動し、一行ずらして再び左端から右端に移動し、以下同様の移動を繰り返す横一方向移動(図7(a)参照)、X方向に沿って左上端から右上端まで一方向に移動し、一行ずらして右端から左端に逆方向に移動し、一行ずらして左端から右端に移動する横ジグザグ移動(図7(b)参照))、右下端から右上端まで一方向に移動し、一列戻って下端から上端まで一方向に移動する縦一方向移動(図7(c)参照)、その他様々な移動方向順を設定できるようにしてもよい。
これによれば、搭載治具上の被測定物の測定順を任意に設定できるので、測定順の自由度を高めることができ、例えば、X線検査装置による検査工程以外の別の工程で被測定物が搭載され、その搭載順にX線検査を行うことが望ましいときに搭載順に合わせて測定順を定めたりすることができる。
また、上記発明において、測定位置情報入力制御部は、初回測定点位置の入力を促す際に搭載治具上の被測定物群の全体像を表示装置の画面に表示するとともに、画面上に位置指定のマーカを表示するようにしてもよい。
これにより、入力画面に被測定物群の全体像を表示することによって、被測定物群の全体像を見ながら初回測定点位置を指定できるので、位置誤認することなく初回測定点位置を指定することができる。
また、上記発明において、算出された各測定点位置を表示装置の画面に一覧表示するとともに、画面上で各測定点位置の編集を行う測定点位置情報表示編集部を備えるようにしてもよい。
これにより、一旦設定した測定点位置を、画面上でいずれの測定点位置についても微調整をすることができるので、簡単かつ正確な測定点位置調整を行うことができる。
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。なお、本発明は、以下に説明するような実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の態様が含まれることはいうまでもない。
図1は、本発明の一実施形態であるX線検査装置の構成を示すブロック図である。このX線検査装置1は、X線発生装置11とX線検出器12とで構成されるX線測定光学系13と、被測定物Sを載置するステージ14と、複数の被測定物Sをステージ14に載置する際に規則正しく配置するためのパレット15と、ステージ14をXYZ方向(ステージ面をXY面とする)に並進駆動およびZ軸に沿って回転駆動するためのステージ駆動機構16と、装置全体の制御を行う制御系20とにより構成される。
制御系20は汎用のコンピュータ装置により構成されるが、そのハードウェアをさらにブロック化して説明すると、CPU21と、キーボード22と、マウス23と、液晶パネルなどの表示装置24と、メモリ25とにより構成される。
また、CPU21が処理する機能をブロック化して説明すると、X線画像作成部31、X線画像表示部32、測定位置情報入力制御部33、測定点位置算出部34、ステージ駆動機構制御部35、測定点位置情報表示編集部36とに分けられる。
また、メモリ25は、初回測定点位置記憶領域38a、測定点間距離記憶領域38b、測定繰返し回数記憶領域38c、移動方向順記憶領域38d、算出測定点位置座標記憶領域38eを有する測定位置情報記憶領域38が設けられている。
X線測定光学系13を構成するX線発生装置11は、透視X線照射用のX線管を備えている。X線検出器12は、X線管に対向するように配置されるIIと、このIIの後側に一体的に取り付けられたCCDカメラとからなり、IIが透視X線を検出することにより形成した蛍光像をCCDカメラで撮影することにより、透視X線像の映像信号が出力されるようにしてある。
ステージ14は、パレット15が固定できるようにしてあり、ステージ14を移動するとパレット15も一体に移動するようになっている。
パレット15は、従来例と同じものが用いられており(図6参照)、X方向に4列、Y方向に3行、計12個の被測定物Sの取り付け位置が形成してある。
ステージ駆動機構16は、モータが搭載され、CPU21からの制御信号に基づいてステージ14を並進駆動したり、回転駆動したりする。
次に、CPU21の各機能ブロックについて説明する。
X線画像作成部31は、X線検出器12から送られてきた透視X線像の映像信号を、次々とデジタル画像に変換し、コマ画像データを作成する制御を行う。
なお、後述する初回測定位置入力画面で、パレット15の全体像を表示することができるようにするために、パレット15の各部分のコマ画像データを蓄積し、これらを合成して全体像を作成する制御も行う。
X線画像表示部32は、作成されたコマ画像データを表示装置24に順次送って表示することにより、透視X線動画像を表示する。
測定位置情報入力制御部33は、パレット15の被測定物に対するX線測定を行う前に、操作者に初回測定点位置の入力を促す初回測定位置入力画面33aと、測定点間距離および測定繰返し回数、移動方向順の入力を促す測定点間距離・測定繰返し回数・移動方向順入力画面33bとを表示装置24に表示し、操作者によるキーボード22あるいはマウス23を用いたパラメータ入力を受け付ける制御を行う。
なお、移動方向順については、設定を変更しなければ、予め指定してある移動方向(例えば図7(a)の「横一方向移動」)にしておき、必要に応じて、測定点間距離・測定繰返し回数・移動方向順入力画面33bにおいて、移動方向順についても入力変更できるようにしてある。
入力された各パラメータ情報は、測定位置情報記憶部38の初回測定位置記憶領域38a、測定点間距離記憶領域38b、測定繰返し回数記憶領域38c、移動方向順記憶領域38dに蓄積される。
測定点位置算出部34は、入力された初回測定点位置、測定点間距離、測定繰返し回数に基づいて、初回測定点以外の各測定点の位置を算出する。算出された各測定点位置の座標は算出測定点位置座標記憶領域38eに蓄積される。
ステージ駆動機構制御部35は、ステージ14を移動し、算出された各測定点を初回測定点から順次、測定視野に移動させる制御を行う。
