JP4625975B2 - 測定機器用マスク及び波形の作成及び編集方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般に、波形試験用のマスクを作成し編集する方法に関し、特に、特別な装置及び接続を用いないで、マスク及び波形に関連した作成及び編集を行う方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
種々の自動化波形試験状況では、マスクに対して波形を比較して、この波形がマスクで決まる限界の外になったときに警報を発したり、波形データを捕捉することが一般的になってきている。例えば、米国オレゴン州ビーバートンのテクトロニクス社製２４３０型オシロスコープは、「セーブ・オン・デルタ」機能を具えている。この機能により、定義したマスク、即ち、テンプレートから外れた波形を自動的に捕捉できる（例えば、特許文献１参照）。このテンプレートは、予め捕捉した波形に特定の許容範囲をプラス又はマイナスしたものでもよいし、コンピュータが発生して測定機器にダウンロードしたものでもよい。また、マスクを測定ツールとして用いて、かかるマスクを信号上に乗せて波形の瞬時測定を行ったり、かかるマスクが波形に接触するように手動調整して波形の測定を行ってもよい。かかる測定機器には、米国オレゴン州ビーバートンのテクトロニクス社製ＶＭ７００型ビデオ測定試験セットがある。ここでの調整は、任意の調整のためではなく、マスクやテンプレートの形状を変更することなく単にスケーリング（拡大／縮小）を調整することである。これらマスクやテンプレートを測定機器に予めロードする。ここでは、外部コンピュータで発生した新たなマスク又は変更したマスクを測定機器にダウンロードする。
【０００３】
【特許文献１】
米国特許第４５１０５７１号明細書
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
よって、外部機器を用いることなく、試験測定機器用の波形テンプレートやマスクを作成及び編集する一層簡単且つ高速な方法が望まれている。
【０００５】
したがって、本発明は、外部機器を用いないで、測定機器用のマスク及び波形を作成及び編集する方法の提供にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、測定機器用のマスクを作成及び編集する方法であって；測定機器上で動作するコンテキスト表示アプリケーションからマスク・エディタを呼び出し（ステップ２４）；グラフィック表示中のグラフィック・ウィンドウ内に表示アプリケーションから渡されたコンテキストを視覚基準として表示すると共に、複数のマスク・ポイント及び該マスク・ポイント間を結ぶ線から定義されるコンテキストと関係のない現在のマスクをマスク・エディタの一部として表示し（ステップ２６及び２８）；視覚基準を表示しつつ新たなマスク・ポイントを追加することにより現在のマスクの形状をコンテキストと関係なしに編集して、新たなマスクを定義し（ステップ３２）；マスク・エディタを抜け出て、表示アプリケーションに戻り（ステップ３４及び３６）；新たなマスクを表示アプリケーション内のコンテキストに適用する（ステップ３８）ことを特徴としている。マスクと同様に、波形も作成及び編集できる。
【０００７】
コンテキストとは、環境又は設定を意味し、特に、本発明の特定実施例では、コンテキストは、マスクが望まれる所望の波形表示を意味する。よって、この場合、コンテキストは、信号波形である。また、場合によっては、コンテキストは、マスクである。一方、インコンテキストとは、環境又は設定と関連することを意味し、特に、本発明の特定実施例では、所望の波形表示に関連することを意味する。本発明は、測定機器の表示アプリケーションからマスク・エディタを呼出して、マスク及び波形の関連した作成及び編集を行う、即ち、マスク及び波形を、信号波形に関連して作成及び編集を行うものである。ユーザは、マスクを望む信号波形の表示の如く、関心のあるコンテキスト用に測定機器を設定する。表示アプリケーションは、コンテキスト、即ち、信号波形をマスク・エディタに渡し、また、マスク・エディタが視覚基準として信号波形を表示するように、その結果のマスク・エディタ表示を呼び出し、マスク・エディタ・アプリケーションの表示スケールに合うようにスケーリング（拡大／縮小）する。しかし、これは、波形上のマスクに基づいていない。すなわち、コンテキストは、視覚基準用に利用可能であるが、どのようなマスクが作成できるかを制限しない。マスクを定義するポイント（点）が、マスク・エディタ表示の外ならば、ユーザは、総てのマスク・ポイントを示すように信号波形を再スケーリングできる。マスクを作成及び編集し、マスク・エディタから出た後に、その結果のマスクを、直接使用のために呼び出し表示アプリケーションに戻す。すなわち、マスクを表示アプリケーションにインコンテキストとして戻す。
【０００８】
本発明の目的、利点及び新規な特徴は、添付図を参照した以下の説明から明らかになろう。
【０００９】
【発明の実施の形態】
図１は、試験／測定機器における無線周波数（ＲＦ）信号の典型的な信号経路を示す。このＲＦ信号は、ＲＦ信号経路モジュール１２により処理される。ここでは、このＲＦ信号をデジタル中間周波数（ＩＦ）信号にダウン・コンバージョンし（周波数が下げられ）且つろ波する。デジタル・ハードウェア（ＨＷ）モジュール１４が、デジタルＩＦ信号を処理する。なお、このデジタル・ハードウェア・モジュール１４は、復調機能を具えてもよい。ハードウェア・モジュール１４が信号調整及び復調を既に行っていなければ、ソフトウェア（ＳＷ）モジュール１６が、ハードウェア・モジュール１４で処理済みのデジタルＩＦ信号を更に処理する。ハードウェア・モジュール１４及びソフトウェア・モジュール１６が信号処理のどの部分を扱うかは、設計上の選択の問題である。干渉ＲＦ試験、送信器ＲＦ試験、送信器変調試験などのようにユーザが選択した測定カテゴリに応じて、測定アルゴリズム・モジュール１８が、調整されたデジタルＩＦ信号を処理する。これらの処理結果が表示モジュール２０に供給される。このモジュール２０は、ユーザ・インタフェース（Ｕ／Ｉ）機能も果たす。表示モジュール２０は、処理されたコンテキスト又は信号データを示す表示スクリーン２２を含んでいる。
【００１０】
図２は、本発明によりマスク／波形の関連した作成／編集の過程を示す流れ図である。選択した測定アルゴリズム、即ち、表示アプリケーションは、ステップ２４にて、マスク・エディタを呼び出す。ステップ２６にて、マスク・エディタは、表示アプリケーションからのコンテキスト、即ち、波形のグラフィック表示を行う。ステップ２８にて、予め選択したマスク、即ち、ディフォルト・マスクを現在のマスクとしてグラフィック表示上に示す。かかるマスクは、表示された波形に関係しない。ステップ３０及び３２において、波形に関連して、所望に応じて、現在のマスクを変更して、新たなマスクを発生する。すなわち、判断ステップ３０でマスクが変更されていない（ノー）と判断されると、ステップ３２でマスクを変更し、ステップ３０に戻る。この変更が完了すると、ステップ３０がイエスとなり、ステップ３４に進む。このステップ３４にて、新たなマスクをマスク・ファイルにセーブし、ステップ３６にて、マスク・エディタを閉じ、制御を表示アプリケーションに戻す。ステップ３８にて、表示アプリケーション内で、マスク・ファイルを開いて、インコンテキスト（関連した）マスクの作成及び編集を完了する。
【００１１】
図３は、符号分割多元接続（ＣＤＭＡ）システムの分析などを行う表示アプリケーション用のスクリーンを示し、ＲＦ信号の一部を表す波形４０をグラフィック表示４２内に示す。図示した実施例において、プルダウン・メニュー４４をアクセスして、マスク・エディタを呼び出すことができる。なお、この実施例では、マスク・エディタは、「Mask Maker （マスク・メーカー）」と名付けられている。マスク・エディタを呼び出す他の手段には、「接触」検知機能を有するスクリーン（タッチ・スクリーン）上の「ボタン」がある。この表示アプリケーションは、波形をマスク・エディタに送り、スクリーン上のマスク・エディタのグラフィック表示４６（図４及び図５）をスケーリング（拡大／縮小）して、呼び出すマスク・エディタ・アプリケーションのグラフィック表示に合わせる。なお、図４は、本発明によりマスク／波形の関連した作成／編集用に呼び出されたマスク・エディタのスクリーン表示を示す図であり、図５は、本発明によるマスク／波形の関連した作成／編集を示すマスク・エディタのスクリーンの表示を示す図であり、図６は、本発明によりマスク／波形の関連した作成／編集の結果であるマスクの受け入れを示す表示アプリケーションによるスクリーンの表示を示す図である。これらの波形及びマスク表示では、横（ｘ）軸がＭＨｚ単位の周波数を表し、縦（ｙ）軸がｄＢｍ単位の大きさを表す。マスク４８も表示するが、マスク・エディタは、波形を視覚基準として表示し、マスクをその基準としない。当業者に既知の如く、マスク４８は、図示の如く単一のトレースでもよく、最大限界及び最小限界を与えるように多数のトレースでもよい。
【００１２】
図示の如く、マスク・エディタのスクリーンは、このスクリーンの上部に横方向に配置された「New Mask （新たなマスク）」、「Open （開く）」、「Save （セーブ）」、「Save As ・・・（・・・としてセーブ）」、「Done （完了）」の如き複数のボタン４１、４３、４５、４７、４９を含むことができる（図５）。New Mask ボタンは４１は、現在表示されている如何なるマスクも閉じて、同じ単位でディフォルトのマスクを作成する。マスク・エディタが呼出されたときのように、波形を示したまま、グラフィック表示は、同じスケール及び位置にリセットされる。閉じようとしている現在のマスクに、セーブされていない変更があれば、ダイアログ（対話）ボックスが呼出されて、かかる変更をセーブするか否かを問い合わせる。ディフォルト・マスクは、円錐状マスクの如き任意所望のマスクでもよく、垂直値は、図の高さの約２５％又は７５％であり、水平値は、図の幅の０％、２０％、４０％、６０％、８０％又は１００％である。Openボタン４３は、Windows（登録商標）オペレーティング・システムに共通の如き標準オープン・ダイアログを呼出して、例えば、現在のマスクと交換するために、予め蓄積されたマスクを選択する。同様に、Saveボタン４５は、標準セーブ・ダイアログを呼出して、既に特定されたファイルに、又は、ユーザが識別した新たなファイルに、現在のマスクをセーブする。Save Asボタン４７も標準のセーブ・ダイアログを呼出して、このマスクの新たなファイルをユーザが特定できるようにする。最後に、Doneボタン４９は、マスク・エディタを抜け出て、呼び出しアプリケーションに戻る。マスクに対する変更をまだセーブしていなければ、抜け出る前に、ダイアログ・ボックスが開く。
【００１３】
また、「edit points（編集ポイント）」又は「add points（追加ポイント）」の間での選択も行われる。「編集ポイント」が選択されると、マスク４８からのマスク・ポイント５０（図５）を識別することにより、そのポイントを選択する。また、ポイントが２つ以上ならば、これらポイントが属するトレースを選択する。タッチ・スクリーンに接触したり、いくつかの他の既知の手段により、マスク・ポイント５０を識別できる。識別されたマスク・ポイント５０を、マスク・エディタ表示４６内の新たな場所に「ドラッグ」（引きずることが）できる。新たな場所は、マスク・ポイントの水平順序を変更して、マスク・トレース及び文字盤テキスト（図４の表示の右下のテキスト表示の表、図５の５９）を新たな順序に変更してもよい。タッチ・スクリーン又は他の適切な手段によって、「追加ポイント」を選択し、マスク・エディタ表示４６内の場所を識別すると、そのポイントにてマスク４８に新たなポイントを挿入する。この新たなポイントが既存のマスク・ポイントの正確に同じ水平場所ならば、一方の側又は他方の側の新たな水平場所に新たなポイントを挿入する。
【００１４】
大きさを再調整するボタンは、現在のマスク用の総てのマスク・ポイントをマスク・エディタ表示内に配置する。マスクの左縁は、任意のマスク・ポイントに対する最小水平値となり、マスクの右縁は、任意のマスク・ポイントに対する最大水平値となる。マスク・ポイントは、マスク・エディタ表示４６の、例えば９０％の垂直的に中間の位置内となるはずである。大きさの再調整は、波形を考慮しない。ボタン５３、５５、５７は、ポイントの除去、トレースの除去（マスク・トレースを形成する総てのポイント）及び除去の取り消し用に設ける。トレース選択器５２は、選択されたポイント５０が属するマスクのトレースがどれかを示し、ユーザが既存のトレースの１つを選択できるようにする。「High Limit（上限）」は、波形と比較するために、マスクの選択したトレースを上限に割り当てる。また、「Low Limit（下限）」は、波形と比較するために、マスクの選択したトレースを下限に割り当てる。
【００１５】
「Add new trace（新たなトレースを追加）」ボタン５４、５６、５８、６０、６２も設けてあり、マスク・トレースの特定の形状をこれらボタンで示す。これら形状ボタンの任意のものが選択されると、その形状のトレースがマスク・エディタ表示４６にマスク４８の一部として追加される。この結果により得られたマスク・トレースは、マスク・エディタ表示４６内の任意特定のポイントで開始し終了するが、典型的には、表示の左縁で開始し、表示の右端で終了する。文字盤５９は、マスク４８の選択されたトレースの各ポイント用の水平値及び垂直値用の列を含んでいる。ラベルが単位を表す。マスク・ポイントの数が表示文字盤の大きさを超えたならば、文字盤５９を垂直にスクロールできる。矢印ボタン６１、６３、６５、６７を設けて、例えば、水平に０．５％だけで、垂直に１．０％だけ、選択されたマスク・ポイント５０の値を増加又は減少できる。値の増減に自動的な繰り返しを含んでもよいが、加速は望ましくない。例えば、上方矢印ボタン６３又は下方矢印ボタン６７を選択すると、選択されたポイント用の文字盤５９におけるＹセルが選択される（強調表示で示す）。左方向矢印ボタン６１又は右方向矢印ボタン６５が選択されると、選択されたポイント用の文字盤におけるＸセルが選択される。数字ボタン・アイコン６４を選択して、矢印ボタンを数字キー・パッド（図示せず）と交換してもよい。この状態において、矢印ボタン６１、６３、６５、６７を矢印ボタン・アイコン（図示せず）と交換する。
【００１６】
特別の場合には、色を用いて、マーカ・エディタ表示４６内の種々の要素を強調してもよい。例えば、波形４０が灰色でもよく、選択されたマスク・トレースが明るい青で、他の総てのマスク・トレースが暗い青でもよい。また、選択されたポイント５０が赤い丸で、他のポイントが緑の矩形又はマゼンタの菱形でもよい。
【００１７】
上述のマスク作成／編集を終了し、「Done」ボタン４９を活性化すると、図６に示すように、マスク・エディタを抜け出し、アプリケーションが再呼び出しされ、波形４０に関連してマスク・エディタからの現在のマスク４８も表示される。
【００１８】
このマスク・エディタは、マスクではなく、任意波形発生器（測定機器の一種）による出力用に波形を作成／編集するのにも有用である。ここでは、上述のように、単一のトレースを用いると共に複数のポイントを操作して、波形４０の理想的なものを形成できる。または、１対のトレースを用いて、他の波形に対する変調信号を表してもよい。なお、かかる変調信号は、これら１対のトレースが示す限界の間で振動する。さらに、ユーザは、数字キー・パッドを用いて、表示波形の周囲の許容差を、例えば、垂直が＋／−１０％で水平が＋／−２マイクロ秒の如く、入力できる。この場合の本発明は、測定機器用の波形を作成及び編集する方法であって；測定機器上で動作するコンテキストを表示するアプリケーションからエディタを呼び出し；グラフィック表示内に表示アプリケーションからのコンテキストを基準として表示すると共に、コンテキストと関係のない現在の波形をエディタの一部として表示し；基準に対する上記現在の波形を編集して、新たな波形を定義し；エディタを抜け出て、表示アプリケーションに戻り；新たな波形を上記表示アプリケーション内のコンテキストに適用する。
【００１９】
【発明の効果】
したがって、本発明の方法は、表示アプリケーションからエディタを呼び出し、現在のマスク又はディフォルトのマスクを有するグラフィック・ウィンドウ内に表示アプリケーションから渡された波形を視覚基準として表示しつつ、現在のマスクを編集して新たなマスクを定義し、表示アプリケーションに戻って、この新たなマスクをこの表示アプリケーションで用いるようにして、作成及び編集を行える。また、マスクではなく、波形も同様に作成及び編集できる。このように、本発明は、マスク及び波形の関連した作成及び編集を行える。よって、本発明によれば、外部機器を用いることなく、試験測定機器用の波形テンプレートやマスクを一層簡単且つ高速に作成及び編集できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によりマスク／波形の関連した作成／編集に用いることができる測定機器の信号経路を示すブロック図である。
【図２】本発明によりマスク／波形の関連した作成／編集の過程を示す流れ図である。
【図３】本発明によりマスク／波形の関連した作成／編集を呼び出すアプリケーション・スクリーンの表示を示す図である。
【図４】本発明によりマスク／波形の関連した作成／編集用に呼び出されたマスク・エディタのスクリーン表示を示す図である。
【図５】本発明によるマスク／波形の関連した作成／編集を示すマスク・エディタのスクリーンの表示を示す図である。
【図６】本発明によりマスク／波形の関連した作成／編集の結果であるマスクを受け入れを示すアプリケーション・スクリーンの表示を示す図である。
【符号の説明】
１２ ＲＦ信号経路モジュール
１４ デジタル・ハードウェア・モジュール
１６ ソフトウェア・モジュール
１８ 測定アルゴリズム・モジュール
２０ 表示モジュール
４０ 波形
４２ グラフィック表示
４４ プルダウン・メニュー
４６ マーカ・エディタ表示
４８ マスク
５０ マスク・ポイント

Claims (1)

1. 測定機器用のマスクを作成及び編集する方法であって、
   上記測定機器上で動作するコンテキスト表示アプリケーションからマスク・エディタを呼び出すステップと、
   グラフィック表示中のグラフィック・ウィンドウ内に上記表示アプリケーションから渡されたコンテキストを視覚基準として表示すると共に、複数のマスク・ポイント及び該マスク・ポイント間を結ぶ線から定義される上記コンテキストと関係のない現在のマスクを上記マスク・エディタの一部として表示するステップと、
   上記視覚基準を表示しつつ新たなマスク・ポイントを追加することにより上記現在のマスクの形状を上記コンテキストと関係なしに編集して、新たなマスクを定義するステップと、
   上記マスク・エディタを抜け出て、上記表示アプリケーションに戻るステップと、
   上記新たなマスクを上記表示アプリケーション内の上記コンテキストに適用するステップと
   を具える測定機器用マスクの作成及び編集方法。

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