KR100765901B1 - 기판 처리 장치 및 상기 장치에서 기판을 로딩하는 방법 - Google Patents

기판 처리 장치 및 상기 장치에서 기판을 로딩하는 방법 Download PDF

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이종석
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Abstract

본 발명은 공정이 완료된 제 1 기판을 지지부재로부터 언로딩하고, 공정을 수행할 제 2 기판을 지지부재로 로딩하는 과정을 신속하게 수행할 수 있는 장치를 제공한다. 본 발명에 의하면, 이송 유닛은 독립적으로 구동되는 로딩용 블레이드와 언로딩용 블레이드를 가진다.
제 2 기판이 로딩용 블레이드에 로딩된 상태에서, 지지부재로부터 들어올려진 제 1 기판이 로딩용 블레이드와 언로딩용 블레이드 사이에 위치되도록 로딩용 블레이드와 언로딩용 블레이드가 지지 부재의 상부로 이동되고, 리프트 핀들의 하강에 의해 제 1 기판이 리프트 핀들로부터 언로딩용 블레이드로 인계되면 언로딩용 블레이드가 지지부재의 상부으로부터 벗어나도록 이동되고, 이후 리프트 핀들의 승강에 의해 제 2 기판이 리프트 핀들로 인계되면, 로딩용 블레이드는 지지부재의 상부로부터 벗어나도록 이동되고 리프트 핀들의 하강에 의해 제 2 기판이 지지부재 상에 안착된다.
이송 유닛, 로딩용 블레이드, 언로딩용 블레이드, 리프트 핀

Description

기판 처리 장치 및 상기 장치에서 기판을 로딩하는 방법{APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE AND METHOD FOR LOADING SUBSTRATE IN THE APPARATUS}
도 1은 본 발명의 기판 처리 장치의 일 예를 개략적으로 보여주는 평면도;
도 2는 도 1의 이송 유닛의 사시도;
도 3은 공정 챔버로 유입되는 로딩용 블레이드와 언로딩용 블레이드의 위치를 보여주는 정면도;
도 4는 도 1의 공정 챔버의 단면도;
도 5는 도 4의 리프트 핀 어셈블리의 사시도;
도 6은 하우징 내부를 상부에서 바라본 평면도; 그리고
도 7a 내지 7j는 기판을 지지 부재에 로딩하는 과정을 순차적으로 보여주는 도면들이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 이송 유닛 160a : 로딩용 블레이드
160b : 언로딩용 블레이드 200 : 하우징
220 : 지지 부재 240 : 가스 공급 부재
260 : 샤워 헤드 280 : 도어
300 : 리프트 핀 어셈블리 320 : 리프트 핀
본 발명은 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것으로 더 상세하게는 지지 부재에 놓인 기판을 언로딩하고 지지 부재로 새로운 기판을 로딩하는 과정을 신속하게 수행할 수 있는 장치 및 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자는 증착, 사진, 식각, 그리고 연마 등과 같은 다양한 단위 공정들의 반복적인 수행에 의해 제조된다. 이들 공정들 중 많은 수의 공정들은 기판의 처리면이 상부를 향하도록 척과 같은 지지 부재에 놓인 상태에서 이루어진다. 일반적인 장치에서 기판들이 척에 로딩되는 과정은 다음과 같다. 이송 아암에 의해 기판은 공정 챔버 내 척의 상부로 이동되고, 척에 형성된 관통홀을 통해 척의 상부까지 승강된 리프트 핀으로 기판은 인계된다. 리프트 핀의 하강에 의해 기판은 척에 안착되고, 공정이 진행된다. 공정이 완료되면 리프트 핀이 승강되어 기판이 척으로부터 이격되고, 이송 아암은 공정이 완료된 기판을 챔버로부터 꺼낸다. 이후, 이송 아암은 새로운 기판을 공정 챔버 내 척의 상부로 이동된다. 상술한 과정은 반복된다.
