JP4656412B2 - 弾性表面波素子片の製造方法、陽極酸化方法 - Google Patents
弾性表面波素子片の製造方法、陽極酸化方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4656412B2 JP4656412B2 JP2005274297A JP2005274297A JP4656412B2 JP 4656412 B2 JP4656412 B2 JP 4656412B2 JP 2005274297 A JP2005274297 A JP 2005274297A JP 2005274297 A JP2005274297 A JP 2005274297A JP 4656412 B2 JP4656412 B2 JP 4656412B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- liquid
- wafer
- electrode
- electrolytic solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Description
また、本発明に係る弾性表面波素子片の製造方法は、ウエハに形成した弾性表面波素子片の電極パターンを陽極酸化する工程を有する弾性表面波素子片の製造方法であって、前記電極パターンに接続して前記ウエハに設けた導通パターンにおける、電解液から露出させてコンタクト電極を接触させる部分の下側に、前記電解液の這い上がりを阻止する防液パターンを設け、この防液パターンの少なくとも一部を前記電解液から露出させて前記電極パターンの表面を陽極酸化する工程を有し、前記防液パターンは、平面視における長手方向が前記電解液の液面に沿う横長形状の溝を前記導通パターンに形成し、前記溝を前記ウエハの主面方向に複数並べて形成されることを特徴としている。
また本発明に係る陽極酸化方法は、電解液の這い上がりを防止する防液パターンを備えた金属パターンをウエハ上に形成し、前記防液パターンの少なくとも一部を前記電解液から出して、前記ウエハを前記電解液に浸漬し、前記防液パターンの上方における前記金属パターンに接触したコンタクト電極と、前記電解液に浸漬した対向電極とに電力を供給して、前記電解液に浸漬されている前記金属パターンの表面を陽極酸化する陽極酸化方法であって、前記防液パターンは、平面視における長手方向が前記電解液の液面に沿う横長形状の溝を前記金属パターンに形成し、前記溝を前記ウエハの主面方向に複数並べて形成されることを特徴としている。
Claims (5)
- ウエハに形成した弾性表面波素子片の電極パターンを陽極酸化する工程を有する弾性表面波素子片の製造方法であって、
前記電極パターンに接続して前記ウエハに設けた導通パターンにおける、電解液から露出させてコンタクト電極を接触させる部分の下側に、前記電解液の這い上がりを阻止する防液パターンを設け、この防液パターンの少なくとも一部を前記電解液から露出させて前記電極パターンの表面を陽極酸化する工程を有し、
前記防液パターンは、平面視における長手方向が前記電解液の液面に沿った横長形状のレジスト膜を前記導通パターン上に形成し、前記レジスト膜を前記ウエハの主面方向に複数並べて形成されることを特徴とする弾性表面波素子片の製造方法。 - ウエハに形成した弾性表面波素子片の電極パターンを陽極酸化する工程を有する弾性表面波素子片の製造方法であって、
前記電極パターンに接続して前記ウエハに設けた導通パターンにおける、電解液から露出させてコンタクト電極を接触させる部分の下側に、前記電解液の這い上がりを阻止する防液パターンを設け、この防液パターンの少なくとも一部を前記電解液から露出させて前記電極パターンの表面を陽極酸化する工程を有し、
前記防液パターンは、平面視における長手方向が前記電解液の液面に沿う横長形状の溝を前記導通パターンに形成し、前記溝を前記ウエハの主面方向に複数並べて形成されることを特徴とする弾性表面波素子片の製造方法。 - 電解液の這い上がりを防止する防液パターンを備えた金属パターンをウエハ上に形成し、
前記防液パターンの少なくとも一部を前記電解液から出して、前記ウエハを前記電解液に浸漬し、
前記防液パターンの上方における前記金属パターンに接触したコンタクト電極と、前記電解液に浸漬した対向電極とに電力を供給して、前記電解液に浸漬されている前記金属パターンの表面を陽極酸化する陽極酸化方法であって、
前記防液パターンは、平面視における長手方向が前記電解液の液面に沿った横長形状のレジスト膜を前記金属パターン上に形成し、前記レジスト膜を前記ウエハの主面方向に複数並べて形成されることを特徴とする陽極酸化方法。 - 電解液の這い上がりを防止する防液パターンを備えた金属パターンをウエハ上に形成し、
前記防液パターンの少なくとも一部を前記電解液から出して、前記ウエハを前記電解液に浸漬し、
前記防液パターンの上方における前記金属パターンに接触したコンタクト電極と、前記電解液に浸漬した対向電極とに電力を供給して、前記電解液に浸漬されている前記金属パターンの表面を陽極酸化する陽極酸化方法であって、
前記防液パターンは、平面視における長手方向が前記電解液の液面に沿う横長形状の溝を前記金属パターンに形成し、前記溝を前記ウエハの主面方向に複数並べて形成されることを特徴とする陽極酸化方法。 - 前記防液パターンは、前記コンタクト電極と前記金属パターンとが接触している箇所の周囲に形成されることを特徴とする請求項3または4に記載の陽極酸化方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005274297A JP4656412B2 (ja) | 2005-09-21 | 2005-09-21 | 弾性表面波素子片の製造方法、陽極酸化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005274297A JP4656412B2 (ja) | 2005-09-21 | 2005-09-21 | 弾性表面波素子片の製造方法、陽極酸化方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010255218A Division JP5381962B2 (ja) | 2010-11-15 | 2010-11-15 | 弾性表面波素子片の製造方法、陽極酸化方法およびウエハ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007084872A JP2007084872A (ja) | 2007-04-05 |
JP4656412B2 true JP4656412B2 (ja) | 2011-03-23 |
Family
ID=37972153
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005274297A Expired - Fee Related JP4656412B2 (ja) | 2005-09-21 | 2005-09-21 | 弾性表面波素子片の製造方法、陽極酸化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4656412B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002084156A (ja) * | 2000-09-08 | 2002-03-22 | Seiko Epson Corp | Saw素子及びその製造方法 |
JP2003096599A (ja) * | 2001-02-08 | 2003-04-03 | Showa Denko Kk | コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法及び固体電解コンデンサ |
JP2005142911A (ja) * | 2003-11-07 | 2005-06-02 | Seiko Epson Corp | 弾性表面波チップの製造方法およびその製造方法により製造した弾性表面波チップ並びに弾性表面波デバイス |
-
2005
- 2005-09-21 JP JP2005274297A patent/JP4656412B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002084156A (ja) * | 2000-09-08 | 2002-03-22 | Seiko Epson Corp | Saw素子及びその製造方法 |
JP2003096599A (ja) * | 2001-02-08 | 2003-04-03 | Showa Denko Kk | コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法及び固体電解コンデンサ |
JP2005142911A (ja) * | 2003-11-07 | 2005-06-02 | Seiko Epson Corp | 弾性表面波チップの製造方法およびその製造方法により製造した弾性表面波チップ並びに弾性表面波デバイス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007084872A (ja) | 2007-04-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110993564A (zh) | 阵列基板的制作方法、阵列基板及显示装置 | |
US20160115610A1 (en) | Electroformed component production method | |
JP2004103981A (ja) | 固体電解コンデンサの製造方法及びこの方法によって製造される固体電解コンデンサ | |
JPH11186866A (ja) | 弾性表面波装置及びその製造方法 | |
CN105706364A (zh) | 压电振动元件和使用该压电振动元件的压电设备,以及上述压电振动元件的制造方法和使用该压电振动元件的压电设备的制造方法 | |
US8779652B2 (en) | At-cut quartz-crystal vibrating pieces and devices, and methods for manufacturing same | |
KR20150048051A (ko) | 전자 디바이스 및 전자 디바이스의 제조 방법 | |
JP5381962B2 (ja) | 弾性表面波素子片の製造方法、陽極酸化方法およびウエハ | |
JP4656412B2 (ja) | 弾性表面波素子片の製造方法、陽極酸化方法 | |
KR20140095003A (ko) | 전자 디바이스의 제조 방법 및 전자 디바이스 | |
KR20150048052A (ko) | 전자 디바이스 및 전자 디바이스의 제조 방법 | |
JP4369142B2 (ja) | 圧力波発生装置とその製造方法 | |
KR20090102675A (ko) | 고체 전해 커패시터 디바이스 및 그 제조 방법 | |
JP2001144581A (ja) | 圧電振動子およびその製造方法 | |
JP2003043064A (ja) | 接触子製造用金型及びその製造方法並びに接触子の製造方法 | |
JP2007081934A (ja) | 弾性表面波素子片の製造方法、陽極酸化方法およびウエハ | |
KR100815566B1 (ko) | 수정 진동자 제조방법 | |
JPH10163800A (ja) | 弾性表面波装置及びその製造方法 | |
JP3427791B2 (ja) | Sawデバイスの製造方法 | |
JP5233530B2 (ja) | 弾性表面波素子用ウェハ、および弾性表面波デバイスの製造方法 | |
JPH0495371A (ja) | 電気的接続部材の製造方法 | |
JP2001007645A (ja) | 圧電発振器用シート基板の構造 | |
JPH1167719A (ja) | 半導体製造におけるエッチング方法及びエッチング装置 | |
JP2003224033A (ja) | 薄膜コンデンサ | |
KR20200099479A (ko) | 에칭 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070926 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100708 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100714 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100907 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100930 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101115 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101202 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101215 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140107 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |