JP2003194855A - 測定機器用マスク及び波形の作成及び編集方法 - Google Patents
測定機器用マスク及び波形の作成及び編集方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 外部機器を用いないで試験測定機器用の波形
テンプレートやマスクを作成及び編集する。 【解決手段】 コンテキストを表示する測定機器上で動
作するアプリケーションからマスク・エディタを呼び出
し（２４）、アプリケーションからのコンテキストを基
準として表示すると共に、コンテキストと関係のない現
在のマスクをマスク・エディタの一部として表示する
（２６及び２８）。基準に対する現在のマスクを編集し
て、新たなマスクを定義し（３２）、マスク・エディタ
を抜け出て、アプリケーションに戻り（３４、３６）、
新たなマスクをアプリケーション内のコンテキストに適
用する（３８）。
テンプレートやマスクを作成及び編集する。 【解決手段】 コンテキストを表示する測定機器上で動
作するアプリケーションからマスク・エディタを呼び出
し（２４）、アプリケーションからのコンテキストを基
準として表示すると共に、コンテキストと関係のない現
在のマスクをマスク・エディタの一部として表示する
（２６及び２８）。基準に対する現在のマスクを編集し
て、新たなマスクを定義し（３２）、マスク・エディタ
を抜け出て、アプリケーションに戻り（３４、３６）、
新たなマスクをアプリケーション内のコンテキストに適
用する（３８）。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般に、波形試験
用のマスクを作成し編集する方法に関し、特に、特別な
装置及び接続を用いないで、マスク及び波形に関連した
作成及び編集を行う方法に関する。
用のマスクを作成し編集する方法に関し、特に、特別な
装置及び接続を用いないで、マスク及び波形に関連した
作成及び編集を行う方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】種々の自動化波形試験状況では、マスク
に対して波形を比較して、この波形がマスクで決まる限
界の外になったときに警報を発したり、波形データを捕
捉することが一般的になってきている。例えば、米国オ
レゴン州ビーバートンのテクトロニクス社製２４３０型
オシロスコープは、「セーブ・オン・デルタ」機能を具
えている。この機能により、定義したマスク、即ち、テ
ンプレートから外れた波形を自動的に捕捉できる（例え
ば、特許文献１参照）。このテンプレートは、予め捕捉
した波形に特定の許容範囲をプラス又はマイナスしたも
のでもよいし、コンピュータが発生して測定機器にダウ
ンロードしたものでもよい。また、マスクを測定ツール
として用いて、かかるマスクを信号上に乗せて波形の瞬
時測定を行ったり、かかるマスクが波形に接触するよう
に手動調整して波形の測定を行ってもよい。かかる測定
機器には、米国オレゴン州ビーバートンのテクトロニク
ス社製ＶＭ７００型ビデオ測定試験セットがある。ここ
での調整は、任意の調整のためではなく、マスクやテン
プレートの形状を変更することなく単にスケーリング
（拡大／縮小）を調整することである。これらマスクや
テンプレートを測定機器に予めロードする。ここでは、
外部コンピュータで発生した新たなマスク又は変更した
マスクを測定機器にダウンロードする。
に対して波形を比較して、この波形がマスクで決まる限
界の外になったときに警報を発したり、波形データを捕
捉することが一般的になってきている。例えば、米国オ
レゴン州ビーバートンのテクトロニクス社製２４３０型
オシロスコープは、「セーブ・オン・デルタ」機能を具
えている。この機能により、定義したマスク、即ち、テ
ンプレートから外れた波形を自動的に捕捉できる（例え
ば、特許文献１参照）。このテンプレートは、予め捕捉
した波形に特定の許容範囲をプラス又はマイナスしたも
のでもよいし、コンピュータが発生して測定機器にダウ
ンロードしたものでもよい。また、マスクを測定ツール
として用いて、かかるマスクを信号上に乗せて波形の瞬
時測定を行ったり、かかるマスクが波形に接触するよう
に手動調整して波形の測定を行ってもよい。かかる測定
機器には、米国オレゴン州ビーバートンのテクトロニク
ス社製ＶＭ７００型ビデオ測定試験セットがある。ここ
での調整は、任意の調整のためではなく、マスクやテン
プレートの形状を変更することなく単にスケーリング
（拡大／縮小）を調整することである。これらマスクや
テンプレートを測定機器に予めロードする。ここでは、
外部コンピュータで発生した新たなマスク又は変更した
マスクを測定機器にダウンロードする。
【０００３】
【特許文献１】米国特許第４５１０５７１号明細書
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】よって、外部機器を用
いることなく、試験測定機器用の波形テンプレートやマ
スクを作成及び編集する一層簡単且つ高速な方法が望ま
れている。
いることなく、試験測定機器用の波形テンプレートやマ
スクを作成及び編集する一層簡単且つ高速な方法が望ま
れている。
【０００５】したがって、本発明は、外部機器を用いな
いで、測定機器用のマスク及び波形を作成及び編集する
方法の提供にある。
いで、測定機器用のマスク及び波形を作成及び編集する
方法の提供にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、測定機器用の
マスクを作成及び編集する方法であって；コンテキスト
を表示する測定機器上で動作するアプリケーションから
マスク・エディタを呼び出し（ステップ２４）；グラフ
ィック表示内にアプリケーションからのコンテキストを
基準として表示すると共に、コンテキストと関係のない
現在のマスクをマスク・エディタの一部として表示し
（ステップ２６及び２８）；基準に対する現在のマスク
を編集して、新たなマスクを定義し（ステップ３２）；
マスク・エディタを抜け出て、アプリケーションに戻り
（ステップ３４及び３６）；新たなマスクをアプリケー
ション内のコンテキストに適用する（ステップ３８）こ
とを特徴としている。マスクと同様に、波形も作成及び
編集できる。
マスクを作成及び編集する方法であって；コンテキスト
を表示する測定機器上で動作するアプリケーションから
マスク・エディタを呼び出し（ステップ２４）；グラフ
ィック表示内にアプリケーションからのコンテキストを
基準として表示すると共に、コンテキストと関係のない
現在のマスクをマスク・エディタの一部として表示し
（ステップ２６及び２８）；基準に対する現在のマスク
を編集して、新たなマスクを定義し（ステップ３２）；
マスク・エディタを抜け出て、アプリケーションに戻り
（ステップ３４及び３６）；新たなマスクをアプリケー
ション内のコンテキストに適用する（ステップ３８）こ
とを特徴としている。マスクと同様に、波形も作成及び
編集できる。
【０００７】コンテキストとは、環境又は設定を意味
し、特に、本発明の特定実施例では、コンテキストは、
マスクが望まれる所望の波形表示を意味する。よって、
この場合、コンテキストは、信号波形である。また、場
合によっては、コンテキストは、マスクである。一方、
インコンテキストとは、環境又は設定と関連することを
意味し、特に、本発明の特定実施例では、所望の波形表
示に関連することを意味する。本発明は、測定機器のア
プリケーションからマスク・エディタを呼出して、マス
ク及び波形の関連した作成及び編集を行う、即ち、マス
ク及び波形を、信号波形に関連して作成及び編集を行う
ものである。ユーザは、マスクを望む信号波形の表示の
如く、関心のあるコンテキスト用に測定機器を設定す
る。アプリケーションは、コンテキスト、即ち、信号波
形をマスク・エディタに渡し、また、マスク・エディタ
が視覚基準として信号波形を表示するように、その結果
のマスク・エディタ表示を呼び出し、アプリケーション
の表示スケールに合うようにスケーリング（拡大／縮
小）する。しかし、これは、波形上のマスクに基づいて
いない。すなわち、コンテキストは、基準用に利用可能
であるが、どのようなマスクが作成できるかを制限しな
い。マスクを定義するポイント（点）が、マスク・エデ
ィタ表示の外ならば、ユーザは、総てのマスク・ポイン
トを示すように信号波形を再スケーリングできる。マス
クを作成及び編集し、マスク・エディタから出た後に、
その結果のマスクを、直接使用のための呼び出しアプリ
ケーションに戻す。すなわち、マスクをアプリケーショ
ンにインコンテキストとして戻す。
し、特に、本発明の特定実施例では、コンテキストは、
マスクが望まれる所望の波形表示を意味する。よって、
この場合、コンテキストは、信号波形である。また、場
合によっては、コンテキストは、マスクである。一方、
インコンテキストとは、環境又は設定と関連することを
意味し、特に、本発明の特定実施例では、所望の波形表
示に関連することを意味する。本発明は、測定機器のア
プリケーションからマスク・エディタを呼出して、マス
ク及び波形の関連した作成及び編集を行う、即ち、マス
ク及び波形を、信号波形に関連して作成及び編集を行う
ものである。ユーザは、マスクを望む信号波形の表示の
如く、関心のあるコンテキスト用に測定機器を設定す
る。アプリケーションは、コンテキスト、即ち、信号波
形をマスク・エディタに渡し、また、マスク・エディタ
が視覚基準として信号波形を表示するように、その結果
のマスク・エディタ表示を呼び出し、アプリケーション
の表示スケールに合うようにスケーリング（拡大／縮
小）する。しかし、これは、波形上のマスクに基づいて
いない。すなわち、コンテキストは、基準用に利用可能
であるが、どのようなマスクが作成できるかを制限しな
い。マスクを定義するポイント（点）が、マスク・エデ
ィタ表示の外ならば、ユーザは、総てのマスク・ポイン
トを示すように信号波形を再スケーリングできる。マス
クを作成及び編集し、マスク・エディタから出た後に、
その結果のマスクを、直接使用のための呼び出しアプリ
ケーションに戻す。すなわち、マスクをアプリケーショ
ンにインコンテキストとして戻す。
【０００８】本発明の目的、利点及び新規な特徴は、添
付図を参照した以下の説明から明らかになろう。
付図を参照した以下の説明から明らかになろう。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１は、試験／測定機器における
無線周波数（ＲＦ）信号の典型的な信号経路を示す。こ
のＲＦ信号は、ＲＦ信号経路モジュール１２により処理
される。ここでは、このＲＦ信号をデジタル中間周波数
（ＩＦ）信号にダウン・コンバージョンし（周波数が下
げられ）且つろ波する。デジタル・ハードウェア（Ｈ
Ｗ）モジュール１４が、デジタルＩＦ信号を処理する。
なお、このデジタル・ハードウェア・モジュール１４
は、復調機能を具えてもよい。ハードウェア・モジュー
ル１４が信号調整及び復調を既に行っていなければ、ソ
フトウェア（ＳＷ）モジュール１６が、ハードウェア・
モジュール１４で処理済みのデジタルＩＦ信号を更に処
理する。ハードウェア・モジュール１４及びソフトウェ
ア・モジュール１６が信号処理のどの部分を扱うかは、
設計上の選択の問題である。干渉ＲＦ試験、送信器ＲＦ
試験、送信器変調試験などのようにユーザが選択した測
定カテゴリに応じて、測定アルゴリズム・モジュール１
８が、調整されたデジタルＩＦ信号を処理する。これら
の処理結果が表示モジュール２０に供給される。このモ
ジュール２０は、ユーザ・インタフェース（Ｕ／Ｉ）機
能も果たす。表示モジュール２０は、処理されたコンテ
キスト又は信号データを示す表示スクリーン２２を含ん
でいる。
無線周波数（ＲＦ）信号の典型的な信号経路を示す。こ
のＲＦ信号は、ＲＦ信号経路モジュール１２により処理
される。ここでは、このＲＦ信号をデジタル中間周波数
（ＩＦ）信号にダウン・コンバージョンし（周波数が下
げられ）且つろ波する。デジタル・ハードウェア（Ｈ
Ｗ）モジュール１４が、デジタルＩＦ信号を処理する。
なお、このデジタル・ハードウェア・モジュール１４
は、復調機能を具えてもよい。ハードウェア・モジュー
ル１４が信号調整及び復調を既に行っていなければ、ソ
フトウェア（ＳＷ）モジュール１６が、ハードウェア・
モジュール１４で処理済みのデジタルＩＦ信号を更に処
理する。ハードウェア・モジュール１４及びソフトウェ
ア・モジュール１６が信号処理のどの部分を扱うかは、
設計上の選択の問題である。干渉ＲＦ試験、送信器ＲＦ
試験、送信器変調試験などのようにユーザが選択した測
定カテゴリに応じて、測定アルゴリズム・モジュール１
８が、調整されたデジタルＩＦ信号を処理する。これら
の処理結果が表示モジュール２０に供給される。このモ
ジュール２０は、ユーザ・インタフェース（Ｕ／Ｉ）機
能も果たす。表示モジュール２０は、処理されたコンテ
キスト又は信号データを示す表示スクリーン２２を含ん
でいる。
【００１０】図２は、本発明によりマスク／波形の関連
した作成／編集の過程を示す流れ図である。選択した測
定アルゴリズム、即ち、アプリケーションは、ステップ
２４にて、マスク・エディタを呼び出す。ステップ２６
にて、マスク・エディタは、アプリケーションからのコ
ンテキスト、即ち、波形のグラフィック表示を行う。ス
テップ２８にて、予め選択したマスク、即ち、ディフォ
ルト・マスクを現在のマスクとしてグラフィック表示上
に示す。かかるマスクは、表示された波形に関係しな
い。ステップ３０及び３２において、波形に関連して、
所望に応じて、現在のマスクを変更して、新たなマスク
を発生する。すなわち、判断ステップ３０でマスクが変
更されていない（ノー）と判断されると、ステップ３２
でマスクを変更し、ステップ３０に戻る。この変更が完
了すると、ステップ３０がイエスとなり、ステップ３４
に進む。このステップ３４にて、新たなマスクをマスク
・ファイルにセーブし、ステップ３６にて、マスク・エ
ディタを閉じ、制御をアプリケーションに戻す。ステッ
プ３８にて、アプリケーション内で、マスク・ファイル
を開いて、インコンテキスト（関連した）マスクの作成
及び編集を完了する。
した作成／編集の過程を示す流れ図である。選択した測
定アルゴリズム、即ち、アプリケーションは、ステップ
２４にて、マスク・エディタを呼び出す。ステップ２６
にて、マスク・エディタは、アプリケーションからのコ
ンテキスト、即ち、波形のグラフィック表示を行う。ス
テップ２８にて、予め選択したマスク、即ち、ディフォ
ルト・マスクを現在のマスクとしてグラフィック表示上
に示す。かかるマスクは、表示された波形に関係しな
い。ステップ３０及び３２において、波形に関連して、
所望に応じて、現在のマスクを変更して、新たなマスク
を発生する。すなわち、判断ステップ３０でマスクが変
更されていない（ノー）と判断されると、ステップ３２
でマスクを変更し、ステップ３０に戻る。この変更が完
了すると、ステップ３０がイエスとなり、ステップ３４
に進む。このステップ３４にて、新たなマスクをマスク
・ファイルにセーブし、ステップ３６にて、マスク・エ
ディタを閉じ、制御をアプリケーションに戻す。ステッ
プ３８にて、アプリケーション内で、マスク・ファイル
を開いて、インコンテキスト（関連した）マスクの作成
及び編集を完了する。
【００１１】図３は、符号分割多元接続（ＣＤＭＡ）シ
ステムを分析などを行うアプリケーション用のスクリー
ンを示し、ＲＦ信号の一部を表す波形４０をグラフィッ
ク表示４２内に示す。図示した実施例において、プルダ
ウン・メニュー４４をアクセスして、マスク・エディタ
を呼び出すことができる。なお、この実施例では、マス
ク・エディタは、「Mask Maker （マスク・メーカ
ー）」と名付けられている。マスク・エディタを呼び出
す他の手段には、「接触」検知機能を有するスクリーン
（タッチ・スクリーン）上の「ボタン」がある。このア
プリケーションは、波形をマスク・エディタに送り、ス
クリーン上のマスク・エディタのグラフィック表示４６
（図４及び図５）をスケーリング（拡大／縮小）して、
呼び出すアプリケーションのグラフィック表示に合わせ
る。なお、図４は、本発明によりマスク／波形の関連し
た作成／編集用に呼び出されたマスク・エディタのスク
リーン表示を示す図であり、図５は、本発明によるマス
ク／波形の関連した作成／編集を示すマスク・エディタ
のスクリーンの表示を示す図であり、図６は、本発明に
よりマスク／波形の関連した作成／編集の結果であるマ
スクを受け入れを示すアプリケーションによるスクリー
ンの表示を示す図である。これらの波形及びマスク表示
では、横（ｘ）軸がＭＨｚ単位の周波数を表し、縦
（ｙ）軸がｄＢｍ単位の大きさを表す。マスク４８も表
示するが、マスク・エディタは、波形を視覚基準として
表示し、マスクをその基準としない。当業者に既知の如
く、マスク４８は、図示の如く単一のトレースでもよ
く、最大限界及び最小限界を与えるように多数のトレー
スでもよい。
ステムを分析などを行うアプリケーション用のスクリー
ンを示し、ＲＦ信号の一部を表す波形４０をグラフィッ
ク表示４２内に示す。図示した実施例において、プルダ
ウン・メニュー４４をアクセスして、マスク・エディタ
を呼び出すことができる。なお、この実施例では、マス
ク・エディタは、「Mask Maker （マスク・メーカ
ー）」と名付けられている。マスク・エディタを呼び出
す他の手段には、「接触」検知機能を有するスクリーン
（タッチ・スクリーン）上の「ボタン」がある。このア
プリケーションは、波形をマスク・エディタに送り、ス
クリーン上のマスク・エディタのグラフィック表示４６
（図４及び図５）をスケーリング（拡大／縮小）して、
呼び出すアプリケーションのグラフィック表示に合わせ
る。なお、図４は、本発明によりマスク／波形の関連し
た作成／編集用に呼び出されたマスク・エディタのスク
リーン表示を示す図であり、図５は、本発明によるマス
ク／波形の関連した作成／編集を示すマスク・エディタ
のスクリーンの表示を示す図であり、図６は、本発明に
よりマスク／波形の関連した作成／編集の結果であるマ
スクを受け入れを示すアプリケーションによるスクリー
ンの表示を示す図である。これらの波形及びマスク表示
では、横（ｘ）軸がＭＨｚ単位の周波数を表し、縦
（ｙ）軸がｄＢｍ単位の大きさを表す。マスク４８も表
示するが、マスク・エディタは、波形を視覚基準として
表示し、マスクをその基準としない。当業者に既知の如
く、マスク４８は、図示の如く単一のトレースでもよ
く、最大限界及び最小限界を与えるように多数のトレー
スでもよい。
【００１２】図示の如く、マスク・エディタのスクリー
ンは、このスクリーンの上部に横方向に配置された「Ne
w Mask （新たなマスク）」、「Open （開く）」、「Sa
ve（セーブ）」、「Save As ・・・（・・・としてセー
ブ）」、「Done （完了）」の如き複数のボタン４１、
４３、４５、４７、４９を含むことができる（図５）。
New Mask ボタンは４１は、現在表示されている如何な
るマスクも閉じて、同じ単位でディフォルトのマスクを
作成する。マスク・エディタが呼出されたときのよう
に、波形を示したまま、グラフィック表示は、同じスケ
ール及び位置にリセットされる。閉じようとしている現
在のマスクに、セーブされていない変更があれば、ダイ
アログ（対話）ボックスが呼出されて、かかる変更をセ
ーブするか否かを問い合わせる。ディフォルト・マスク
は、円錐状マスクの如き任意所望のマスクでもよく、垂
直値は、図の高さの約２５％又は７５％であり、水平値
は、図の幅の０％、２０％、４０％、６０％、８０％又
は１００％である。Openボタン４３は、Windows（登録
商標）オペレーティング・システムに共通の如き標準オ
ープン・ダイアログを呼出して、例えば、現在のマスク
と交換するために、予め蓄積されたマスクを選択する。
同様に、Saveボタン４５は、標準セーブ・ダイアログを
呼出して、既に特定されたファイルに、又は、ユーザが
識別した新たなファイルに、現在のマスクをセーブす
る。Save Asボタン４７も標準のセーブ・ダイアログを
呼出して、このマスクの新たなファイルをユーザが特定
できるようにする。最後に、Doneボタン４９は、マスク
・エディタを抜け出て、呼び出しアプリケーションに戻
る。マスクに対する変更をまだセーブしていなければ、
抜け出る前に、ダイアログ・ボックスが開く。
ンは、このスクリーンの上部に横方向に配置された「Ne
w Mask （新たなマスク）」、「Open （開く）」、「Sa
ve（セーブ）」、「Save As ・・・（・・・としてセー
ブ）」、「Done （完了）」の如き複数のボタン４１、
４３、４５、４７、４９を含むことができる（図５）。
New Mask ボタンは４１は、現在表示されている如何な
るマスクも閉じて、同じ単位でディフォルトのマスクを
作成する。マスク・エディタが呼出されたときのよう
