JP4622146B2 - ガスセンサ素子の製造方法 - Google Patents
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Description
【技術分野】
本発明は,内燃機関の燃焼制御等に利用されるガスセンサ素子の製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】
内燃機関の燃焼制御等に利用されるガスセンサ素子として,内部に基準ガス室を設けたコップ型固体電解質体と該固体電解質体の内側表面及び外側表面にそれぞれ形成された一対の内側及び外側電極よりなる素子が知られている。
【0003】
【解決しようとする課題】
しかしながら,ガスセンサ素子において固体電解質体から外側電極が剥離することがあった。そのため,固体電解質体と外側電極との間の付着強度が強いガスセンサ素子が求められていた。
【0004】
本発明は,かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので,固体電解質体と外側電極との間の付着強度が強いガスセンサ素子の製造方法を提供しようとするものである。
【0005】
【課題の解決手段】
本発明は,内部に基準ガス室を設けたコップ型固体電解質体と該固体電解質体の内側表面及び外側表面にそれぞれ形成された一対の内側及び外側電極とよりなるガスセンサ素子の固体電解質体を得るにあたり,
固体電解質体用の原料粉より所望の形状を有する未焼成形体を作製し,該未焼成形体を仮焼成して仮焼成体を作製し,
該仮焼成体の外側表面に,大粒子及び該大粒子よりも径小な小粒子とよりなる凹凸化処理用粉末とバインダーとを含有するスラリーをディッピングにより塗布してスラリー塗布層を形成し,その後,本焼成して上記固体電解質体を得る方法であって,
上記仮焼成体の外側表面に形成した上記スラリー塗布層の状態は,バインダー及び小粒子よりなるスラリー膜と,該スラリー膜の表面から突出した大粒子とからなり,
該大粒子の粒径をd,スラリー膜の厚みをtとすると,両者の間には0.25d≦t≦0.75dが成立していることを特徴とするガスセンサ素子の製造方法(請求項1)である。
【0006】
本発明においては,仮焼成体の外側表面に対し,大粒子,小粒子を含むスラリーをディッピングにより塗布する。
これにより,仮焼成体の外側表面に大粒子と小粒子とが混在するスラリー塗布層が形成された後,本焼成が行われる。よって,固体電解質体の外側表面は大粒子,小粒子の大きさに依存する凹凸表面となる。
このような凹凸表面に対し外側電極を設けた場合,凹凸によるアンカー効果によって外側電極は強い付着強度で固体電解質体に固定される。そのため剥離等が生じ難く,耐久性に優れたガスセンサ素子を得ることができる。
特に本発明においては,上記仮焼成体の外側表面に形成した上記スラリー塗布層の状態は,バインダー及び小粒子よりなるスラリー膜と,該スラリー膜の表面から突出した大粒子とからなり,該大粒子の粒径をd,スラリー膜の厚みをtとすると,両者の間には0.25d≦t≦0.75dが成立している。
そして,このように大粒子の粒径とスラリー膜の厚みとの間に上記関係が成立しているので,外側表面に充分な凹凸を構成することができる。
上記スラリー膜の厚みtが0.25d未満である場合は,大粒子が脱落するおそれがある。一方,tが0.75dより大である場合は,外側電極及び保護層の付着強度が低下するおそれがある。
【0007】
また,本発明によれば,大粒子と小粒子との粒径やスラリーに対する含有量等を適宜選択することで凹凸状態(例えば表面粗度等)をコントロールすることが容易である。そのため,本例の製造方法は実現容易であり,また実現コストも安価である。
【0008】
以上,本発明によれば,固体電解質体と外側電極との間の付着強度が強いガスセンサ素子の製造方法を得ることができる。
【0009】
【発明の実施の形態】