이와 같은 방법에 의하면, 공정챔버에서 기판을 교체하기 위해서 이송 아암이 공정이 완료된 기판을 공정챔버로부터 꺼내어 다른 장소(용기, 버퍼 공간, 이송 유닛 등)로 이동시키고, 다음에 공정이 수행될 기판을 다른 장소에서 꺼내어 공정챔버 내로 이동시켜야 한다. 따라서 기판 교체에 많은 시간이 소요되어 장치의 가 동률이 저하된다.
본 발명은 지지 부재에 기판을 로딩 및 언로딩하는 과정을 신속하게 수행할 수 있는 장치 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 본 발명의 장치는 기판이 놓여지는 지지 부재, 상기 지지 부재로 기판을 이송하는 이송 유닛, 그리고 상기 지지 부재와 이송 유닛 간에 기판을 인계하는 리프트 핀을 포함한다. 상기 이송 유닛은 상기 지지 부재로 로딩되는 기판이 놓여지며 상기 리프트 핀으로 기판을 인계하는 로딩용 블레이드, 상기 공정 챔버 내에서 상기 로딩용 블레이드보다 아래에 위치되며 상기 리프트 핀으로부터 기판을 인수받는 언로딩용 블레이드, 그리고 상기 로딩용 블레이드와 상기 언로딩용 블레이드를 독립적으로 구동시키는 구동기를 가진다.
또한, 본 발명은 지지 부재 상에 놓여진 제 1 기판을 상기 지지 부재로부터 언로딩하고, 제 2 기판을 상기 지지 부재에 로딩하는 방법을 제공한다. 본 발명의 방법에 의하면, 리프트 핀들을 승강하여 상기 지지 부재로부터 상기 제 1 기판을 승강시키는 단계, 상기 제 2 기판이 놓여진 로딩용 블레이드 및 상기 로딩용 블레이드 아래에 위치되는 언로딩용 블레이드를 상기 제 1 기판이 상기 로딩용 블레이드와 상기 언로딩용 블레이드 사이에 위치되도록 이동시키는 단계와; 상기 리프트 핀들을 하강시키거나 상기 언로딩용 블레이드를 승강시켜 상기 제 1 기판이 상기 리프트 핀들로부터 상기 언로딩용 블레이드로 인계되도록 한 후 상기 지지 부재의 상부로부터 벗어나도록 상기 언로딩용 블레이드를 이동시키는 단계와; 상기 리프트 핀들을 상강시키거나 상기 로딩용 블레이드를 하강시켜 상기 제 2 기판이 상기 리프트 핀들로 인계되도록 한 후 상기 로딩용 블레이드를 상기 지지 부재의 상부에서 벗어나도록 이동시키고 상기 리프트 핀들을 하강시켜 상기 제 2 기판을 상기 지지 부재 상에 로딩하는 단계에 의해 이루어진다.
또한, 본 발명의 지지 부재에 기판을 로딩하는 방법에 의하면, 공정이 수행될 기판이 놓여진 로딩용 블레이드와 비어 있는 언로딩용 블레이드를 동시에 상기 지지 부재의 상부로 이동하고, 상기 언로딩용 블레이드가 공정이 수행된 기판을 상기 지지 부재로부터 인계받아 상기 지지 부재의 상부로부터 벗어난 이후에, 상기 로딩용 블레이드에 놓여진 상기 공정이 수행될 기판이 상기 지지 부재로 놓여진다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 1 내지 도 7을 참조하면서 더욱 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되는 것으로 해석돼서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
본 실시예에서는 애싱 공정을 수행하는 공정 챔버(26)를 가지는 기판 처리 장치(1)를 일 예로 들어 설명한다. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 리프트 핀을 이용하여 기판(W)을 스테이지로 로딩하는 구조를 가진 다양한 유닛이나 설비에 적용 가능하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(1)를 개략적으로 보여주는 평면도이다. 도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 설비 전방 단부 모듈(equipment front end module)(10)과 공정 설비(20)를 가진다.
