JP4681773B2 - エチレン低重合体の製造方法 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明はエチレン低重合体の製造方法に関し、詳しくは、高分子重合体、可塑剤、界面活性剤などの原料として有用なエチレン低重合体をチーグラー系触媒を用いて製造する際、未反応エチレンを回収しつつ、製品品質を低下させることのない上記製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
エチレン低重合体は、オレフィン系重合体のモノマー原料として、また各種高分子重合体のコモノマーとして、さらには可塑剤や界面活性剤などの原料として広く用いられている有用な物質である。このエチレン低重合体は、通常、エチレンを原料としてチーグラー系触媒を用いて重合し製造されている。この製造プロセスは、一般に、重合反応系、未反応エチレン回収系、触媒の失活および脱灰系、溶媒およびエチレン低重合体の蒸留系からなっている。
上記製造プロセスにおいては、重合反応系により得られた重合反応液には、未反応エチレンが含有されているため、通常、上記未反応エチレン回収系においてエチレンを回収し、できるだけ原料原単位をよくする方法が行なわれている。このような方法としては、例えば、特開平3−220135号公報等に記載されるように、フラッシャー等の未反応エチレン回収系により重合反応液から未反応エチレンを回収し、その後、触媒を失活させる工程に送る方法が知られている。
しかしながら、このような方法では、未反応エチレン回収系から失活工程に至るまでの間、上記重合反応液に含まれている触媒は、未だ失活されておらず、反応液内で反応が進行する。その際、減圧により反応液内のエチレン溶解濃度が低下するため、不純物の生成が増大し、その結果、得られる製品の品質が低下するという問題があった。
一方、上記未反応エチレン回収系を省略し、重合反応液を直接失活工程に導入させた場合には、失活系内の圧力が高くなることから設備費の増大が懸念され、また、未反応エチレンの回収ができないことから原料原単位の悪化につながる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
以上のように、エチレン低重合体の製造においては、重合反応後に未反応エチレンを回収でき、かつ不純物の生成等製品品質を低下させることのない方法が望まれていた。
すなわち、本発明は、重合反応後において、未反応エチレンを回収し、かつ得られる製品の品質を低下させることのないエチレン低重合体の製造方法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、脱ガス工程を設けて未反応エチレンを回収し、更に、重合反応液が上記反応器から排出された後失活工程に供給される迄の反応器ー失活工程間の滞留時間をできるだけ短くすることにより本発明の上記目的を達成できることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、反応器中でチーグラー系触媒の存在下、エチレンの重合反応を行い、得られたエチレン低重合体を含有する重合反応液を脱ガス工程に供給して未反応エチレンを回収した後、触媒失活工程及び蒸留工程に供給し、エチレン低重合体を留出液として回収するエチレン低重合体の製造方法において、上記重合反応液が反応器から排出された後触媒失活工程に供給される迄の時間を6分以下とすることを特徴とするエチレン低重合体の製造方法を提供するものである。
【0005】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を更に詳細に説明する。
本発明においては、エチレン低重合体はチーグラー系触媒の存在下、エチレンを重合させることによって得られる。このチーグラー系触媒は、(A)遷移金属成分、(B)有機金属成分および所望に応じて用いられる(C)第三成分の組み合わせから成っており、(A)遷移金属成分としては、一般式
ZXa A4-a ・・・(I)
(式中のZはジルコニウムまたはチタン原子、X及びAは塩素、臭素またはヨウ素原子であり、それらは同一であってもよいし、たがいに異なっていてもよく、aは0〜4の整数である。)
で表される化合物が用いられる。このような化合物の具体例としてはZrCl4 、ZrBr4 、ZrI4 、ZrBrCl3 、ZrBr2 Cl2 、TiCl4 、TiBr4 、TiI4 、TiBrCl3 、TiBr2 Cl2 などを挙げることができ、これらは単独で使用しても、2種以上組み合わせて使用してもよい。これらの中でも、ジルコニウム化合物を用いたジルコニウム系触媒を用いることが好ましく、ジルコニウム化合物としてはZrCl4 が好ましい。