上記本発明(請求項1)において,上記外側電極が直接被測定ガスに晒され,劣化することを防止するために,被測定ガス中の被毒物を捕らえるトラップ層や保護層を外側電極を覆うよう設けることがある。
また,上記外側電極を覆うように拡散抵抗層を設けて被測定ガスが外側電極に達する時間や量を制御することもある。
【0010】
この場合,本発明にかかる製造方法によれば,固体電解質体表面に凹凸が形成され,その凹凸は外側電極を強く固体電解質体に付着させると共に,外側電極表面に設けたトラップ層や保護層,拡散抵抗層等の別層も共に強く付着させることができる。
そのため,本発明によれば,固体電解質体表面の外側電極及び外側電極表面を覆うトラップ層や保護層,拡散抵抗層等の剥離を防止することができる。
【0011】
また,上記凹凸化処理用粉末をディッピングする場所は,固体電解質体の外側表面における,外側電極を形成しようとする箇所に対し,部分的に設けることで本発明にかかる効果を得ることができる。
最良は外側電極を形成しようとする箇所の全面に凹凸化を施すことであるが,凹凸化が外側電極を形成しようとする箇所の一部分であっても第1の発明の効果を得ることができる。
【0012】
また,上述したごとく外側電極や固体電解質体の外側表面を覆うように上記トラップ層や保護層,拡散抵抗層等の別層を設ける場合は,これらの別層を設けようとする箇所に対しても上記凹凸化処理用粉末のディッピングを行うことが好ましい。
これにより,外側電極と共に上記別層についても付着強度を高めることができる。
【0013】
また,ガスセンサ素子の内側及び外側電極は出力取り出しや電圧印加等の目的から端子部と該端子部と内側及び外側電極とを電気的に導通させるリード部を,固体電解質体の外側表面に設けることがある。
この場合,これらの端子部,リード部の固体電解質体に対する付着強度を高めるために,端子部やリード部の形成箇所に対し上記凹凸化処理用粉末のディッピングを行うことが好ましい。
【0014】
また,上記凹凸化処理用粉末は固体電解質体と同材質または焼成後に固体電解質体と一体化可能な材料を用いることが好ましい。
これにより,固体電解質体と凹凸化処理用粉末により形成された凹凸表面との間で剥離等が生じることを防止できる。
また,上記凹凸化処理用粉末をスラリーとする際に用いるバインダーとしては,PVA(ポリビニルアルコール)を用いることができる。
【0015】
また,上記仮焼成体の外側表面に対する上記スラリーのディッピング時のスラリー塗布層塗布密度は,
上記スラリー中の凹凸化処理用粉末量に換算して0.05〜0.30mg/mm2であることが好ましい(請求項2)。
上記数値範囲の塗布密度とすることで,固体電解質体と外側電極との間の剥離を防止することができると共に,保護層の付着強度を高めることができる。
塗布密度が0.05mg/mm2未満である場合は,外側電極,保護層の付着強度が低下するおそれがある。一方,塗布密度が0.30mg/mm2より大である場合は,凹凸化処理層自体の強度が低下するおそれがある。
【0016】
また,上記大粒子の粒径は5〜50μmであることが好ましい(請求項3)。
この場合には,適切な外側電極を形成することができ,また外側電極や保護層の強い付着強度を確保することができる。
粒径が5μm未満である場合は固体電解質体の表面に充分に深い凹凸が形成されず,電極剥離が防止できないおそれがある。一方,50μmを越えた場合は,適切な外側電極が形成できなくなるおそれがある。
【0017】
また,上記小粒子の粒径は1μm以下であることが好ましい(請求項4)。
この場合には,適切な大粒子保持力を確保することができる。なお,粒径が1μmを越えた場合は,大粒子の保持力低下が生じるおそれがある。
【0018】
また,上記小粒子の粒径は0.1〜1μmであることが好ましい(請求項5)。
この場合には,適切な大粒子保持力を確保することができる。なお,粒径が0.1μm未満である場合は,微粉の飛散等,取り扱い上の問題が生じるおそれがある。一方,粒径が1μmを越えた場合は,大粒子の保持力低下が生じるおそれがある。
【0019】