測定点位置情報表示編集部36は、測定点位置算出部34により算出された各測定点位置の座標を表示装置24の画面に一覧表示する。そして、キーボード22による入力操作により、各測定点位置の座標値を変更することで、測定点位置を微調整できるようにしてある。
次に本装置によるX線測定動作について説明する。図2はX線検査装置1による測定動作を示すフローチャートである。
まず、ステージ14上に被測定物S群を載置したパレット15を設置し固定する(S101)。ステージ14の透視X線像を撮影し、パレット15全体の透視X線画像を作成する(S102)。パレット全体の透視X線画像は、パレット15の局所的な透視X線画像を合成して作成するか、あるいは、撮影倍率を変えることによってパレット15の全体像を撮影することが可能な場合には、一時的にパレット15全体が撮影できる位置にステージ14を移動して全体像を撮影するようにする。このようにして作成されたパレット全体の透視X線画像とステージ14とは、位置関係が対応付けられており、透視X線画像上で特定の位置を指定すると対応するパレット位置が指定できるようにしてある。
続いて、測定位置情報の入力画面を表示する。ここでは、図3(a)に示すように、パレット15に載置された被測定物は、X方向に一定間隔aごと隔てて4列、Y方向に一定間隔bごと隔てて3行配置され、これらを左上端(図中1の位置)から右上端(図中4の位置)まで移動し、1行ずらして右端(図中5の位置)から左端(図中8の位置)に戻るようにしてジグザグに移動する順(「横方向ジグザグ移動」という)で測定を行うものとする。
初回測定点位置を設定するために、図3(b)に示すように、初回測定点位置の入力画面33aが表示装置24の画面に表示され(S103)、入力待ち状態となる(S104)。初回測定点位置の入力画面33aには、パレット15の透視X線画像の全体像40と、マーカ41とが表示され、マウス23によりマーカ41を移動して初回測定点の位置を指定する。マーカの位置が指定されると、その指定位置の座標が読み出され、初回測定点位置の座標として初回測定点位置記憶領域38aに記憶される。
続いて、測定点間距離および測定繰返し回数および移動方向順を設定するために、図3(c)に示すように、測定点間距離・測定繰返し回数・移動方向順の入力画面33bが表示装置24の画面に表示され(S105)、入力待ち状態になる(S106)。キーボード22によりX方向測定点間距離a、X方向測定繰返し回数4、Y方向測定点間距離b、Y方向測定繰返し回数3とともに、移動方向として「横方向ジグザグ移動」を設定する。なお、このとき入力できる移動方向順をわかりやすくするために、例えば図4に示すように、それぞれの移動方向順を簡易表示する画面42(横方向ジグザグ移動)、画面43(縦方向一方向移動)などをメモリに蓄積しておき、表示装置24の画面に表示して、操作者が画面を見ながら選択できるようにしてもよい。
入力画面33a、33bによる入力操作が終わると、各測定点位置が算出され、表示装置24に、図5に示すような測定点位置情報表示画面が表示される(S107)。この画面上でキーボード22による入力操作により、測定点位置の座標を変更する編集を行うことにより、測定点位置を微調整することもできる。
以上の操作によって、入力作業を完了すると、測定が開始され(S108)、初回測定点位置についてX線測定がおこなわれる。以後、順次、設定された測定点に設定された順で移動し、すべての測定点の測定が終わるまで、測定が繰り返される(S109)。
このように、ステージを移動してティーチングを行うことなく、入力画面で初回測定点位置、測定点間距離、繰返し測定回数、必要に応じて移動方向順を入力するだけで、全測定点の位置を設定することができるので、手間がかからず、また、位置誤認による人的ミスを防ぐことができる。
上記実施形態では、透視X線画像によるパレット15の全体像を用いて初回測定位置入力画面を作成したが、可視光による光学カメラをX線検出器12の隣に取り付け、パレット15の全体像を撮影し、可視光画像による初回測定入力画面を表示するようにしてもよい。
また、上記実施形態では、1つの被測定物について1箇所の測定点位置を設定したが、被測定物が大きい場合等は、1つの被測定物ごとに複数の測定点位置を設定するようにしてもよい。この場合は、初回測定位置の入力画面33aにおいて、複数の測定点を設定することができるようにしておけばよい。
また、上記実施形態では、初回測定点位置の入力画面33aにおいてマーカ41で測定範囲を指定しているが、その測定範囲のX方向の大きさc、Y方向の大きさdを抽出して、測定点間距離の初期設定値として予め入力するようにしてもよい。この場合は、初期設定値で測定を開始すれば、図8に示すようにパレット上を隙間なくX線測定するようにステージが移動することとなる。
本発明は、同一品種の被測定物のX線検査を次々と行うようにしたX線検査装置に利用することができる。
本発明の一実施形態であるX線検査装置の構成を示すブロック図。 図1のX線検査装置による測定操作を説明するフローチャート。 測定位置情報の入力画面を説明する図。 移動方向順の簡易表示を行う画面を説明する図。 各測定点位置を一覧表示するとともに、測定点位置を編集するための表示画面を説明する図。 パレットの構成を示す図。 いくつかの移動方向順の例を示す図。 パレット上を隙間なくX線測定するときのステージ移動状態を説明する図。
符号の説明
1: X線検査装置
11: X線発生装置(X線源)
12: X線検出器
13: X線測定光学系
14: ステージ
15: パレット
16: ステージ駆動機構
20: 制御系
21: CPU
22: キーボード
23: マウス
24: 表示装置
24: 画像メモリ
31: X線画像作成部
32: X線画像表示部
33: 測定位置情報入力部
34: 測定点位置算出部
35: ステージ駆動機構制御部
36: 測定点位置情報表示編集部
38: 測定点位置情報記憶領域

