JP4722530B2 - 発光素子 - Google Patents
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- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 41
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 claims description 21
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 claims description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 8
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 150
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 35
- 239000010408 film Substances 0.000 description 25
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 19
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 17
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 16
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 15
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 12
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 10
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052950 sphalerite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- OBETXYAYXDNJHR-SSDOTTSWSA-M (2r)-2-ethylhexanoate Chemical compound CCCC[C@@H](CC)C([O-])=O OBETXYAYXDNJHR-SSDOTTSWSA-M 0.000 description 1
- 229910015999 BaAl Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100476480 Mus musculus S100a8 gene Proteins 0.000 description 1
- 241001249696 Senna alexandrina Species 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 241001422033 Thestylus Species 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- WXGPJONKWMWLME-UHFFFAOYSA-N [Ti].[La].[Bi] Chemical compound [Ti].[La].[Bi] WXGPJONKWMWLME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052454 barium strontium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910002115 bismuth titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000002050 diffraction method Methods 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N nobelium Chemical compound [No] ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000000682 scanning probe acoustic microscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- ZHXAZZQXWJJBHA-UHFFFAOYSA-N triphenylbismuthane Chemical compound C1=CC=CC=C1[Bi](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZHXAZZQXWJJBHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Description
Vp=εi・dp/(εidp+εpdi)・Va (1)
Vi=εp・di/(εpdi+εidp)・Va
但し、εiは誘電体層の比誘電率、εpは発光体層の比誘電率、diは誘電体層の層厚、dpは発光体層の層厚である。
基板の上に、ストライプ状の第1電極と、誘電体層と、発光体層と、前記第1電極と直交するストライプ状の第2電極とが順次積層された発光素子と、
前記第1及び第2電極の間に駆動電圧を印加して前記発光体層を発光させる駆動回路と
を有する単純マトリクス方式の表示装置であって、
前記誘電体層は、ペロブスカイト構造の結晶体からなる誘電体で構成され、且つ、前記結晶体のX線回折法で求めたa軸の格子定数よりc軸の格子定数が大きいことを特徴とする。これによって、高輝度化と低価格化とを同時に解決した。
図1は、本発明の実施の形態1に係るEL素子の断面を模式的に示す断面図である。このEL素子16は、基板11の上に、第1電極であるストライプ状の背面電極12と、誘電体を薄膜形成法で成膜した誘電体層13と、無機発光体からなる発光体層14と、第2電極であるストライプ状の透明な前面電極15とが順に積層されている。背面電極12と前面電極15は、それぞれのストライプの延びる方向が互いに直交するように配置されている。そして、背面電極12と前面電極15との間に電圧を印加すると、背面電極12と前面電極15の交差部の発光体層12から発光した光17が前面電極15を透過して放射される。
基板11としては、セラミック基板、耐熱処理を施した高耐熱性プラスチック基板、ガラス基板など、通常のEL素子に用いられている基板であればいずれでも適用できる。特に、無アルカリガラスなどのガラス基板は、機械的強度が強くしかも材料コストが安価になる点で好ましい。
イ)誘電体層13の密度が高くなるため絶縁耐圧特性および誘電特性が良好になる。
ロ)600℃以下の低温で成膜できるため耐熱温度の低い安価なガラス基板の使用が可能になる。
ハ)誘電体層13の表面粗さが小さく平坦性に優れた層が形成できるため誘電体層13の表面平坦化工程が不要になる。
成膜の初期に高周波バイアスを基板11に印加して、誘電体の結晶体の種晶(seed crystal)すなわち結晶核を基板11上に核付けした後、高周波バイアスを切って所望の層厚に成膜する。このように核付けしてから成膜すると、誘電体の結晶が成長しやすくなるため密度の高いしかも表面粗さが0.3μm以下の良好な誘電体層13が得られる。なお、初期段階だけではなく成膜の途中で核付けを繰り返して複数の核付け層を形成すると、より密度の均一な層が得られる。特に層厚を厚くする場合に適用すると極めて効果的である。
図10は、本発明による他のEL素子102の断面を模式的に示した断面構成図である。背面電極12と誘電体層13との間にバッファ層101を設けた以外は、図1で説明した構成と同じである。尚、図1で説明した構成要素と同じものには同一の符号を付与した。
図11は、本発明の実施の形態3に係るEL素子112の断面を模式的に示した断面図である。このEL素子は、実施の形態1及び2のEL素子と比べると、Pt、Pd、Au、Ir、Rh、Niのいずれかを含む導電体からなる背面電極12とガラス基板11との間に下地層111を設けた点で相違する以外は、図1あるいは図10で説明した構成と同じである。
図12は、本発明の実施の形態4に係るEL素子を用いた表示装置の要部を模式的に示した斜視図である。この表示装置121は、単純マトリクス駆動方式によるものであって、実施の形態1〜3で説明したEL素子122が2次元マトリクス状に配置されており、データ信号駆動回路123と、操作信号駆動回路124とを備える。ストライプ状の背面電極12は、操作信号駆動回路124に接続され、背面電極12と直交するストライプ状の前面電極15は、データ駆動回路123に接続されている。背面電極12と前面電極15とが交差する部分に、データ信号駆動回路123から出力されたデータ信号電圧と、操作信号駆動回路124から出力された操作信号電圧とを印加して、EL素子122を発光させる。
以上のような構成にすることによって、テレビなどのディスプレイに適用可能な高輝度化と、装置の低価格化とを同時に実現できる。
本発明の実施例1に係るEL素子について説明する。このEL素子は、図1に示す構成を有する。このEL素子16は、以下に述べる製造方法によって作成した。
(a)基板11としては、市販されている1インチ角、厚さ0.635mmの無アルカリガラス基板(以下、ガラス基板と言う)を用いた。
(b)次に、ガラス基板11の上にTa層とPt層とをこの順にスパッタ法により積層して背面電極12を形成した。下地層としてのTa層の層厚は30nmであり、Pt層の層厚は200nmであった。
(c)次いで、スパッタターゲットとして誘電体の(Ba,Sr)TiO3を用い、ガラス基板11に高周波バイアスを印加しながら100秒間スパッタして核付けした後(forming seed crystal)、高周波バイアスを停止して、さらに60分間スパッタして誘電体層を成膜した。
(d)そして、再びガラス基板11に高周波バイアスを印加しながら100秒間スパッタして誘電体層の表面を非晶質化した。これによって、背面電極12上に層厚3μmの誘電体層13を形成した。
(e)次に、スパッタターゲットとして発光体のSrS:Ce(Ce添加量は約1.5モル%)を用い、高周波マグネトロンスパッタ法により誘電体層13の上にスパッタして、約500nm厚の発光体層14を形成した。このときの、スパッタガスはアルゴンガスであり、スパッタ圧力は0.53Pa(4mTorr)であり、ガラス基板温度は300℃であった。
(f)次いで、発光体層14の上にITO膜をスパッタリング法によってスパッタしてITO膜からなる前面電極15を形成してEL素子16を作成した。
以上のようにして作製したEL素子16に、200V、1kHzのパルス幅50μ秒の交流電圧を印加して発光輝度を測定したところ、500cd/m2の発光輝度が得られた。また、300Vの電圧を印加しても絶縁破壊は起こらなかった。
以下に述べる製造方法によって図10に示した構成のEL発光素子を作成した。バッファ層101以外の構成要素は実施例1と同じ方法で作成した。
バッファ層101は、スパッタ法により化学式Mg0.98Si0.02O1.02の組成物を背面電極12の上にスパッタして形成した。その結果、以上のようにして作製したEL素子16に、200V、1kHzのパルス幅50μ秒の交流電圧を印加して発光輝度を測定したところ、発光輝度は524cd/m2であった。
Claims (1)
- 発光体層と誘電体層とが積層されてなる発光層と、前記発光層に電場を印加する一対の電極とを備え、
前記発光層は、前記誘電体層の形成の間にそれぞれ積層された複数の核付け層を含み、
前記誘電体層は、ペロブスカイト構造の結晶体からなる誘電体で構成され、且つ、前記結晶体は、a軸の格子定数よりc軸の格子定数が大きいことを特徴とする発光素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005109909A JP4722530B2 (ja) | 2004-05-11 | 2005-04-06 | 発光素子 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004140774 | 2004-05-11 | ||
JP2004140774 | 2004-05-11 | ||
JP2005109909A JP4722530B2 (ja) | 2004-05-11 | 2005-04-06 | 発光素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005353578A JP2005353578A (ja) | 2005-12-22 |
JP4722530B2 true JP4722530B2 (ja) | 2011-07-13 |
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ID=35587835
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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---|---|
JP (1) | JP4722530B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005353578A (ja) | 2005-12-22 |
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