また,上記スラリー100重量%内に含有される大粒子は5〜20重量%であることが好ましい(請求項6)。
この場合には,適切な外側電極,保護層の付着強度を得ることができる。
大粒子の含有量が5重量%未満である場合は,外側電極や保護層の付着強度が低下するおそれがある。20重量%を越えた場合は,大粒子が脱落するおそれがある。
【0020】
また,上記スラリー100重量%内に含有される小粒子は10〜20重量%であることが好ましい(請求項7)。
この場合には,適切な大粒子の保持力を確保することができる。
小粒子の含有量が10重量%未満である場合は,大粒子が脱落するおそれがある。20重量%を越えた場合は,外側電極,保護層の付着強度が低下するおそれがある。
【0021】
また,請求項1の発明において,上記仮焼成体に対する上記凹凸化処理用粉末を含有するスラリーのディッピング塗布の状態は,上記仮焼成体の外側表面に形成されたスラリー膜とその表面から突出しつつ間隙をおいて大粒子が並んだ状態にあり(図1参照),大粒子の粒径をd,スラリー膜の厚みをtとすると,両者の間には0.25d≦t≦0.75dが成立する。
【0022】
スラリーを仮焼成体にディッピングすることでスラリー膜が仮焼成体の外側表面に形成されるが,大粒子の粒径と膜の厚みとの間に上記関係が成立することで,充分な凹凸を表面に構成することができる。
つまり,大粒子はスラリー膜の中に含まれる小粒子より大きいため,後述する図1(a)に示されるごとく,大粒子はスラリー膜の表面より突出した状態にある。従って,スラリー膜の厚みと大粒子の粒径との差が焼成後の凹凸の凸部のおよその高さとなる。ここにスラリー膜の厚みとは,バインダーを含むスラリーと小粒子とよりなる箇所の厚みとする(図1参照)。
【0023】
tが0.25d未満である場合は,大粒子が脱落するおそれがある。tが0.75dより大である場合は,外側電極及び保護層の付着強度が低下するおそれがある。
【0024】
また,上記仮焼成体に対し上記凹凸化処理用粉末を含有するスラリーのディッピング塗布を行うにあたり,
内部に撹拌器を設けたスラリー槽を準備し,
該撹拌器を回転させることにより,スラリー槽内のスラリーに回転流を生じせしめ,
次いで,上記撹拌器を回転しながら及び/または停止した状態で,仮焼成体をスラリーに浸漬し,
上記仮焼成体の外側表面にスラリーが塗布されたのち,上記仮焼成体を上記スラリー槽から引き上げることが好ましい(請求項8)。
【0025】
これにより,スラリー内で凹凸化処理用粉末が沈殿したり,スラリー濃度が不均一になる等して,所定の量の凹凸化処理用粉末が仮焼成体の外側表面に付着し難くなることを防止できる。
【0026】
仮焼成体は治具に複数本固定され,複数本の仮焼成体に対して同時にディッピングを行うことが好ましい。
また,仮焼成体は治具に1本のみ固定され,仮焼成体へのディッピングを1本づつ行うことが好ましい。
また,上記撹拌器としては,例えばスターラーや回転翼を利用することができる。
【0027】
また,上記仮焼成体に対し上記凹凸化処理用粉末を含有するスラリーのディッピング塗布を行うにあたり,
上記スラリーを満たしたスラリー槽を準備し,
上記スラリー槽で撹拌器を回転させる場合は上記仮焼成体を,該仮焼成体の中心軸を回転軸としてこれを実質的に回転させ浸漬し,上記スラリー槽で撹拌器を停止させる場合は,仮焼成体を実質的に回転せずに浸漬し,
上記仮焼成体の外側表面に上記スラリーが塗布されたのち,上記仮焼成体を上記スラリー槽から引き上げるが好ましい(請求項9)。
【0028】
この場合,スラリー内が撹拌され,流れのある状態では仮焼成体を回転させて浸漬し,スラリー内に流れがないか,または流れが弱い状態では,仮焼成体を実質的に回転せず,つまり仮焼成体がスラリー槽に対して相対的に回転しない状態としてスラリーに対し浸漬する。
このようにしてディッピングを行うことで,凹凸化処理用粉末を仮焼成体の外側表面に均一に付着させることができる。
【0029】
【実施例】
以下に,図面を用いて本発明の実施例について説明する。