【0006】
(B)有機金属成分としては、一般式
AlRb Q3-b ・・・(II)
(式中のRは炭素数1〜20のアルキル基、Qは塩素、臭素またはヨウ素原子、bは0〜3の整数である)
で表される化合物、及び/又は一般式
AlR′1.5 Q′1.5 ・・・(III )
(式中のR′は炭素数1〜20のアルキル基、Q′は塩素、臭素またはヨウ素原子である)
で表される化合物を挙げることができる。
【0007】
前記一般式(II)で表される化合物としては、例えば、 Al(CH3)3 、Al(C2H5)3 、Al(C3H7)3 、Al(iso-C3H7)3 、Al(C4H9)3 、Al(iso-C4H9)3 、Al(C5H11)3、Al(C6H13)3、Al(C8H17)5、Al(C2H5)3Cl 、Al(C2H5)2Br 、Al(C2H5)2I、Al(C2H5)Cl2 、Al(C2H5)Br2 、Al(C2H5)I2などが挙げられ、前記一般式(III)で表される化合物としては、例えば、Al2(CH3)3Cl3、Al2(CH3)3Br3、Al2(C2H5)3Cl3 、Al2(C2H5)3Br3 、Al2(C2H5)3I3、Al2(C2H5)2BrCl2 、Al2(C3H7)3Cl3 、Al2(iso-C3H7)3Cl3 、Al2(C4H9)3Cl3 、Al2(iso-C4H9)3Cl3 、Al2(C5H11)3Cl3、Al2(C8H17)3Cl3、Al2(C2H5)2(CH3)Cl3などが挙げられる。
【0008】
さらに、所望に応じて用いられる(C)第三成分としては、イオウ化合物、リン化合物および窒素化合物の中から選ばれた少なくとも1種の化合物が使用できる。この第三成分は、製品であるエチレン低重合体の純度向上に寄与するものである。
イオウ化合物としては、有機イオウ化合物であればよく、特に制限はないが、例えば、硫化ジメチル、硫化ジエチル、硫化ジプロピル、硫化ジヘキシル、硫化ジシクロヘキシル、ジフェニルチオエーテルなどのチオエーテル類:二硫化ジメチル、二硫化ジエチル、二硫化ジプロピル、二硫化ジブチル、二硫化ジヘキシル、二硫化ジシクロヘキシル、二硫化エチルメチルなどの二硫化ジアルキル化合物;チオフェン、2−メチルチオフェン、3−メチルチオフェン、2,3 −ジメチルチオフェン、2−エチルチオフェン、ベンソチオフェンなどのチオフェン類やテトラヒドロチオフェン、チオピランなどのヘテロ環イオウ化合物;ジフェニルイオウ、二硫化ジフェニル、二硫化メチルフェニル、メチルフェニルイオウなどの芳香族イオウ化合物:チオ尿素;メチルスルフィド、エチルスルフィド、ブチルスルフィトなどのスルフィド類などが好ましく用いられる。
【0009】
リン化合物としては、有機リン化合物であればよく特に制限はないが、例えば、トリフェニルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリオクチルオスフィン、トリシクロヘキシルホスフィンなどのホスフィン類が好ましく用いられる。
また、窒素化合物としては、有機窒素化合物であればよく、特に制限はないが、例えば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアイン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、アニリン、ベンジルアミン、ナフチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジフェニルアミン、メチルフェニルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリフェニルアミン、ピリジン、ピコリンなどの有機アミン類が好ましく用いられる。
【0010】
本発明においては、前記種々のイオウ化合物、リン化合物、窒素化合物中でも、例えば、二硫化ジメチル、チオフェン、チオ尿素、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、アニリンなどから選ばれた1種または2種以上の化合物を特に好適に使用することができる。
このエチレンの重合反応は、通常、有機溶媒中において行われる。この有機溶媒としては、例えば、シクロヘキサンやデカリンなどのナフテン系パラフィン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、エチルベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなどの芳香族炭化水素類やそのハロゲン置換体、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカンなどの脂肪族パラフィン類、ジクロロエタン、ジクロロブタンなどのハロアルカン類などが挙げられる。