설비 전방 단부 모듈(10)은 공정 설비(20)의 전방에 장착되어, 기판들(W)이 수용된 용기(16)와 공정 설비(20) 간에 기판(W)을 이송한다. 설비 전방 단부 모듈(10)은 복수의 로드포트들(loadports)(12)과 프레임(frame)(14)을 가진다. 프레임(14)은 로드포트(12)와 공정 설비(20) 사이에 위치된다. 기판(W)을 수용하는 용기(16)는 오버헤드 트랜스퍼(overhead transfer), 오버헤드 컨베이어(overhead conveyor), 또는 자동 안내 차량(automatic guided vehicle)과 같은 이송 수단(도시되지 않음)에 의해 로드포트(12) 상에 놓여진다. 용기(16)는 전면 개방 일체식 포드(front open unified pod)와 같은 밀폐용 용기가 사용될 수 있다. 프레임(14) 내에는 로드포트(12)에 놓여진 용기(16)와 공정 설비(20) 간에 기판(W)을 이송하는 프레임 로봇(18)이 설치된다. 프레임(14) 내에는 용기(16)의 도어를 자동으로 개폐하는 도어 오프너(도시되지 않음)가 설치될 수 있다. 또한, 프레임(14)에는 청정 공기가 프레임(14) 내 상부에서 하부로 흐르도록 청정 공기를 프레임(14) 내로 공급하는 팬필터 유닛(fan filter unit)(도시되지 않음)이 제공될 수 있다.
기판(W)은 공정 설비(20) 내에서 소정의 공정이 수행된다. 공정 설비(20)는 로드록 챔버(loadlock chamber)(22), 트랜스퍼 챔버(transfer chamber)(24), 그리 고 공정 챔버(process chamber)(26)를 가진다. 트랜스퍼 챔버(24)는 상부에서 바라볼 때 대체로 다각의 형상을 가진다. 트랜스퍼 챔버(24)의 측면에는 로드록 챔버(22) 또는 공정 챔버(26)가 위치된다. 로드록 챔버(22)는 트랜스퍼 챔버(24)의 측부들 중 설비 전방 단부 모듈(10)과 인접한 측부에 위치되고, 공정 챔버(26)는 다른 측부에 위치된다. 로드록 챔버(22)는 공정 진행을 위해 공정 설비(20)로 유입되는 기판들(W)이 일시적으로 머무르는 로딩 챔버(22a)와 공정이 완료되어 공정 설비(20)로부터 유출되는 기판들(W)이 일시적으로 머무르는 언로딩 챔버(22b)를 가진다. 트랜스퍼 챔버(24) 및 공정 챔버(26) 내부는 진공으로 유지되고, 로드록 챔버(22) 내부는 진공 및 대기압으로 전환된다. 로드록 챔버(22)는 외부 오염물질이 트랜스퍼 챔버(24) 및 공정 챔버(26)로 유입되는 것을 방지한다. 로드록 챔버(22)와 트랜스퍼 챔버(24) 사이, 그리고 로드록 챔버(22)와 설비 전방 단부 모듈(10) 사이에는 게이트 밸브(도시되지 않음)가 설치된다. 설비 전방 단부 모듈(10)과 로드록 챔버(22) 간에 기판(W)이 이동되는 경우 로드록 챔버(22)와 트랜스퍼 챔버(24) 사이에 제공되는 게이트 밸브가 닫히고, 로드록 챔버(22)와 트랜스퍼 챔버(24) 간에 기판(W)이 이동되는 경우, 로드록 챔버(22)와 설비 전방 단부 모듈(10) 사이에 제공되는 게이트 밸브가 닫힌다.