(実施例1)
本発明にかかるガスセンサ素子の製造方法について説明する。
図2,図3に示すごとく,本例のガスセンサ素子2は,内部に基準ガス室20を設けたコップ型固体電解質体21と該固体電解質体21の内側表面201及び外側表面202にそれぞれ形成された一対の内側及び外側電極211,212とよりなる。
このガスセンサ素子2の固体電解質体21は次の方法で製造する。
まず,固体電解質体21用の原料粉より所望の形状を有する未焼成形体を作製し,該未焼成形体を仮焼成して仮焼成体を作製する。
次いで,仮焼成体15の外側表面151に対して,大粒子11と該大粒子11よりも径小な小粒子12とよりなる凹凸化処理用粉末13とバインダーを含有するスラリーをディッピング塗布し,その後本焼成して固体電解質体21を得る。
【0030】
以下,詳細に説明する。
本例にかかるガスセンサ素子2は,自動車エンジンの排気系に取りつけて,排ガス中の酸素濃度を検知することでエンジン中の空燃比を検出するよう構成され,燃焼制御系の一部として機能する。
このガスセンサ素子2は,図2及び図3に示すごとく,酸素イオン導電性のジルコニア製固体電解質体21と該固体電解質体21の外側の表面202に設けた被測定ガス側の外側電極212,固体電解質体21内部の使用時には基準ガスとなる大気が導入される基準ガス室21に対面する内側電極211とを有する。
【0031】
また,ガスセンサ素子2の出力を外部に引き出すためのリード部及び端子部が,それぞれ内側表面201及び外側表面202に対し,内側電極211及び外側電極212と一体的に設けてある(図示略)。
なお,上記内側及び外側電極211,212は白金電極である。
【0032】
外側電極212の表面220はプラズマ溶射により形成した若干の通気性を持つアルミナセラミック製の溶射層22が設けてあり,該溶射層22の表面230は多孔質層23により被われている。この多孔質層23は被測定ガスである排ガス内に含まれる被毒物質をトラップするトラップ層として機能するよう構成される。溶射層22は被測定ガスの外側電極に対する到達時間や到達量を制御するための拡散抵抗層として機能するよう構成される。
【0033】
次に,本例のガスセンサ素子2の製造方法について説明する。
まず,ジルコニアとイットリアからなる固体電解質体21の原料粉を準備する。
これを所定の粒径となるまで粉砕した後に造粒して造粒粉を得る。
上記造粒粉を成形し未焼成形体を作製し,これを仮焼成して所定の形状の仮焼成体を得る。
【0034】
また,上記造粒粉の一部を別工程に回して,以下に示すごとく凹凸化処理用粉末13として利用する。
つまり,造粒粉を仮焼し,一部はそのまま大粒子11として利用する。残りは粉砕して,小粒子12として利用する。
このようにして得られた大粒子11と小粒子12とを水,バインダーと混合することによりスラリー化する。
なお,本例のスラリーにおける凹凸化処理用粉13は,平均粒径40μmの大粒子と平均粒径0.8μmの小粒子とが比率(重量)は50:50で混合されている。
【0035】
上記スラリーを,図4に示すごとき,スラリー槽31に導入する。
このスラリー槽31は,磁石340付きのモータ(図示略)が内蔵された架台34に対し載置された口径R=180mmのスラリー容器32と,該スラリー容器32の底部320に設けた磁石(図示略)付きのスターラー33とよりなる。架台34内の磁石340とスターラー33の磁石とは互いに引き合うような極性を有する。従って,モーターの回転に伴って,スターラー33も同じ方向に回転する。なお,このスターラー33が本例における撹拌器となる。
【0036】
次に,図5に示すごとく,上記仮焼成体15を4個,治具19に取りつける。
上記治具19は,板状の基板190と該基板に備えられた各仮焼成体15の取付部191とよりなり,該取付部191に取りつけた仮焼成体15は,仮焼成体の中心軸を回転軸として回転することができる。また,上記治具19における取付部191は仮焼成体15における固体電解質体21の基部219に相当する箇所を覆うように構成されている。