に、波形を示したまま、グラフィック表示は、同じスケ
ール及び位置にリセットされる。閉じようとしている現
在のマスクに、セーブされていない変更があれば、ダイ
アログ（対話）ボックスが呼出されて、かかる変更をセ
ーブするか否かを問い合わせる。ディフォルト・マスク
は、円錐状マスクの如き任意所望のマスクでもよく、垂
直値は、図の高さの約２５％又は７５％であり、水平値
は、図の幅の０％、２０％、４０％、６０％、８０％又
は１００％である。Openボタン４３は、Windows（登録
商標）オペレーティング・システムに共通の如き標準オ
ープン・ダイアログを呼出して、例えば、現在のマスク
と交換するために、予め蓄積されたマスクを選択する。
同様に、Saveボタン４５は、標準セーブ・ダイアログを
呼出して、既に特定されたファイルに、又は、ユーザが
識別した新たなファイルに、現在のマスクをセーブす
る。Save Asボタン４７も標準のセーブ・ダイアログを
呼出して、このマスクの新たなファイルをユーザが特定
できるようにする。最後に、Doneボタン４９は、マスク
・エディタを抜け出て、呼び出しアプリケーションに戻
る。マスクに対する変更をまだセーブしていなければ、
抜け出る前に、ダイアログ・ボックスが開く。
【００１３】また、「edit points（編集ポイント）」
又は「add points（追加ポイント）」の間での選択も行
われる。「編集ポイント」が選択されると、マスク４８
からのマスク・ポイント５０（図５）を識別することに
より、そのポイントを選択する。また、ポイントが２つ
以上ならば、これらポイントが属するトレースを選択す
る。タッチ・スクリーンに接触したり、いくつかの他の
既知の手段により、マスク・ポイント５０を識別でき
る。識別されたマスク・ポイント５０を、マスク・エデ
ィタ表示４６内の新たな場所に「ドラッグ」（引きずる
ことが）できる。新たな場所は、マスク・ポイントの水
平順序を変更して、マスク・トレース及び文字盤テキス
ト（図４の表示の右下のテキスト表示の表、図５の５
９）を新たな順序に変更してもよい。タッチ・スクリー
ン又は他の適切な手段によって、「追加ポイント」を選
択し、マスク・エディタ表示４６内の場所を識別する
と、そのポイントにてマスク４８に新たなポイントを挿
入する。この新たなポイントが既存のマスク・ポイント
の正確に同じ水平場所ならば、一方の側又は他方の側の
新たな水平場所に新たなポイントを挿入する。
又は「add points（追加ポイント）」の間での選択も行
われる。「編集ポイント」が選択されると、マスク４８
からのマスク・ポイント５０（図５）を識別することに
より、そのポイントを選択する。また、ポイントが２つ
以上ならば、これらポイントが属するトレースを選択す
る。タッチ・スクリーンに接触したり、いくつかの他の
既知の手段により、マスク・ポイント５０を識別でき
る。識別されたマスク・ポイント５０を、マスク・エデ
ィタ表示４６内の新たな場所に「ドラッグ」（引きずる
ことが）できる。新たな場所は、マスク・ポイントの水
平順序を変更して、マスク・トレース及び文字盤テキス
ト（図４の表示の右下のテキスト表示の表、図５の５
９）を新たな順序に変更してもよい。タッチ・スクリー
ン又は他の適切な手段によって、「追加ポイント」を選
択し、マスク・エディタ表示４６内の場所を識別する
と、そのポイントにてマスク４８に新たなポイントを挿
入する。この新たなポイントが既存のマスク・ポイント
の正確に同じ水平場所ならば、一方の側又は他方の側の
新たな水平場所に新たなポイントを挿入する。
【００１４】大きさを再調整するボタンは、現在のマス
ク用の総てのマスク・ポイントをマスク・エディタ表示
内に配置する。マスクの左縁は、任意のマスク・ポイン
トに対する最小水平値となり、マスクの右縁は、任意の
マスク・ポイントに対する最大水平値となる。マスク・
ポイントは、マスク・エディタ表示４６の、例えば９０
％の垂直的に中間の位置内となるはずである。大きさの
再調整は、波形を考慮しない。ボタン５３、５５、５７
は、ポイントの除去、トレースの除去（マスク・トレー
スを形成する総てのポイント）及び除去の取り消し用に
設ける。トレース選択器５２は、選択されたポイント５
０が属するマスクのトレースがどれかを示し、ユーザが
既存のトレースの１つを選択できるようにする。「High
Limit（上限）」は、波形と比較するために、マスクの
選択したトレースを上限に割り当てる。また、「Low Li
mit（下限）」は、波形と比較するために、マスクの選
択したトレースを下限に割り当てる。
ク用の総てのマスク・ポイントをマスク・エディタ表示
内に配置する。マスクの左縁は、任意のマスク・ポイン
トに対する最小水平値となり、マスクの右縁は、任意の
マスク・ポイントに対する最大水平値となる。マスク・
ポイントは、マスク・エディタ表示４６の、例えば９０
％の垂直的に中間の位置内となるはずである。大きさの
再調整は、波形を考慮しない。ボタン５３、５５、５７
は、ポイントの除去、トレースの除去（マスク・トレー
スを形成する総てのポイント）及び除去の取り消し用に
設ける。トレース選択器５２は、選択されたポイント５
０が属するマスクのトレースがどれかを示し、ユーザが
既存のトレースの１つを選択できるようにする。「High
Limit（上限）」は、波形と比較するために、マスクの
選択したトレースを上限に割り当てる。また、「Low Li
mit（下限）」は、波形と比較するために、マスクの選
択したトレースを下限に割り当てる。
【００１５】「Add new trace（新たなトレースを追
加）」ボタン５４、５６、５８、６０、６２も設けてあ
り、マスク・トレースの特定の形状をこれらボタンで示
す。これら形状ボタンの任意のものが選択されると、そ
の形状のトレースがマスク・エディタ表示４６にマスク
４８の一部として追加される。この結果により得られた
マスク・トレースは、マスク・エディタ表示４６内の任
意特定のポイントで開始し終了するが、典型的には、表
示の左縁で開始し、表示の右端で終了する。文字盤５９
は、マスク４８の選択されたトレースの各ポイント用の
水平値及び垂直値用の列を含んでいる。ラベルが単位を
表す。マスク・ポイントの数が表示文字盤の大きさを超
えたならば、文字盤５９を垂直にスクロールできる。矢
印ボタン６１、６３、６５、６７を設けて、例えば、水
平に０．５％だけで、垂直に１．０％だけ、選択された
マスク・ポイント５０の値を増加又は減少できる。値の
増減に自動的な繰り返しを含んでもよいが、加速は望ま
しくない。例えば、上方矢印ボタン６３又は下方矢印ボ
タン６７を選択すると、選択されたポイント用の文字盤
５９におけるＹセルが選択される（強調表示で示す）。
左方向矢印ボタン６１又は右方向矢印ボタン６５が選択
されると、選択されたポイント用の文字盤におけるＸセ
ルが選択される。数字ボタン・アイコン６４を選択し
て、矢印ボタンを数字キー・パッド（図示せず）と交換
してもよい。この状態において、矢印ボタン６１、６
３、６５、６７を矢印ボタン・アイコン（図示せず）と
交換する。
加）」ボタン５４、５６、５８、６０、６２も設けてあ
り、マスク・トレースの特定の形状をこれらボタンで示
す。これら形状ボタンの任意のものが選択されると、そ
の形状のトレースがマスク・エディタ表示４６にマスク
４８の一部として追加される。この結果により得られた
マスク・トレースは、マスク・エディタ表示４６内の任
意特定のポイントで開始し終了するが、典型的には、表
示の左縁で開始し、表示の右端で終了する。文字盤５９
は、マスク４８の選択されたトレースの各ポイント用の
水平値及び垂直値用の列を含んでいる。ラベルが単位を
表す。マスク・ポイントの数が表示文字盤の大きさを超
えたならば、文字盤５９を垂直にスクロールできる。矢
印ボタン６１、６３、６５、６７を設けて、例えば、水
平に０．５％だけで、垂直に１．０％だけ、選択された
マスク・ポイント５０の値を増加又は減少できる。値の
増減に自動的な繰り返しを含んでもよいが、加速は望ま
しくない。例えば、上方矢印ボタン６３又は下方矢印ボ
タン６７を選択すると、選択されたポイント用の文字盤
５９におけるＹセルが選択される（強調表示で示す）。
左方向矢印ボタン６１又は右方向矢印ボタン６５が選択
されると、選択されたポイント用の文字盤におけるＸセ
ルが選択される。数字ボタン・アイコン６４を選択し
て、矢印ボタンを数字キー・パッド（図示せず）と交換
してもよい。この状態において、矢印ボタン６１、６
３、６５、６７を矢印ボタン・アイコン（図示せず）と
交換する。
【００１６】特別の場合には、色を用いて、マーカ・エ
ディタ表示４６内の種々の要素を強調してもよい。例え
ば、波形４０が灰色でもよく、選択されたマスク・トレ
ースが明るい青で、他の総てのマスク・トレースが暗い
青でもよい。また、選択されたポイント５０が赤い丸
で、他のポイントが緑の矩形又はマゼンタの菱形でもよ
い。
ディタ表示４６内の種々の要素を強調してもよい。例え
ば、波形４０が灰色でもよく、選択されたマスク・トレ
ースが明るい青で、他の総てのマスク・トレースが暗い
青でもよい。また、選択されたポイント５０が赤い丸
で、他のポイントが緑の矩形又はマゼンタの菱形でもよ
い。
【００１７】上述のマスク作成／編集を終了し、「Don
e」ボタン４９を活性化すると、図６に示すように、マ
スク・エディタを抜け出し、アプリケーションが再呼び
出しされ、波形４０に関連してマスク・エディタからの
現在のマスク４８も表示される。
e」ボタン４９を活性化すると、図６に示すように、マ
スク・エディタを抜け出し、アプリケーションが再呼び
出しされ、波形４０に関連してマスク・エディタからの
現在のマスク４８も表示される。
【００１８】このマスク・エディタは、マスクではな
く、任意波形発生器（測定機器の一種）による出力用に
波形を作成／編集するのにも有用である。ここでは、上
述のように、単一のトレースを用いると共に複数のポイ
ントを操作して、波形４０の理想的なものを形成でき
る。または、１対のトレースを用いて、他の波形に対す
る変調信号を表してもよい。なお、かかる変調信号は、
これら１対のトレースが示す限界の間で振動する。さら
に、ユーザは、数字キー・パッドを用いて、表示波形の
周囲の許容差を、例えば、垂直が＋／−１０％で水平が
＋／−２マイクロ秒の如く、入力できる。この場合の本
発明は、測定機器用の波形を作成及び編集する方法であ
って；コンテキストを表示する測定機器上で動作するア
プリケーションからエディタを呼び出し；グラフィック
表示内にアプリケーションからのコンテキストを基準と
して表示すると共に、コンテキストと関係のない現在の
波形をエディタの一部として表示し；基準に対する上記
現在の波形を編集して、新たな波形を定義し；エディタ
を抜け出て、アプリケーションに戻り；新たな波形を上
記アプリケーション内のコンテキストに適用する。
く、任意波形発生器（測定機器の一種）による出力用に
波形を作成／編集するのにも有用である。ここでは、上
述のように、単一のトレースを用いると共に複数のポイ
ントを操作して、波形４０の理想的なものを形成でき
る。または、１対のトレースを用いて、他の波形に対す
る変調信号を表してもよい。なお、かかる変調信号は、
これら１対のトレースが示す限界の間で振動する。さら
に、ユーザは、数字キー・パッドを用いて、表示波形の
周囲の許容差を、例えば、垂直が＋／−１０％で水平が
＋／−２マイクロ秒の如く、入力できる。この場合の本
発明は、測定機器用の波形を作成及び編集する方法であ
って；コンテキストを表示する測定機器上で動作するア
プリケーションからエディタを呼び出し；グラフィック
表示内にアプリケーションからのコンテキストを基準と
して表示すると共に、コンテキストと関係のない現在の
波形をエディタの一部として表示し；基準に対する上記
現在の波形を編集して、新たな波形を定義し；エディタ
を抜け出て、アプリケーションに戻り；新たな波形を上
記アプリケーション内のコンテキストに適用する。
【００１９】
【発明の効果】したがって、本発明の方法は、アプリケ
ーションからエディタを呼び出し、現在のマスク又はデ
ィフォルトのマスクを有するグラフィック・ウィンドウ
内にアプリケーションからの波形を表示し、現在のマス
クを編集して新たなマスクを定義し、アプリケーション
に戻って、この新たなマスクをこのアプリケーションで
用いるようにして、作成及び編集を行える。また、マス
クではなく、波形も同様に作成及び編集できる。このよ
うに、本発明は、マスク及び波形の関連した作成及び編
集を行える。よって、本発明によれば、外部機器を用い
ることなく、試験測定機器用の波形テンプレートやマス
クを一層簡単且つ高速に作成及び編集できる。
ーションからエディタを呼び出し、現在のマスク又はデ
ィフォルトのマスクを有するグラフィック・ウィンドウ
内にアプリケーションからの波形を表示し、現在のマス
クを編集して新たなマスクを定義し、アプリケーション
に戻って、この新たなマスクをこのアプリケーションで
用いるようにして、作成及び編集を行える。また、マス
クではなく、波形も同様に作成及び編集できる。このよ
うに、本発明は、マスク及び波形の関連した作成及び編
集を行える。よって、本発明によれば、外部機器を用い
ることなく、試験測定機器用の波形テンプレートやマス
クを一層簡単且つ高速に作成及び編集できる。
【図１】本発明によりマスク／波形の関連した作成／編
集に用いることができる測定機器の信号経路を示すブロ
ック図である。
集に用いることができる測定機器の信号経路を示すブロ
ック図である。
【図２】本発明によりマスク／波形の関連した作成／編
集の過程を示す流れ図である。
集の過程を示す流れ図である。
【図３】本発明によりマスク／波形の関連した作成／編
集を呼び出すアプリケーション・スクリーンの表示を示
す図である。
集を呼び出すアプリケーション・スクリーンの表示を示
す図である。
【図４】本発明によりマスク／波形の関連した作成／編
集用に呼び出されたマスク・エディタのスクリーン表示
を示す図である。
集用に呼び出されたマスク・エディタのスクリーン表示
を示す図である。
【図５】本発明によるマスク／波形の関連した作成／編
集を示すマスク・エディタのスクリーンの表示を示す図
である。
集を示すマスク・エディタのスクリーンの表示を示す図
である。
【図６】本発明によりマスク／波形の関連した作成／編
集の結果であるマスクを受け入れを示すアプリケーショ
ン・スクリーンの表示を示す図である。
集の結果であるマスクを受け入れを示すアプリケーショ
ン・スクリーンの表示を示す図である。
１２ ＲＦ信号経路モジュール
１４ デジタル・ハードウェア・モジュール
１６ ソフトウェア・モジュール
１８ 測定アルゴリズム・モジュール
２０ 表示モジュール
４０ 波形
４２ グラフィック表示
４４ プルダウン・メニュー
４６ マーカ・エディタ表示
４８ マスク
５０ マスク・ポイント
Claims (7)
- 【請求項１】 測定機器用のマスクを作成及び編集する
方法であって、 コンテキストを表示する上記測定機器上で動作するアプ
リケーションからマスク・エディタを呼び出し、 グラフィック表示内に上記アプリケーションからのコン
テキストを基準として表示すると共に、上記コンテキス
トと関係のない現在のマスクを上記マスク・エディタの
一部として表示し、 上記基準に対する上記現在のマスクを編集して、新たな
マスクを定義し、 上記マスク・エディタを抜け出て、上記アプリケーショ
ンに戻り、 上記新たなマスクを上記アプリケーション内の上記コン
テキストに適用することを特徴とする測定機器用マスク
の作成及び編集方法。 - 【請求項２】 上記マスク・エディタを呼び出すステッ
プは、 上記アプリケーション内のメニューにアクセスし、 上記メニューから上記マスク・エディタを選択すること