【0011】
本発明における、前記(A)成分、(B)成分、(C)成分および前記有機溶媒の配合割合は、有機溶媒250ミリリットル当たり、通常(A)成分を0.01〜5ミリモル、好ましくは、0.03〜1ミリモル、(B)成分を通常、0.05〜15ミリモル、好ましくは0.06〜3ミリモル、(C)成分を通常、0.05〜20ミリモル、(C)成分として前記イオウ化合物を用いる場合には、好ましくは0.1〜10ミリモル、(C)成分とて窒素化合物またはリン化合物を用いる場合には、好ましくは0.05〜5ミリモルである。また、前記(A)成分と(B)成分との配合比に関しては、Al/Zr(モル比)を1〜15の範囲に設定することによって、さらに好ましい結果を得ることができる。
【0012】
本発明におけるエチレンの重合反応は、通常100〜150℃の温度において、2.94〜8.82MPaの加圧下で行われる。また反応時間は、温度や圧力によって左右され一律に決めることができないが、通常10分ないし60分程度で十分である。
本発明の製造方法において得られるエチレン低重合体は、炭素数4以上、特に4〜18の各種低重合体であり、このエチレン低重合体はそれらの混合物として生成する。
【0013】
本発明においては、エチレンを重合して得られた重合反応液について、続いて脱ガス工程における未反応エチレンの回収、失活工程における触媒の失活を行う。ここにおいては、重合反応終了後の重合反応生成液の温度を90〜150℃、更に100〜130℃に保持することが好ましい。該温度が上記範囲内であれば、製品純度の低下を抑制することができ好ましい。
重合反応によって副生するポリマーの量は反応条件によって一律ではないが、通常は300〜500ppmであり、反応生成液を90℃以上に保持することによって溶解し、重合反応に使用する有機溶媒の種類に関わらず安定した運転を続行することができる。
本発明においては、上記未反応エチレンの回収工程として脱ガス工程を設けるが、脱ガス工程における圧力は、使用した反応圧力以下、好ましくは大気圧(0.1MPa)程度である。また、その温度は、上記のように90〜150℃、更には100〜130℃であることが好ましい。
なお、脱ガス工程で回収されたエチレンは、必要に応じ反応系にリサイクルして再使用することもできる。
【0014】
本発明においては、次いで、処理系を0.3〜0.5MPa程度の圧力として失活剤を導入して、触媒の失活処理を行う。この際、用いる失活剤としては、塩基性窒素化合物、水、アルコール、カルボン酸、フェノール類が挙げられ、このうち、塩基性窒素化合物としては、例えば、アンモニアまたはメチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、アニリン、ベンジルアミン、ナフチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジフェニルアミン、メチルアフェニルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリフェニルアミン、ピリジン、ピコリンなどのアミン類を挙げることができる。
【0015】
本発明においては、重合反応により得られた反応重合液が、上記反応器から排出された後、脱ガス工程を経て失活工程に供給されるまでの時間(以下、失活前滞留時間ということがある)を6分以下とすることが必要である。そのように設定することにより、本発明は、重合反応液から未反応エチレンの回収を可能としつつ、かつ得られる製品の品質を低下させることのないエチレン低重合体の製造方法を提供することができる。この点から、本発明は、上記失活前滞留時間を、3分以下とすることが更に好ましい。
上記失活前滞留時間を実現する方法としては、特に制限はないが、例えば、脱ガス工程の滞留部や配管等の形状、大きさ等を適宜設計するなどして、その容積をできる限り小さくする方法を挙げることができる。
【0016】
本発明においては、上記失活処理の後、必要に応じ脱灰処理を行い、更に有機溶媒および未反応エチレンを蒸留によって分離回収する。回収された未反応エチレンおよび有機溶媒は更に必要に応じ重合反応系にリサイクルされる。
本発明における目的生成物であるエチレン低重合体は、好ましくは多段形式の蒸留処理によって所望の各種エチレン低重合体混合生成物として得ることができる。この混合生成物は反応条件を適宜選択することによって、所望の炭素数のエチレン低重合体をより多量に取得することもできる。
【0017】