そして,上記治具19をスラリー容器32の上方に配置する。
【0037】
次に,上記モータを駆動する。モータの回転に応じて,モータ側の磁石340に引かれてスターラー33も共に回転する。スターラー33が回転したままの状態で仮焼成体15をスラリー容器32に浸漬する。そして,スラリー3中で仮焼成体15を回転させる。このとき,スターラー33の回転速度は230rpm,仮焼成体15の回転速度は160rpmとした。
所定の時間の経過後,仮焼成体15を引き上げる。
上記手順により,図1(a)に示すごとき,スラリー塗布層100が形成された仮焼成体15を本焼成し,図1(b)に示すごとき,表面202に凹凸が形成された固体電解質体21を得る。
【0038】
なお,上記スラリー塗布層100は固体電解質体21におけるもっとも径大となる胴部218の近傍まで設ける。また,スラリー膜1の厚みtは図1(a)に示されるごとく,バインダー10と小粒子12とよりなる箇所の厚みであり,本例では0.025mmであった。また,大粒子の粒径dは0.040mmであった。
【0039】
そして,上記固体電解質体21の所定の位置に内側電極211及び外側電極212を設け,外側電極212を覆うように溶射層22となる緻密なアルミナ層をプラズマ溶射により設け,さらにディッピング及び焼成により多孔質層23となる多孔質のアルミナ層を設ける。
以上により,本例にかかるガスセンサ素子2を得た。
【0040】
本例の作用効果について説明する。
本例では,図1(a)に示すごとく,仮焼成体15の外側表面に対し,大粒子11と,小粒子12及びバインダーを含むスラリー膜1からなるスラリー塗布層100を設けて,これを本焼成し,固体電解質体21とする。
従って,固体電解質体21の外側表面202は大粒子11,小粒子12の大きさに依存する凹凸表面が形成される(図1(b)参照)。
このような凹凸表面の上に外側電極212を設けているので,凹凸によるアンカー効果によって外側電極212は強い付着強度で固体電解質体21に固定される。そのため剥離等が生じ難く,耐久性に優れたガスセンサ素子2を得ることができる。
【0041】
さらに,外側電極212と共に設けられたリード部や端子部(図示略),外側電極212を覆うように設けた溶射層22や多孔質層23についても,上記と同様に,凹凸表面によるアンカー効果を得て剥離等が生じ難い。
【0042】
また,本例において,大粒子11と小粒子12との粒径やスラリーに対する含有量等を適宜選択することで凹凸状態(例えば表面粗度等)をコントロールすることが容易である。そのため,本例の製造方法は実現容易であり,また実現コストも安価である。
また,本例はスターラー33を使用しているため,連続撹拌が容易で低コストで設備で対応できる。さらに,連続撹拌により摩耗したスターラー33の交換も容易である。
【0043】
以上,本例によれば,固体電解質体と外側電極との間の付着強度が強いガスセンサ素子の製造方法を得ることができる。
【0044】
なお,本例においては,1つのスラリー槽で4本の仮焼成体15に対して同時にスラリーのディッピングを行ったが,図6に示すごとく,1本の仮焼成体15に対し1つのスラリー容器32を割り当てることもできる。なお,図示は略したが,各スラリー容器32はいずれもスターラー33等を備えている。
【0045】
(実施例2)
本例は,より多数の仮焼成体に同時にスラリー塗布層を設ける方法について説明する。
図7に示すごとく,本例において使用するスラリー槽31は,モータ(図示略)の軸350に固定され,軸350の回転と共に回転可能な4枚羽の回転翼36を底部320に備えた口径320mmのスラリー容器32を有する。上記回転翼36が撹拌器として機能する。なお,軸350は架台35に内蔵される。
モーターの駆動により上記回転翼36が回転し,スラリー容器32内のスラリー3を撹拌することができる。
【0046】
このスラリー槽31を用いて,ディッピングを行う方法について説明する。