트랜스퍼 챔버(24) 내에는 이송 유닛(100)이 장착된다. 이송 유닛(100)은 공정 챔버(26)로 기판(W)을 로딩하거나 공정 챔버(26)로부터 기판(W)을 언로딩한다. 또한, 이송 유닛(100)은 공정 챔버(26)와 로드록 챔버(22) 간에 기판(W)을 이송한다. 도 2는 이송 유닛(100)의 일 예를 보여준다. 도 2를 참조하면, 이송 유닛(100) 은 로딩 로봇(100a)과 언로딩 로봇(100b)를 가진다. 로딩 로봇(100a)은 공정이 수행될 기판(W)을 공정 챔버(26)로 이동시키고, 언로딩 로봇(100b)는 공정이 완료된 기판(W)을 공정 챔버(26)로부터 이동시킨다.
로딩 로봇(100a)은 회전축(120a), 아암 부재(140a), 그리고 로딩용 블레이드(160a)를 가진다. 회전축(120a)은 상하 방향으로 수직하게 장착된다. 회전축(120a)은 구동기(180)에 의해 회전 및 승하강 이동된다. 아암 부재(140a)는 제 1 아암(142a)과 제 2 아암(144a)을 가진다. 제 1 아암(142a)의 일단은 회전축(120a)의 상단에 회전축(120a)에 대해 회전 가능하도록 장착된다. 제 2 아암(144a)의 일단은 제 1 아암(142a)의 타단에 제 1 아암(142a)에 대해 회전 가능하게 장착된다. 로딩용 블레이드(160a)는 제 2 아암(142a)의 타단에 제 2 아암(144a)에 대해 회전 가능하게 장착된다. 제 1 아암(142a)과 제 2 아암(144a)은 로딩용 블레이드(160a)가 회전축(120a)으로부터 멀어지는 방향으로 또는 회전축(120a)에 가까워지는 방향으로 신장 또는 수축될 수 있도록 구성된다.
언로딩 로봇(100b)은 로딩 로봇(100a)와 유사한 구성을 가진다. 언로딩 로봇(100b)은 회전축(120b), 아암 부재(140b), 그리고 언로딩용 블레이드(160b)를 가진다. 회전축(120b)은 상하 방향으로 수직하게 장착된다. 회전축(120b)은 구동기(180)에 의해 회전 및 승하강 이동된다. 아암 부재(140b)는 제 1 아암(142b)과 제 2 아암(144b)을 가진다. 제 1 아암(142b)의 일단은 회전축(120b)의 상단에 회전축(120b)에 대해 회전 가능하도록 장착된다. 제 2 아암(144b)의 일단은 제 1 아암(142b)의 타단에 제 1 아암(142b)에 대해 회전 가능하게 장착된다. 언로딩용 블 레이드(160b)는 제 2 아암(142b)의 타단에 제 2 아암(144b)에 대해 회전 가능하게 장착된다. 제 1 아암(142b)과 제 2 아암(144b)은 언로딩용 블레이드(160b)가 회전축(120b)으로부터 멀어지는 방향으로 또는 회전축(120b)에 가까워지는 방향으로 신장 또는 수축될 수 있도록 구성된다.
로딩 로봇(100a)과 언로딩 로봇(100b)은 구동기(180)에 의해 독립적으로 구동된다. 로딩용 블레이드(160a)와 언로딩용 블레이드(160b)는 공정 챔버(26) 내로 동시에 이동된다. 도 3에 도시된 바와 같이, 구동기(180)는 공정 챔버(26) 내에서 로딩용 블레이드(160a)가 언로딩용 블레이드(160b)보다 높게 위치되도록 회전축들(120a, 120b)을 승하강 이동시킨다.
일 예에 의하면, 로딩용 블레이드(160a)와 언로딩용 블레이드(160b)는 'ㅡ' 자 형상을 가지며, 로딩용 블레이드(160a)와 언로딩용 블레이드(160b)에는 진공에 의해 기판(W)이 흡착되도록 진공홀(162)이 형성된다. 이와 달리 로딩용 블레이드(160a)와 언로딩용 블레이드(160b)는 기계적 클램프에 의해 기판(W)을 지지하거나, 기판(W)을 안착시킬 수 있는 형상을 가진다.
