JP4624406B2 - ワークピース処理用シングルチャンバ - Google Patents
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Description
マイクロ電子デバイスは、多彩な製品に使用されている。これらデバイス(メモリおよびマイクロプロセッサチップを含むがこれらに限定されない)は、コンピュータ、電話、音声装置、および、他の電子消費財に使用されている。長年にわたって、製造業者は、このようなマイクロ電子デバイスを改良してきた。例えば、製造業者は、処理速度がより速く、他の特性も改善し、同時に、コストも下げて、エンドユーザに届く低価格の新たなマイクロプロセッサチップを考案してきた。このような低価格となったために、このようなマイクロ電子デバイスは、家電製品、自動車、ならびに、玩具およびゲームといった低価格商品など、従来は使用されなかった製品あるいは控えめにしか使用されなかった製品にも使用できるようになってきた。このような製品にマイクロ電子デバイスの使用が増加したことで、これら製品の製造業者は、製品コストを下げ、新たな特徴を有し、製品の信頼性の向上した製品の提供が可能となった。これらマイクロ電子デバイスの速度、汎用性、コスト効率が向上したことで、全く新たなタイプの製品を創出することまでも、容易になった。
本発明は、半導体ウェハ処理用システムに関する。本システムは、多数のプロセスチャンバを含み得る。これらプロセスチャンバの少なくとも1つは、新たなプロセスチャンバである。本発明は、また、この新たなチャンバを用いて、半導体ウェハを加工処理する方法でもある。
本発明は、半導体ウェハ処理システム、本システムの一部である新たなプロセスチャンバ、および、半導体ウェハを処理する新たな方法で、好ましくは、この新たなプロセスチャンバを使用する方法である。
Claims (9)
- 半導体ウェハを処理するプロセスチャンバであって、該チャンバは、
(a)該プロセスチャンバ内の少なくとも1つのロータであって、該ロータは、ウェハの受け入れおよび/または処理に適合されている、ロータと、
(b)該プロセスチャンバの最上部のチルト可能なリムであって、該チルト可能なリムは、非傾斜位置から傾斜位置まで該ロータとは独立にチルトし、該リムが該傾斜位置にあるとき、該プロセスチャンバへのウェハの取り入れと、該プロセスチャンバからのウェハの取り出しとを可能にする、チルト可能なリムと
を備える、プロセスチャンバ。 - ピボットアームをさらに備え、
該アームは、前記ウェハに処理用流体を配送するために該アームが該ウェハの上に配置される第一の位置から、該アームが該ウェハの側面に配置される第二の位置まで移動可能である、請求項1に記載のプロセスチャンバ。 - 上向きに配置されたシュラウドであって、前記プロセスチャンバの一部を前記チルト可能なリムより下で囲むシュラウドをさらに備える、請求項1に記載のプロセスチャンバ。
- 前記チルト可能なリムの内部に配置された排気口をさらに備える、請求項3に記載のプロセスチャンバ。
- 前記排気口は、上端部を含み、
該排気口の上端部は、前記ウェハが前記プロセスチャンバの上部コンパートメントにあるとき、該ウェハの水平面より下に位置する、請求項4に記載のプロセスチャンバ。 - 前記チルト可能なリムの内部に位置する少なくとも1つのチャネルであって、ウェハ加工処理用流体の回収および/または移送に適合されているチャネルをさらに備える、請求項1に記載のプロセスチャンバ。
- プロセスチャンバ内で半導体ウェハを加工処理するプロセスであって、該プロセスは、
(a)該プロセスチャンバの最上部にあるチルト可能なリムを非傾斜位置から傾斜位置までチルトすることにより、該プロセスチャンバを開くことと、
(b)該プロセスチャンバ内に位置するロータ上にウェハを挿入することであって、該ロータは、非傾斜位置にある、ことと、
(c)少なくとも1つの処理ステップを該プロセスチャンバ内の該ウェハに受けさせることと、
(d)該プロセスチャンバから該ウェハを取り出すことと
を包含する、プロセス。 - 前記ウェハを前記プロセスチャンバの上部コンパートメントから、該プロセスチャンバの下部コンパートメントまで下げることと、
該下部コンパートメント内で該ウェハを処理することと、
該ウェハを該上部コンパートメントに戻すことと、
該ウェハを乾燥させることと
を包含する、請求項7に記載のプロセス。 - 前記ウェハを反転および移動する装置であって、該ウェハの第一の面を下向き位置に反転し、処理するために該ウェハを前記プロセスチャンバの上部コンパートメントから該プロセスチャンバの下部コンパートメントに移動する装置をさらに備え、
(e)該ウェハを反転および移動する該装置は、次いで、該プロセスチャンバの該上部コンパートメントに、かつ、該第一の面が上向きになる位置に、該ウェハを戻し、(f)該プロセスチャンバから該加工処理されたウェハを取り出す、請求項1に記載のプロセスチャンバ。
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