用いるスラリー3は,大粒子と小粒子とよりなる凹凸化処理用粉末を実施例1と同様の方法でスラリー化して作成する。
なお,本例のスラリーにおける凹凸化処理用粉13は,平均粒径40μmの大粒子と平均粒径0.8μmの小粒子とが比率(重量)35:65で混合されている。
【0047】
本例で用いる治具18は,基板180と該基板180に備えた仮焼成体15の取付部(図示略)とよりなるが,取付部は仮焼成体15を治具18の基板180に固定するだけの機能を有する。また,この治具18には仮焼成体15を95個固定する。
そして,上記治具18をスラリー槽31の上方に配置する。
【0048】
次に,モータを駆動して回転翼36を回し,スラリー3を撹拌する。このときの回転数は200rpmとする。その後,いったん回転翼36を停止して,スラリー3の流れがある程度収まるのを待つ。
次いで,治具18を降ろして仮焼成体15をスラリー3に浸漬する。所定の時間の経過後,治具18と共に仮焼成体15を引き上げる。
その後,スラリー膜が形成された仮焼成体15を本焼成し,固体電解質体を得る。
その他詳細は実施例1と同様である。
【0049】
本例にかかる製造方法を利用することで,実施例1と同様に,固体電解質体21の外側表面に大粒子11,小粒子12の大きさに依存する凹凸表面を形成することができる。この凹凸表面によるアンカー効果で,外側電極212は強い付着強度で固体電解質体21に固定される。そのため剥離等が生じ難く,耐久性に優れたガスセンサ素子2を得ることができる。
また,本例は撹拌を停止し,液面を安定する事により,1つのスラリー槽31にて多数個の仮焼成体15の処理が可能である。
【0050】
以上,本例によれば,固体電解質体と外側電極との間の付着強度が強いガスセンサ素子の製造方法を得ることができる。
【0051】
(実施例3)
実施例2にかかる製造方法にてスラリー塗布層を形成した仮焼成体について,スラリー中の大粒子及び小粒子の比率(重量)と塗布密度(ただしバインダー類等を除く)との関係について測定した。
この測定で,大粒子と小粒子の比率(重量)が3:7,4:6,5:5である3種類のスラリーを準備した。また,スラリーに対する浸漬の際の時間を7〜36秒と変化させた。
その他の詳細は実施例1の製法に準じて行う。
【0052】
この方法で得られたスラリー膜の塗布密度を測定し,結果を図8に記載した。なお,塗布密度は仮焼成体の塗布前後の重量の増加分をスラリー膜が形成された部分の面積で割って得た値からバインダーの含有量を引いた値とする。
同図において,各比率のスラリーにおける塗布密度は,スラリーに対する浸漬時間によって異なり,浸漬時間の短いものは塗布密度が小さく,長くなれば塗布密度が大きくなるため,塗布密度はある程度の幅を持った状態で分布する。
【0053】
塗布密度として好ましい範囲は0.05〜0.30mg/mm2であり,各スラリーにおける大粒子と小粒子との比率(重量)を3:7〜5:5の間とすることで,適当な浸漬時間(7〜36秒)を選択すれば,上記好ましい範囲の塗布密度が得られることが解った。
【0054】
また,それぞれのスラリーより形成されたスラリー膜で,上記好ましい塗布密度の範囲内にあるものについて,電子顕微鏡で調べたところ,仮焼成体の外側表面に形成されたスラリー膜の表面から突出しつつ所定の間隙をおいて大粒子が並んだ状態にあり,大粒子の粒径をd,スラリー膜の厚みをtとした場合の値は,それぞれ,dは0.040〜0.048mm,tは0.018〜0.026mmであり,dとtとの間には0.25d≦t≦0.75dが成立することも解った。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1における,(a)仮焼成体表面におけるスラリー膜の状態を示す説明図,(b)固体電解質体の外側表面の状態を示す説明図。
【図2】実施例1における,ガスセンサ素子の説明図。
【図3】実施例1における,ガスセンサ素子の要部説明図。
【図4】実施例1における,スラリー槽の説明図。