공정 챔버(26)는 기판(W)에 소정의 공정을 수행한다. 예컨대, 공정 챔버(26)는 애싱, 증착, 식각, 또는 측정 등과 같은 공정을 수행하는 챔버일 수 있다. 아래에서는 공정 챔버(26)가 애싱 공정을 수행하는 경우를 예로 들어 설명한다.
도 4는 애싱 공정을 수행하는 공정 챔버(26)의 일 예를 보여준다. 도 4를 참조하면, 공정 챔버(26)는 하우징(200), 지지 부재(220), 가스 공급 부재(240), 샤워 헤드(260), 그리고 리프트 핀 어셈블리(300)를 가진다. 하우징(200)은 내부에 공정이 수행되는 공간이 제공되도록 통 형상을 가진다. 하우징(200)의 일측벽에는 기판(W)이 출입되는 개구(202)가 형성된다. 개구(202)는 도어(280)에 의해 개폐된다. 도어(280)는 유공압 실린더와 같은 구동기(282) 의해 상하로 슬라이딩 이동된다. 하우징(200)의 하부벽에는 공정 진행시 발생되는 부산물을 배출하는 배기관(292)이 연결된다. 배기관(292)에는 공정 진행시 하우징(200) 내부를 공정 압력으로 유지하는 펌프(294)와 배기관(292) 내 통로를 개폐하는 밸브(292a)가 설치된다.
지지 부재(220)는 공정 진행시 기판(W)을 지지한다. 지지 부재(220)는 대체로 원통 형상으로 제공된다. 지지 부재(220)의 상면은 기판(W)보다 작은 크기로 제공된다. 예컨대, 기판(W)이 웨이퍼인 경우, 지지 부재(220)의 상면의 지름은 웨이퍼의 지름보다 작게 제공된다. 지지 부재(220)는 진공, 정전기력, 또는 기계적 클램핑과 같은 방식에 의해 기판(W)을 고정할 수 있다. 또한, 지지 부재(220)의 상면은 평평하게 형성되거나, 기판(W)의 후면이 접촉되는 미세 돌기를 가질 수 있다.
가스 공급 부재(240)는 하우징(200) 내부로 공정 가스를 공급한다. 공정 가스는 기판(W)에 잔류하는 포토레지스트 막을 제거한다. 공정 가스는 플라즈마 상태로 공급될 수 있다. 가스 공급 부재(240)는 가스 공급관(242)과 플라즈마 발생기(246)를 가진다. 가스 공급관(242)은 가스 공급원(244)과 하우징(200)을 연결한다. 가스 공급관(242)에는 내부 통로를 개폐하는 밸브(242a)가 설치된다. 플라즈마 발생기(246)는 가스 공급관(242)에 설치되어 공정 가스로부터 플라즈마를 발생시킨다. 이와 달리 플라즈마 발생기(246)는 하우징(200)의 상부에 장착될 수 있다. 공 정 가스로는 불소를 포함하는 화합물이 사용될 수 있다.
샤워 헤드(260)는 하우징(200) 내로 유입된 공정 가스를 기판(W) 상으로 대체로 균일하게 분산시킨다. 샤워 헤드(260)는 하우징(200) 내 상부에 지지 부재(220)와 대향되도록 위치된다. 샤워 헤드(260)는 환형의 측벽(262)과 원판 형상의 분사판(264)을 가진다. 샤워 헤드(260)의 측벽(262)은 하우징(200)의 상벽으로부터 아래방향으로 돌출되도록 하우징(200)에 고정결합된다. 분사판(264)은 측벽 하단에 고정 결합된다. 분사판(264)의 전체 영역에는 다수의 분사공들(264a)이 형성된다. 공정 가스는 하우징(200)과 샤워 헤드(260)에 의해 제공된 공간(266)으로 유입된 후 분사공들(264a)을 통해 기판(W)으로 분사된다.
