JP4635694B2 - 磁性金属膜と絶縁材料膜とを含む複合膜を研磨するための研磨材および研磨方法 - Google Patents
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Description
(磁性金属膜および絶縁材料膜複合材料用研磨材の作製方法)
純度99.9%のα-アルミナ粉末を純水中に懸濁し超音波分散後、分級により粗大粒子を取り除き平均粒径0.3μm、濃度10wt%のα-アルミナ懸濁液を作製した。このα-アルミナ懸濁液20質量部、グリコール酸1質量部、水78質量部を加えて溶解した後、過酸化水素水(試薬特級、30%水溶液)1質量部加えて得られたものを磁性金属膜および絶縁材料膜複合材料用研磨材とした。中和滴定等量の測定値は0.13mol/kg、pHは2.4であった。
基板1:アルチック基板上に厚さ3μmのアルミナ膜を形成したブランケット基板。
研磨装置:定盤寸法600mmφ、ロータリータイプ
研磨パッド:独立気泡を持つ発泡ポリウレタン樹脂
研磨圧力:20kPa
基板と研磨定盤との相対速度:36m/min
研磨材流量:100ml/min
(評価項目および評価方法)
CMPによるアルミナ膜研磨速度:基板1のCMP前後での膜厚差を光学式膜厚測定装置で求めた。
グリコール酸を乳酸に変更した以外は実施例1と同様に磁性金属膜および絶縁材料膜複合材料用研磨材を作製した。中和滴定等量の測定値は0.11mol/kg、pHは2.5であった。上記研磨材を使用して実施例1と同様にCMPを行い、評価を行った。
非イオン性の水溶性高分子として分子量3万のポリビニルポロリドンを0.1質量部加えた以外は実施例1と同様に磁性金属膜および絶縁材料膜複合材料用研磨材を作製した。中和滴定等量の測定値は0.13mol/kg、pHは2.4であった。上記研磨材を使用して実施例1と同様にCMPを行い、評価を行った。
グリコール酸を0.1質量部に減少し、水を78.9質量部に増加させた以外は実施例1と同様に磁性金属膜および絶縁材料膜複合材料用研磨材を作製した。中和滴定等量の測定値は0.013mol/kg、pHは3.5であった。上記研磨材を使用して実施例1と同様にCMPを行い、評価を行った。
過酸化水素水を加えないこと以外は実施例1と同様に磁性金属膜および絶縁材料膜複合材料用研磨材を作製した。中和滴定等量の測定値は0.13mol/kg、pHは2.4であった。上記研磨材を使用して実施例1と同様にCMPを行い、評価を行った。
Claims (9)
- 水と、砥粒としてアルミナと、1価の有機酸と酸化剤とを含み、
pHが1.5以上4以下であり、
前記1価の有機酸の含有量が0.11mol/kg以上である、磁性金属膜と絶縁材料膜とを含む複合膜を研磨するための研磨材。
- 1価の有機酸がグリコール酸または乳酸である請求項1記載の研磨材。
- 砥粒がα-アルミナ、またはα-アルミナと他の砥粒の混合砥粒である請求項1または2の研磨材。
- 酸化剤が過酸化水素、過ヨウ素塩、過塩素酸塩または過硫酸塩である請求項1〜3のいずれか記載の研磨材。
- さらに、非イオン性の水溶性高分子を含有する請求項1〜4のいずれか記載の研磨材。
- 前記磁性金属膜はパーマロイ、コバルト・鉄・ニッケル系の合金のいずれかである請求項1〜5のいずれか記載の研磨材。
- 前記絶縁材料膜は金属酸化物である請求項1〜4のいずれか記載の研磨材。
- 前記金属酸化物はアルミナである請求項7記載の研磨材。
- 請求請1〜8のいずれか記載の研磨材を使用して磁性金属膜と絶縁材料膜とを含む複合膜を研磨する工程により、磁性金属膜および絶縁材料膜の一部を除去する研磨方法。
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