Claims (4)

  1. 同一形状の被測定物群を一定間隔ごとに規則的に配列する搭載治具を用いてステージ上に複数の被測定物群を載置し、ステージを挟んで対向配置されたX線源とX線検出器とからなるX線測定光学系の測定視野内に各被測定物が順次移動するようにステージ駆動機構を制御しつつステージ上の各被測定物の透視X線像を撮影するX線検査装置において、
    初回測定点位置、測定点間距離、測定繰り返し回数を含む測定位置情報の入力を促す測定位置情報入力制御部と、
    入力された測定位置情報に基づいて各測定点位置を算出する測定点位置算出部と、
    算出された各測定点位置を順次X線測定光学系の測定視野内に移動するステージ駆動機構制御部とを備えたことを特徴とするX線検査装置。
  2. 測定位置情報としてステージの移動方向順に関する情報を含むことを特徴とする請求項1に記載のX線検査装置。
  3. 測定位置情報入力制御部は、初回測定点位置の入力を促す際に搭載治具上の被測定物群の全体像を表示装置の画面に表示するとともに、画面上に位置指定のマーカを表示することを特徴とする請求項1に記載のX線検査装置。
  4. 算出された各測定点位置を表示装置の画面に一覧表示するとともに、画面上で各測定点位置の編集を行う測定点位置情報表示編集部を備えたことを特徴とする請求項1に記載のX線検査装置。
JP2005281990A 2005-09-28 2005-09-28 X線検査装置 Expired - Fee Related JP4742782B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005281990A JP4742782B2 (ja) 2005-09-28 2005-09-28 X線検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005281990A JP4742782B2 (ja) 2005-09-28 2005-09-28 X線検査装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2007093343A JP2007093343A (ja) 2007-04-12
JP2007093343A5 JP2007093343A5 (ja) 2008-01-10
JP4742782B2 true JP4742782B2 (ja) 2011-08-10