리프트 핀 어셈블리(300)는 지지 부재(220)로 기판(W)을 로딩하거나 지지 부재(220)로부터 기판(W)을 언로딩한다. 도 5는 리프트 핀 어셈블리(300)의 사시도이고, 도 6은 하우징(200) 내부를 상부에서 바라본 평면도이다. 도 4와 도 5를 참조하면, 리프트 핀 어셈블리(300)는 리프트 핀들(320), 받침 플레이트(340), 그리고 구동기(360)를 가진다. 리프트 핀들(320)은 3개가 제공되며 받침 플레이트(340)에 고정 설치되어 받침 플레이트(340)와 함께 이동된다. 받침 플레이트(340)는 원판 형상을 가지며, 하우징(200) 내에서 지지 부재(220)의 아래에 또는 하우징(200) 외부에 위치된다. 받침 플레이트(340)는 유공압 실린더 또는 모터와 같은 구동기(360)에 의해 승하강 이동된다. 리프트 핀들(320)은 상부에서 바라볼 때 대체로 정삼각형의 꼭지점에 상응하게 위치되도록 배치된다. 지지 부재(220)에는 상하 방향으로 수직하게 관통되는 관통홀(222)이 형성된다. 리프트 핀 (320)각각은 관통 홀(222) 각각에 삽입되어 관통홀(222)을 통해 승하강된다. 각각의 리프트 핀(320)은 긴 로드 형상을 가지며, 상단은 상부로 볼록한 형상을 가진다.
다음에는 도 7a 내지 도 7j를 참조하여, 기판(W)이 지지 부재(220)에 로딩 및 언로딩되는 과정을 구체적으로 설명한다. 도 7a 내지 도 7j는 기판(W)이 로딩 및 언로딩되는 과정의 일 예를 순차적으로 보여주는 도면들이다. 아래에서 제 1 기판(W1)은 공정이 완료되어 지지 부재(220)로부터 언로딩되는 기판(W)을 칭하고, 제 2 기판(W2)은 공정 수행을 위해 지지 부재(220)로 로딩되는 기판(W)을 칭한다.
하우징(200) 내에서 제 1 기판(W1)에 대해 공정이 수행되는 동안 이송 유닛(100)은 로딩용 블레이드(160a)에 제 2 기판(W2)을 지지한 상태로 트랜스퍼 챔버(24)에서 대기한다(도 7a 참조). 하우징(200) 내에서 제 1 기판(W1)에 대해 공정이 완료되면, 기판(W)이 출입되는 개구(202)가 개방되도록 도어(280)가 아래로 이동된다(도 7b 참조). 리프트 핀들(320)이 승강되어 제 1 기판(W1)이 지지 부재(220)로부터 들어 올려진다(도 7c 참조). 도 7b와 도 7c는 순서가 바꾸어질 수 있다.
로딩용 블레이드(160a)와 언로딩용 블레이드(160b)가 하우징(200) 내부로 이동되어 지지 부재(220)의 수직 상부에 위치된다. 이때 제 1 기판(W1)은 로딩용 블레이드(160a)와 언로딩용 블레이드(160b) 사이에 위치된다(도 7d 참조). 리프트 핀들(320)이 하강되어 제 1 기판(W1)이 언로딩용 블레이드(160b)로 인계된다(도 7e 참조). 이와 달리, 언로딩용 블레이드(160b)가 승강되어 제 1 기판(W1)이 리프트 핀들(320)로부터 언로딩용 블레이드(160b)로 인계될 수 있다.