本発明における蒸留工程に用いられる蒸留装置としては、2以上の複数の蒸留塔からなるものが好ましい。例えば、2基の蒸留塔を直列に用いる場合、第1の蒸留塔においては、塔頂からC6以下のエチレン低重合体と有機溶媒を主成分とする液を抜き出し、塔底からは有機溶媒の大部分とC8以上のエチレン低重合体を主成分とする液を抜き出すように蒸留を行い、この塔底液を第2の蒸留塔に導入する。
第2蒸留塔においては、塔頂からは有機溶媒を主成分とする液が抜き出され、塔底からは有機溶媒とC8以上のエチレン低重合体を主成分とする液が得られるように蒸留を行う。本発明においては、この塔頂から抜き出される有機溶媒を主成分とする液を重合反応系にリサイクルし、反応溶媒として用いることもできる。
【0018】
【実施例】
以下に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら制限されるものではない。
実施例1
〔触媒の調製〕
1リットルの攪拌機付フラスコに、アルゴン雰囲気下、無水四塩化ジルコニウム(ZnCl4 )100ミリリットルと乾燥したシクロヘキサン500ミリリットルとを導入し、10分間攪拌した。これにトリエチルアルミニウム(TEA)158.3ミリモルを添加し、約10分間攪拌した後、これにエチルアルミニウムセスキクロライド(EASC)541.7ミリモルを添加し、70℃で更に2時間かけて攪拌しながら錯体を形成した。
次いで、500ミリリットルの三つ口フラスコに、アルゴン雰囲気下でシクロヘキサン250ミリリットルと前記錯体溶液を無水四塩化ジルコニウム(ZnCl4 )が0.12モル、エチルアルミニウムセスキクロライド(EASC)が0.65ミリモル、トリエチルアルミニウム(TEA)が0.19ミリモルになるように導入し、チオフェン0.36ミリモルを加えて室温で10分間攪拌して触媒液を調製した。
【0019】
〔エチレン低重合体の製造〕
容積1リットルの攪拌機付きオートクレーブに、乾燥したアルゴン雰囲気下で、前記調製した触媒液をアルゴン圧送することにより導入した。このとき、オートクレーブの温度は、50〜60℃に保持した。触媒液の張込みが終了した後、攪拌を開始し、オートクレーブ内に高純度のエチレンガスをその圧力が6.37MPaになるまで急速に吹き込み、しかる後120℃に昇温した。エチレンは、前記圧力を維持するのに必要な量を導入し続けた。この反応条件で30分間反応を続けた。
反応後、下記第1表に示すフラッシュ条件で脱圧、降温し、失活剤である水を圧入し、フラッシュ開始後2.5分後の生成液を採取し、これを30%アンモニア水溶液中に投入して攪拌することにより、最終的な触媒失活を行った後、ガスクロマトグラフィーを用いて分析した。採取サンプルの炭素数18(C18)の線状αーオレフィンの純度を第1表に示す。
【0020】
実施例2
実施例1において、フラッシャー条件のうち、フラッシュ開始後採取迄の時間2.5分を5分とした以外は同様にして脱ガス処理及び失活処理を行い、同様に採取サンプルの炭素数18(C18)の線状αーオレフィンの純度を第1表に示す。
比較例1
実施例1において、フラッシャー条件のうち、フラッシュ開始後採取迄の時間2.5分を10分とした以外は同様にして脱ガス処理及び失活処理を行い、同様に採取サンプルの炭素数18(C18)の線状αーオレフィンの純度を第1表に示す。
【0021】
【表1】
【0022】
【発明の効果】
本発明によれば、重合反応後において、重合反応液から未反応エチレンを回収し、かつ得られた製品の品質を低下させることのないエチレン低重合体の製造方法を提供することができる。
Claims (3)
- 反応器中でジルコニウム系触媒であるチーグラー系触媒の存在下、エチレンの重合反応を行い、得られたエチレン低重合体を含有する重合反応液を脱ガス工程に供給して未反応エチレンを回収した後、触媒失活工程及び蒸留工程に供給し、エチレン低重合体を留出液として回収するエチレン低重合体の製造方法において、重合反応液が反応器から排出された後触媒失活工程に供給される迄の間、該重合反応液を90〜150℃の間の温度に保持し、かつ、上記重合反応液が反応器から排出された後触媒失活工程に供給される迄の時間を6分以下とすることを特徴とするエチレン低重合体の製造方法。
- 脱ガス工程における圧力が、重合反応における反応圧力以下であり、その温度が、90〜150℃である請求項1に記載のエチレン低重合体の製造方法。
- エチレンの重合反応が、反応温度100〜150℃、反応時間10〜60分、加圧条件2.94〜8.82MPaで行われる請求項1又は2に記載のエチレン低重合体の製造方法。
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