を特徴とする請求項１の方法。 - 【請求項３】 上記マスク・エディタを呼び出すステッ
プは、上記マスク・エディタを表すアプリケーション内
のボタンをアクセスすることを特徴とする請求項１の方
法。 - 【請求項４】 上記現在のマスクを上記基準と共に上記
グラフィック・ウィンドウ内で中心とするステップを更
に具えることを特徴とする請求項１の方法。 - 【請求項５】 上記編集するステップは、 編集ポイント機能及び追加ポイント機能の間で選択を行
い、 選択した機能に応じて上記現在のマスクを定義するポイ
ントを操作して、上記新たなマスクを定義することを特
徴とする請求項１の方法。 - 【請求項６】 上記抜け出るステップは、 上記新たなマスクを指定されたマスク・ファイル内に蓄
積し、 上記測定機器の制御を上記アプリケーションに戻すこと
を特徴とする請求項１の方法。 - 【請求項７】 測定機器用の波形を作成及び編集する方
法であって、 コンテキストを表示する上記測定機器上で動作するアプ
リケーションからエディタを呼び出し、 グラフィック表示内に上記アプリケーションからのコン
テキストを基準として表示すると共に、上記コンテキス
トと関係のない現在の波形を上記エディタの一部として
表示し、 上記基準に対する上記現在の波形を編集して、新たな波
形を定義し、 上記エディタを抜け出て、上記アプリケーションに戻
り、 上記新たな波形を上記アプリケーション内の上記コンテ
キストに適用することを特徴とする測定機器用波形の作
成及び編集方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US10/011821 | 2001-11-06 | ||
| US10/011,821 US7159187B2 (en) | 2001-11-06 | 2001-11-06 | In-context creation and editing of masks and waveforms |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003194855A true JP2003194855A (ja) | 2003-07-09 |
| JP4625975B2 JP4625975B2 (ja) | 2011-02-02 |
Family
ID=21752106
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002320848A Expired - Lifetime JP4625975B2 (ja) | 2001-11-06 | 2002-11-05 | 測定機器用マスク及び波形の作成及び編集方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7159187B2 (ja) |
| JP (1) | JP4625975B2 (ja) |
| DE (1) | DE10250183B4 (ja) |
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| JP2008026188A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-07 | Tektronix Japan Ltd | 信号分析装置及び信号分析装置用プログラム |
| JP2009145344A (ja) * | 2007-12-13 | 2009-07-02 | Tektronix Inc | 周波数領域マスクの自動発生方法 |
| JP2014216030A (ja) * | 2013-04-26 | 2014-11-17 | テクトロニクス・インコーポレイテッドＴｅｋｔｒｏｎｉｘ，Ｉｎｃ． | 波形生成システム及び方法 |
| JP2015222253A (ja) * | 2014-05-22 | 2015-12-10 | テクトロニクス・インコーポレイテッドＴｅｋｔｒｏｎｉｘ，Ｉｎｃ． | 波形分析システム及び方法 |
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| DE102009051370A1 (de) * | 2009-06-04 | 2010-12-09 | Rohde & Schwarz Gmbh & Co Kg | Messkoppler in Bandleitertechnik |
| DE102010020910B4 (de) | 2009-12-17 | 2019-02-28 | Rohde & Schwarz Gmbh & Co. Kg | Verfahren und Vorrichtungen zur Ermittlung einer Frequenzmaske für ein Frequenzspektrum |
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| DE10250183A1 (de) | 2003-05-22 |
| DE10250183B4 (de) | 2008-04-10 |
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