Family

ID=37979245

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005281990A Expired - Fee Related JP4742782B2 (ja) 2005-09-28 2005-09-28 X線検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4742782B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5853781B2 (ja) * 2012-03-15 2016-02-09 オムロン株式会社 X線検査装置、x線検査のための撮像方法

Citations (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6275302A (ja) * 1985-09-30 1987-04-07 Hitachi Electronics Eng Co Ltd ウエハ測定装置
JPS6314441A (ja) * 1986-07-07 1988-01-21 Hitachi Ltd 半導体表面観測用走査型電子顕微鏡装置
JPH0252246A (ja) * 1988-08-15 1990-02-21 Tokyo Electron Ltd X線検査装置
JPH0252245A (ja) * 1988-08-15 1990-02-21 Tokyo Electron Ltd X線検査装置
JPH0674918A (ja) * 1992-08-25 1994-03-18 Kobe Steel Ltd 電子走査型x線源による物品の構造検査装置
JPH08339776A (ja) * 1995-06-09 1996-12-24 Shimadzu Corp 電子線マイクロアナライザ
JPH09304241A (ja) * 1996-05-09 1997-11-28 Shimadzu Corp オ−トサンプラ
JPH11271225A (ja) * 1998-03-23 1999-10-05 Hitachi Ltd 蛍光測定装置
JP2001153818A (ja) * 1999-11-29 2001-06-08 Toshiba Fa Syst Eng Corp コンピュータ断層撮影装置及びコンピュータ断層撮影方法
JP2001208703A (ja) * 2000-01-31 2001-08-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd X線検査装置
JP2001255286A (ja) * 2000-03-13 2001-09-21 Hitachi Kenki Fine Tech Co Ltd X線検査装置およびx線検査方法
JP2002026085A (ja) * 2000-07-11 2002-01-25 Mitsubishi Electric Corp 半導体デバイスの組み立て工程検査装置及び検査方法
JP2002198097A (ja) * 2000-12-25 2002-07-12 Sony Corp 電池の検査方法
JP2002228761A (ja) * 2001-02-02 2002-08-14 Anritsu Corp X線異物検出装置及び該装置における不良品検出方法
JP2004163279A (ja) * 2002-11-13 2004-06-10 Toshiba It & Control Systems Corp X線透視検査装置及びx線透視検査装置の較正方法
JP2005127962A (ja) * 2003-10-27 2005-05-19 Anritsu Sanki System Co Ltd X線検査装置
JP2005140560A (ja) * 2003-11-05 2005-06-02 Aloka System Engineering Co Ltd X線ct装置及びそのための容器
JP2005158780A (ja) * 2003-11-20 2005-06-16 Hitachi Ltd パターン欠陥検査方法及びその装置
JP2005249745A (ja) * 2004-03-08 2005-09-15 Ebara Corp 試料表面検査方法および検査装置