【図5】実施例1における,治具を用いて同時に4本の仮焼成体を1つのスラリー槽を用いてスラリーに浸漬する際の説明図。
【図6】実施例1における,治具を用いて1本の仮焼成体を1つのスラリー槽を用いてスラリーに浸漬する際の説明図。
【図7】実施例2における,治具を用いて多数の仮焼成体を1つのスラリー槽を用いてスラリーに浸漬する際の説明図。
【図8】実施例3における,大粒子と小粒子との混合の比率と塗布密度との関係を示す線図。
【符号の説明】
1...スラリー膜,
11...大粒子,
12...小粒子,
13...凹凸化処理用粉末,
15...仮焼成体,
2...ガスセンサ素子,
21...固体電解質体,
202...外側表面,
Claims (9)
- 内部に基準ガス室を設けたコップ型固体電解質体と該固体電解質体の内側表面及び外側表面にそれぞれ形成された一対の内側及び外側電極とよりなるガスセンサ素子の固体電解質体を得るにあたり,
固体電解質体用の原料粉より所望の形状を有する未焼成形体を作製し,該未焼成形体を仮焼成して仮焼成体を作製し,
該仮焼成体の外側表面に,大粒子及び該大粒子よりも径小な小粒子とよりなる凹凸化処理用粉末とバインダーとを含有するスラリーをディッピングにより塗布してスラリー塗布層を形成し,その後,本焼成して上記固体電解質体を得る方法であって,
上記仮焼成体の外側表面に形成した上記スラリー塗布層の状態は,バインダー及び小粒子よりなるスラリー膜と,該スラリー膜の表面から突出した大粒子とからなり,
該大粒子の粒径をd,スラリー膜の厚みをtとすると,両者の間には0.25d≦t≦0.75dが成立していることを特徴とするガスセンサ素子の製造方法。 - 請求項1において,上記仮焼成体の外側表面に対する上記スラリーのディッピング時のスラリー塗布層の塗布密度は,
上記スラリー中の凹凸化処理用粉末量に換算して0.05〜0.30mg/mm2であることを特徴とするガスセンサ素子の製造方法。 - 請求項1または2において,上記大粒子の粒径は5〜50μmであることを特徴とするガスセンサ素子の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれか1項において,上記小粒子の粒径は1μm以下であることを特徴とするガスセンサ素子の製造方法。
- 請求項4において,上記小粒子の粒径は0.1〜1μmであることを特徴とするガスセンサ素子の製造方法。
- 請求項1〜5のいずれか一項において,上記スラリー100重量%内に含有される大粒子は5〜20重量%であることを特徴とするガスセンサ素子の製造方法。
- 請求項1〜6のいずれか一項において,上記スラリー100重量%内に含有される小粒子は10〜20重量%であることを特徴とするガスセンサ素子の製造方法。
- 請求項1〜7のいずれか一項において,上記仮焼成体に対し上記凹凸化処理用粉末を含有するスラリーのディッピング塗布を行うにあたり,
内部に撹拌器を設けたスラリー槽を準備し,
該撹拌器を回転させることにより,スラリー槽内のスラリーに回転流を生じせしめ,
次いで,上記撹拌器を回転しながら及び/または停止した状態で,仮焼成体をスラリーに浸漬し,
上記仮焼成体の外側表面にスラリーが塗布されたのち,上記仮焼成体を上記スラリー槽から引き上げることを特徴とするガスセンサ素子の製造方法。 - 請求項1〜8のいずれか一項において,上記仮焼成体に対し上記凹凸化処理用粉末を含有するスラリーのディッピング塗布を行うにあたり,
上記スラリーを満たしたスラリー槽を準備し,
上記スラリー槽で撹拌器を回転させる場合は上記仮焼成体を,該仮焼成体の中心軸を回転軸としてこれを実質的に回転させ浸漬し,上記スラリー槽で撹拌器を停止させる場合は,仮焼成体を実質的に回転せずに浸漬し,
上記仮焼成体の外側表面に上記スラリーが塗布されたのち,上記仮焼成体を上記スラリー槽から引き上げることを特徴とするガスセンサ素子の製造方法。
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