언로딩용 블레이드(160b)가 하우징(200) 외부로 이동된다(도 7f 참조). 다음에 리프트 핀들(320)이 승강되어, 제 2 기판(W2)를 로딩용 블레이드(160a)로부터 들어올린다(도 7g 참조). 이와 달리 로딩용 블레이드(160a)가 하강되어 제 2 기판(W2)를 리프트 핀들(320)로 인계할 수 있다. 로딩용 블레이드(160a)가 하우징(200) 외부로 이동된다(도 7h 참조). 리프트 핀들(320)이 하강되어 제 2 기판(W2)이 지지 부재(220) 상에 안착된다(도 7i 참조). 도어(280)가 승강하여 하우징(200)의 개구(202)가 닫힌다(도 7j 참조).
상술한 예에서는 클러스터 형태(cluster type)의 기판(W) 처리 설비를 예로 들어 설명하였다. 그러나 이와 달리 기판 처리 장치(1)는 공정 챔버(26)와 이송 유닛(100)을 포함하고 리프트 핀들을 이용하여 기판(W)을 공정 챔버(26) 내 지지 부재(220)로 로딩하며, 복수의 기판들(W)에 대해 순차적으로 공정을 수행하는 구조를 가지는 다양한 형태의 장치일 수 있다.
또한, 상술한 예에서는 공정 챔버(26)가 애싱 공정을 수행하는 구조를 가지는 것으로 예로 들어 설명하였다. 그러나 공정 챔버(26)는 리프트 핀들을 이용하여 기판(W)을 지지 부재(220)로 로딩하는 구조를 가지는 다양한 종류의 공정에 적용된다. 예컨대, 공정 챔버(26)는 증착 공정, 식각 공정, 측정 공정, 베이크 공정, 세정 공정, 건조 공정, 노광 공정, 도포 공정, 또는 현상 공정 등과 같은 공정을 수행하도록 구성지어질 수 있다.
본 발명에 의하면, 기판을 지지 부재에 로딩하고 지지 부재로부터 언로딩하 는 과정을 신속하게 수행할 수 있다.

Claims (3)

  1. 삭제
  2. 지지 부재 상에 놓여진 제 1 기판을 상기 지지 부재로부터 언로딩하고, 제 2 기판을 상기 지지 부재에 로딩하는 방법에 있어서,
    리프트 핀들을 승강하여 상기 지지 부재로부터 상기 제 1 기판을 승강시키는 단계와;
    상기 제 2 기판이 놓여진 로딩용 블레이드 및 상기 로딩용 블레이드 아래에 위치되는 언로딩용 블레이드를 상기 제 1 기판이 상기 로딩용 블레이드와 상기 언로딩용 블레이드 사이에 위치되도록 이동시키는 단계와;
    상기 리프트 핀들을 하강시키거나 상기 언로딩용 블레이드를 승강시켜 상기 제 1 기판이 상기 리프트 핀들로부터 상기 언로딩용 블레이드로 인계되도록 한 후 상기 지지 부재의 상부로부터 벗어나도록 상기 언로딩용 블레이드를 이동시키는 단계와; 그리고
    상기 리프트 핀들을 승강시키거나 상기 로딩용 블레이드를 하강시켜 상기 제 2 기판이 상기 리프트 핀들로 인계되도록 한 후, 상기 로딩용 블레이드를 상기 지지 부재의 상부에서 벗어나도록 이동시키고 상기 리프트 핀들을 하강시켜 상기 제 2 기판을 상기 지지 부재 상에 로딩하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 로딩 방법.
  3. 지지 부재에 기판을 로딩하는 방법에 있어서,
    공정이 수행될 기판이 놓여진 로딩용 블레이드와 비어 있는 언로딩용 블레이드를 동시에 상기 지지 부재의 상부로 이동하고, 상기 언로딩용 블레이드가 공정이 수행된 기판을 상기 지지 부재로부터 인계받아 상기 지지 부재의 상부로부터 벗어난 이후에, 상기 로딩용 블레이드에 놓여진 상기 공정이 수행될 기판이 상기 지지 부재로 놓여지는 것을 특징으로 하는 기판 로딩 방법.
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