Patent Citations (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6275302A (ja) * 1985-09-30 1987-04-07 Hitachi Electronics Eng Co Ltd ウエハ測定装置
JPS6314441A (ja) * 1986-07-07 1988-01-21 Hitachi Ltd 半導体表面観測用走査型電子顕微鏡装置
JPH0252246A (ja) * 1988-08-15 1990-02-21 Tokyo Electron Ltd X線検査装置
JPH0252245A (ja) * 1988-08-15 1990-02-21 Tokyo Electron Ltd X線検査装置
JPH0674918A (ja) * 1992-08-25 1994-03-18 Kobe Steel Ltd 電子走査型x線源による物品の構造検査装置
JPH08339776A (ja) * 1995-06-09 1996-12-24 Shimadzu Corp 電子線マイクロアナライザ
JPH09304241A (ja) * 1996-05-09 1997-11-28 Shimadzu Corp オ−トサンプラ
JPH11271225A (ja) * 1998-03-23 1999-10-05 Hitachi Ltd 蛍光測定装置
JP2001153818A (ja) * 1999-11-29 2001-06-08 Toshiba Fa Syst Eng Corp コンピュータ断層撮影装置及びコンピュータ断層撮影方法
JP2001208703A (ja) * 2000-01-31 2001-08-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd X線検査装置
JP2001255286A (ja) * 2000-03-13 2001-09-21 Hitachi Kenki Fine Tech Co Ltd X線検査装置およびx線検査方法
JP2002026085A (ja) * 2000-07-11 2002-01-25 Mitsubishi Electric Corp 半導体デバイスの組み立て工程検査装置及び検査方法
JP2002198097A (ja) * 2000-12-25 2002-07-12 Sony Corp 電池の検査方法
JP2002228761A (ja) * 2001-02-02 2002-08-14 Anritsu Corp X線異物検出装置及び該装置における不良品検出方法
JP2004163279A (ja) * 2002-11-13 2004-06-10 Toshiba It & Control Systems Corp X線透視検査装置及びx線透視検査装置の較正方法
JP2005127962A (ja) * 2003-10-27 2005-05-19 Anritsu Sanki System Co Ltd X線検査装置
JP2005140560A (ja) * 2003-11-05 2005-06-02 Aloka System Engineering Co Ltd X線ct装置及びそのための容器
JP2005158780A (ja) * 2003-11-20 2005-06-16 Hitachi Ltd パターン欠陥検査方法及びその装置
JP2005249745A (ja) * 2004-03-08 2005-09-15 Ebara Corp 試料表面検査方法および検査装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007093343A (ja) 2007-04-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6683206B2 (ja) 斜めct装置
EP1353212B1 (en) Microscope apparatus
JP6141084B2 (ja) 撮像装置
JP4561990B2 (ja) X線撮影装置
JP5596987B2 (ja) X線透視撮影装置
JP5668227B2 (ja) 画像測定装置
JP4742782B2 (ja) X線検査装置
JP2008032754A (ja) X線透視検査装置
JP5985970B2 (ja) 放射線断層撮影装置およびプログラム
JP4636258B2 (ja) X線撮影装置
JP2001013089A (ja) X線断層撮像装置
JPH05333271A (ja) 3次元物体の認識方法および装置
JP5950100B2 (ja) X線検査装置
JP2010042089A (ja) X線撮影装置およびその信号処理方法
JP2009291472A (ja) 放射線画像撮影装置及びその調整方法
JP4765340B2 (ja) 顕微鏡システム
JP2004012192A (ja) 測定顕微鏡装置、その表示方法、及びその表示プログラム
JP2007101391A (ja) X線検査装置
US20100303208A1 (en) Method for recording an x-ray image, x-ray detector and x-ray system
JP4479503B2 (ja) 断層撮影装置
JP2003156454A (ja) X線検査装置とその制御方法と調整方法
JP4609643B2 (ja) X線ct装置
JP2010139454A (ja) X線ct装置
JP2007033039A (ja) 光切断法による3次元形状計測装置における光学ヘッド部のキャリブレーション方法及び装置
JP4596881B2 (ja) 透過型電子顕微鏡装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071106

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071106

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20090910

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100813

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100817

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100916

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101214

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110412

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110425

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140520

Year of fee payment: 3

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4742782

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140520

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees