JP4639352B2 - 波長≦100nmで物体を検査する検査系 - Google Patents
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Description
EUVリトグラフィーで使用される反射マスクの検査は記載されていない。
それで、開口絞りの有利な配置は、物体平面の後、第1鏡の前での第1副系内の物体平面から像平面までの光路内での配置である。開口絞りは光軸に対して偏心される。開口絞りは、特に、投影露光設備の異なる数の開口により異なる開口ステップの調整をシュミュレートできる。
本発明を図面に基づいて次に詳細に説明する。
第2鏡は比較的に小さい曲率半径だけを有する。この小さい曲率半径は要求される大きい結像倍率を生じるために必要である。開口絞りBは、物体平面と第1鏡との間で物体平面から466mmの間隔で離れ、60mmの最大偏心開口を有する。光学系の全長、つまり、開口絞りBが配置される絞り平面から第3鏡S3までの間隔は2007mmであり、物体平面1から開口絞りBまでの間隔は466mmである。全体系はβ=−500xの結像倍率を有する。物体平面および像平面での物体と像は、光軸HAに関して反対側で偏心している。
製造技術的観点から、図3による実施例では第3鏡が球面であると有利である。これに対して鏡S1、S2、S4の鏡表面は回転非球面である。開口絞りBは物体平面1と第1鏡S1との間で、物体平面1から840.5mmの間隔で離れ、146mmの最大偏心開口を有する。この場合、開口絞りBから像平面3までの間隔である光学系の全長は2116mmである。この系の全体の結像倍率はβ=530であり、すなわち、物体平面内の物体と像平面内の像は光軸HAに対して同じ側で同じ側で偏心している。
NA照明/NA結像として定義される。ここで、NA照明は、開口絞りにより設定される照明系内での開口数を示し、NA結像は、ここでは、反射型X線顕微鏡の結像系の開口絞りBにより設定される結像系の開口数を示す。
平面としても称される物体平面内で検査される物体の位置決め装置を含むことができる。それにより、小さい物体視野、例えば、30μm×30μmまたは100μm×100μmのマスクの異なる部分を、例えば、152×152mm2のマスク寸法で検査することができる。x−y平面内でのマスクの系統的な開始により、調整可能な絞りでシュミュートされる投影露光設備で全体のマスクを検査できる。しかしながら、これは非常に高価であるので、第1副系が第2副系から容易に分離できるように結像系を構成すると有利となる。大きい物体視野または小さい物体視野や大きい倍率又は小さい倍率が必要であれば、第2副系を大きい倍率又は小さい倍率および/または大きい物体視野または小さい物体視野を持つ第2副系に対して非常に簡単に交換できる。そのような場合、全体のマスクは大まかに検査され、マスク上の限界範囲はx−y位置決め装置により接近でき、それから、この範囲は別の光学系で欠陥のための検査をできる。位置決め装置によるx−y平面での移動可能性と並んで、本発明の有利な実施例では焦点調整装置も設けられ、焦点調整装置により物体は物体平面と垂直に移動でき、像は焦点の上下の設定焦点位置で撮像できる。このようにして、像やマスクを異なる設定焦点平面で撮像できる。この焦点平面の数は検査の最適精度に依存する。
入力制御装置内のEUV検査系により検査できる。マスク品質が十分であれば、それは、次のステップ452内で構造化できる。ステップ452による全体の構造マスクは、ステップ454でEUV検査系により再び検査できる。
このため、入力制御装置450の場合と同様に、最初に全体のマスク表面の欠陥検査は、例えば、可視光線で動作する検査系で行われ、同様に、可視光線またはUVまたはVUV波長範囲で動作するCD測定で行われる。EUV光線で実行されない欠陥検査またはCD測定で欠陥が生じると、そこで発見された欠陥を詳細に分類化するために本発明によるEUV検査系を使用することができる。欠陥についてのEUV検査に基づき、マスクの品質が欠陥検査後、十分であると分かれば、ステップ456により出すことができる。マスクの品質が不十分であれば、マスクは対応する欠陥個所に移動され、その後、ステップ458で修理ができるかどうかの検査がされる。修理ができなければ、マスクはステップ462により取りやめられる。修理ができれば、ステップ462により修理が実行され、EUV検査に向けられる。今や、十分な品質データが生じると、修理されたマスクを出すことができる。
S1 第1鏡
S2 第2鏡
S3 第3鏡
S4 第4鏡
3 像平面
HA 光軸
B 開口絞り
Claims (2)
- 物体平面内の物体を照明する照明系と、
前記物体の少なくとも一部分を像平面に反射、拡大、および投影するための波長100nm以下のための撮像系と、
第一の鏡と第二の鏡を有し、前記物体平面から前記像平面までの光路内に配された第一副系、及び
第三の鏡を有し、前記光路内の前記第一副系の下流に配される第二副系、
を備える前記反射型X線顕微鏡を含む、前記像平面内の像記録系と、
を含み、
前記反射型X線顕微鏡は、
前記物体平面から前記像平面までの光路内に配される第一副系であって、前記光路内の中間像平面に中間像を形成する第一副系、及び
前記中間像に後置された前記光路内の前記第一副系に後置された第二副系、
を備えることを特徴とする検査系。 - 前記第二副系を前記中間像平面方向に移動させ、前記物体を前記物体平面に対して垂直方向に移動させる焦点調整装置をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の検査系。
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