JP4716005B2 - 構造物製造方法及び構造物製造装置 - Google Patents
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本発明の第10の態様に係る構造物製造装置は、上記第3から第8の態様において、前記制御手段は、前記測定結果に基づいて、前記構造物製造手段を制御して前記構造物の黒色化の度合を制御することにより、前記構造物の硬度を傾斜的に変化させることを特徴とする。
Claims (9)
- 基板に向けて原料の粉体を噴射する構造物製造手段により、エアロゾルビームを用いてメカノケミカル反応を発生させながら成膜を行って前記基板上に構造物を製造するステップと、
前記噴射された原料の粉体が前記基板の表面に堆積してなる構造物の表面の反射率を測定するステップと、
前記構造物の表面の反射率の測定結果に基づいて、前記構造物の黒色化の度合を制御することにより、前記構造物の硬度が傾斜的に変化するように、前記構造物製造手段を制御するステップと、
を備えることを特徴とする構造物製造方法。 - 基板に向けて原料の粉体を噴射する構造物製造手段により、エアロゾルビームを用いてメカノケミカル反応を発生させながら成膜を行って前記基板上に構造物を製造するステップと、
前記噴射された原料の粉体が前記基板の表面に堆積してなる構造物の表面の画像を撮像するステップと、
前記撮像された構造物の表面の画像を解析して、前記構造物の表面の透明度を測定するステップと、
前記構造物の表面の透明度の測定結果に基づいて、前記構造物の黒色化の度合を制御することにより、前記構造物の硬度が傾斜的に変化するように、前記構造物製造手段を制御するステップと、
を備えることを特徴とする構造物製造方法。 - 基板を保持する保持手段と、前記保持された基板に向けて原料の粉体を噴射する噴射手段とを備える構造物製造手段と、
前記噴射された原料の粉体が前記基板の表面に堆積してなる構造物の表面の反射率を測定するモニタ手段と、
前記モニタ手段による前記構造物の表面の反射率の測定結果に基づいて、エアロゾルビームを用いた成膜においてメカノケミカル反応を発生させながら成膜させたときに起こる前記構造物の黒色化の度合を制御することにより、前記構造物の硬度が傾斜的に変化するように、前記構造物製造手段を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする構造物製造装置。 - 基板を保持する保持手段と、前記保持された基板に向けて原料の粉体を噴射する噴射手段とを備える構造物製造手段と、
前記噴射された原料の粉体が前記基板の表面に堆積してなる構造物の物理特性をモニタするモニタ手段であって、前記構造物の表面の画像を撮像する撮像手段と、前記撮像された構造物の表面の画像を解析して、前記構造物の表面の透明度を測定する画像解析手段とを備えるモニタ手段と、
前記モニタ手段による前記構造物の表面の透明度の測定結果に基づいて、エアロゾルビームを用いた成膜においてメカノケミカル反応を発生させながら成膜させたときに起こる前記構造物の黒色化の度合を制御することにより、前記構造物の硬度が傾斜的に変化するように、前記構造物製造手段を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする構造物製造装置。 - 前記構造物製造手段は、前記保持された基板又は前記噴射手段の少なくとも一方を駆動して相対位置を変化させる駆動手段を更に備え、
前記制御手段は、前記測定結果に基づいて、前記相対位置を変化させる速度を制御することを特徴とする請求項3又は4記載の構造物製造装置。 - 前記噴射手段は、
前記構造物の原料の粉体を収める容器と、
前記容器内にキャリアガスを導入して、前記原料の粉体を噴き上げるガス導入手段と、
前記噴き上げられた原料の粉体を前記基板に向けて噴射するノズルと、
を備えることを特徴とする請求項3から5のいずれか1項記載の構造物製造装置。 - 前記制御手段は、前記測定結果に基づいて、前記ガス導入手段によって前記容器内に導入されるキャリアガスの流量又は流速のうち少なくとも一方を制御することを特徴とする請求項6記載の構造物製造装置。
- 前記構造物製造手段は、前記容器を駆動して、所定の運動又は振動のうち少なくとも一方を加える容器駆動手段を更に備え、
前記制御手段は、前記測定結果に基づいて、前記容器に加えられる所定の運動及び振動のうち少なくとも一方を制御することを特徴とする請求項6又は7記載の構造物製造装置。 - 前記制御手段は、前記構造物の表面の反射率が35%以下となるように前記構造物製造手段を制御することを特徴とする請求項3から8のいずれか1項記載の構造物製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005188383A JP4716005B2 (ja) | 2005-06-28 | 2005-06-28 | 構造物製造方法及び構造物製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2007009242A JP2007009242A (ja) | 2007-01-18 |
JP4716005B2 true JP4716005B2 (ja) | 2011-07-06 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP (1) | JP4716005B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015120573A1 (zh) * | 2014-02-11 | 2015-08-20 | 刘凯 | 泵式蒸压系统及其蒸汽和压力的提供方法 |
JP6432311B2 (ja) * | 2014-11-28 | 2018-12-05 | コニカミノルタ株式会社 | 圧電薄膜付き基板の製造方法、圧電アクチュエータの製造方法、インクジェットヘッドの製造方法、圧電薄膜付き基板、圧電アクチュエータ、インクジェットヘッドおよびインクジェットプリンタ |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004107690A (ja) * | 2002-09-13 | 2004-04-08 | Konica Minolta Holdings Inc | 光学薄膜の形成方法、反射防止フィルムの製造方法及び反射防止フィルム |
JP2004277802A (ja) * | 2003-03-14 | 2004-10-07 | Toto Ltd | 構造物作製装置 |
JP2005017211A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Showa Shinku:Kk | 多色式光学膜厚計測装置及び方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS619575A (ja) * | 1984-06-25 | 1986-01-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜形成方法および装置 |
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2005
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004107690A (ja) * | 2002-09-13 | 2004-04-08 | Konica Minolta Holdings Inc | 光学薄膜の形成方法、反射防止フィルムの製造方法及び反射防止フィルム |
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JP2005017211A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Showa Shinku:Kk | 多色式光学膜厚計測装置及び方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007009242A (ja) | 2007-01-18 |
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A711 | Notification of change in applicant |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101115 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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