JP4613351B2 - 位置決め機構 - Google Patents

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    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02001Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
    • G01B9/02007Two or more frequencies or sources used for interferometric measurement

Description

本発明は、通信関連工業、電子工業、機械工業などの精密生産分野における精密測長器や変位計測センサを校正するための装置に用いる位置決めステージ等の精密位置決め機構に関する。
半導体露光、光ディスク露光、精密加工などの分野での位置決めや測長には、高分解能なデジタルスケールが用いられているが、最近ではその分解能は100ピコメートル以下にまで達しており、これらの精度を評価するための校正装置も高分解能化、高精度化が必要である。
このための解決手段として、メートル法にトレーサブルである必要性などから光干渉計を用いる手段が適している。しかし、従来の干渉計では、周期誤差を低減できず、その精度は約1nmにとどまっていた。
そこで、第二高調波と基本波の屈折率の差を利用したズーミング干渉計が開発されている(特許文献1参照)。これは、第二高調波の屈折率と基本波の屈折率の違いから、同じ長さを通る光の光路長に差ができ、この差を利用して逓倍を行う干渉計である。
特許2690041号公報
特許文献1記載の干渉計では、第二高調波と基本波の屈折率の差を利用したズーミング干渉計であるが、これは、屈折率を利用するため正確にズーム比を決めることが困難であること、厳密にメートルにトレーサブルにすることが容易でないという問題点があった。
ところで、様々の分解能のデジタルスケールを校正する必要がある一方、測定システムの大きさを大幅に変えることは困難である、などの点から、ズーム比を可変化することが有効であるが、特許文献1記載の干渉計ではズーム比を自由に変えることができないという問題もあった。
本発明は、上記従来の問題点を解決することを目的とするものであり、ズーム比を正確に決定することができ、また、ズーム比を可変にできるため、適したズーム比を選択することができるズーミング干渉計を利用した位置決め機構を実現することを課題とするものである。
本発明は上記課題を解決するために、光源において光コムを利用して得た第1及び第2の波長の光を、それぞれマッハツェンダ干渉計により干渉させて被測定体の位置決めを行う位置決め機構において、直動ミラーを移動させると、光源の波長によって正確に決められた比に従った量だけ被測定体の可動機構が移動し、被測定体の位置決めを正確に行うことを特徴とする位置決め機構を提供する。
本発明は上記課題を解決するために、第1及び第2の波長の光を出す光源と、該光源からの第1及び第2の波長の光を、双方とも第1及び第2の光路の二つに分ける第1のビームスプリッターと、二つに分けられた第1及び第2の波長の光を被測定体に反射させ第のビームスプリッターに入射させる第1の光路と、二つに分けられた第1及び第2の波長の光を音響光学変調器を介して第のビームスプリッターに入射させる第2の光路と、前記第1の光路の第1の波長の光の光路中に設けられ第1の波長の光の位相変調を行う直動ミラーと、第1の波長の光の第1及び第2の光路からそれぞれ入光された光の干渉光を受光する第1の光検出器と、第2の波長の光の第1及び第2の光路からそれぞれ入光された光の干渉光を受光する第2の光検出器と、第1及び第2の光検出器の検出信号に基づいて位相差を求め該位相差信号を被測定体の可動機構に出力する位相比較器と、を備えており、直動ミラーを移動させると、光源の波長によって正確に決められたズーム比に従った量だけ可動機構が移動して被測定体を位置決める位置決め機構を提供する。
前記光源は、光コムの二つの異なった波長の光を取り出したものであり、この光源から作り出され干渉計に導入される第1及び第2の波長の光としては、光コムから取り出された第1のモードの光、光コムから取り出された第2のモードの光、光コムから取り出された第1のモードの光と第2のモードの光の合成波長の光充分に安定なレーザー光源の光のうち、いずれか二つの光を用いることが考えられる。
前記光源において、光コムの二つの異なった波長のモードの光を取り出す方法としては、2つの半導体レーザーの波長をそれぞれ光コムの2つの異なった周波数にロックするように制御する構成とすればよい。
前記光源において、光コムの二つの異なった波長のモードの光を取り出す方法としては、光コムの光を2つの異なった共振周波数をもつファブリーペロー共振器を用いて2波長を取り出す構成とすればよい。
本発明に係る位置決め機構のズーミング干渉計は、光コムから切り出した2周波を光源として用いることにより、ズーム比を正確に決定することができ、また、ズーム比を可変にできるため、適したズーム比を選択することができ、これにより、様々な分解能の高分解能デジタルスケールの校正に対応できる高分解能、高精度測長できる装置の実現が可能であり、しかも、そのような装置のシステムのコンパクト化が可能である。
さまざまな分解能の測長器を校正しようとするとき、ズーム比が可変でない場合、低分解能の測長器を校正するときには、コーナーリフレクタ1を非常に大きく変位させなければならず、高分解能な測長器の場合は小さく変位させなければならない。
この場合、干渉計をあらかじめ大きく作る必要性が出てきて、これは干渉計の動作の安定性や環境安定性の点から見て、不利である。光源を変えてズーム比を可変にすることによって干渉計の大きさを変えずに測定を行うことができれば、動作の安定性も得られ、環境安定性の点でも有利である。
しかしながら、レーザー光源では、任意の波長λp、λsを選ぶことは難しい。本発明の干渉計では、光源として光コムから切り出した光を用いることで、任意のズーム比を簡単に得ることができる。
ところで、前記特許文献1で開示されているような、光の屈折率の差を用いて分解能を逓倍する高分解能位置決め機構では、屈折率を精度良く測定できないために、ズーム比が正確に決められないという問題点があった。
しかしながら、本発明の干渉計のように、光コムを光源に用いると、光コムは正確で安定したモード間ビート周波数をもっているので、ここからλp、λsを切り出すと、ズーム比が正確に定まり、上記問題を解決することができる。
本発明に係る位置決め機構を実施するための最良の形態を実施例に基づいて図面を参照して、以下に説明する。
本発明に係る位置決め機構は、その本体3は、図1に示すような干渉計4から構成される。この干渉計4の光路の一部に直動するコーナリフレクタ2が組み込まれており、較正や測定すべき対象物である変位センサのような測長器5は、このコーナリフレクタ2に、詳細は図2において後記するが、取り付け治具6によって取り付けられる。
本発明に係る位置決め機構の本体を構成する上記干渉計は、ズーミング干渉計として機能する。ここで、ズーミング干渉計とは、二つの波長を光源に用いる干渉計で、その波長の差や屈折率の差を利用してそれぞれの波長が感じる位相変化に差を持たせ、参照光路での位相変化を被測定光路の位相変化で補償すると、被測定光路の光路長変化は、参照光路の光路長変化を拡大、または縮小したものになる、という干渉計である。
(本体3)
本発明に係る位置決め機構の本体3を構成する干渉計4では、光源7から第1の波長λs、第2の波長λpの二つの波長の光を入射する。光源7については、後で詳述するが、光コム(超短パルスレーザによって発生させられた多くの色成分を含んだ光)を用いる。
干渉計4に導入する光を、波長λpの光と波長λsの光とすると、光コムから切り出した第1及び第2の二つのモードの光の波長をλ、λとすると、λp、λsには、λ、λ、λとλの合成波長λs=λ・λ/(λ−λ)、又は充分に安定なレーザー光源λを用いることができる。
波長λsの光は、第1のビームスプリッターBS1で第1の光路8及び第2の光路9の二つに分けられる。第1の光路8では、波長λsの光は、コーナーリフレクタ1、コーナーリフレクタ2を通り、第3のビームスプリッターBS3に入射する。
第2の光路9では、波長λsの光は、第1のビームスプリッターBS1、第2のビームスプリッターBS2、集光レンズ10、変調周波数Δfの音響光学変調器11(音波によって光ビームの振幅と位相を変える器具。acousto-optic modulator。以下、「AOM」という。)を通り、凹面鏡12で反射され、AOM11、集光レンズ10を再び通り、第2のビームスプリッターBS2から第3のビームスプリッターBS3に入射する。
波長の違う複数の光をAOM11に通すと、光路が波長によってずれてしまい、後の光学系の調整が複雑になるという問題があるが、この第2の光路9の構成のように、集光レンズ10、AOM11、凹面鏡12を設けることによりこのような問題が解決される。
AOM11を往復して通過した光は、二回変調を受け、変調周波数は2Δfになる(2Δfの周波数シフトを受けている。)。
第1の光検出器14では、第1の光路8を通った光と、第2の光路9を通り2Δfの変調を受けた光の干渉信号Isが得られる。この干渉信号Isは、周波数2Δfのビート信号として得られる。
波長λpの光は、第1のビームスプリッターBS1で第1の光路8及び第2の光路9の二つに分けられる。第1の光路8では、波長λpの光は、コーナーリフレクタ2を通り、第3のビームスプリッターBS3に入射する。
第2の光路9では、波長λpの光は、第1のビームスプリッターBS1、第2のビームスプリッターBS2、集光レンズ10、AOM11を通り、凹面鏡12で反射され、AOM11、集光レンズ10を再び通り、第2のビームスプリッターBS2から第3のビームスプリッターBS3に入射する。
第2の光検出器15では、第1の光路8を通った光と、第2の光路9を通り2Δfの変調を受けた光の干渉信号Ipが得られる。この干渉信号Ipは、周波数2Δfのビート信号として得られる。
第1の光検出器14及び第2の光検出器15は、それぞれ位相比較器13に接続されている。コーナーリフレクタ2は、ピエゾアクチュエータ、その他の駆動手段により直動可能な構成として、位相比較器13の比較結果に応じて、直線方向にxだけ変位させるように構成されている。
この位相比較器13で、干渉信号Isの光と干渉信号Ipの光の位相差Δφを観測する。この場合次のように行う。まず、コーナーリフレクタ1を変位Xだけ変位させる。次に、干渉信号Isが受ける位相変化を保障し、干渉信号Isの光と干渉信号Ipの光の位相差ΔφがΔφ=0となるようにコーナーリフレクタ2を変位させる。このときのコーナーリフレクタ2の変位をxとする。
この一連の操作によるIsの位相変化は、Δφs=(X/λs+x/λs)・2π、
Ipの位相変化は、Δφp=(x/λp)・2πである。
ここで、Δφ=Δφs−Δφp=0となるように操作したので、
Δφ=Δφs−Δφp={(X+x)/λs−x/λp}・2π=0となる。この式から、
x=(λp/(λs−λp))X=(1/K)・Xとなる。ここで、Kをズーム比と呼ぶ。
以上の構成からなる干渉計4によれば、コーナーリフレクタ1の変位Xを高分解能に測定することで、コーナーリフレクタ2は、さらにそのK倍高い分解能で位置決めされる。
例えば、光源7としてλs=約0.6mm、λp=約0.6μmの波長の光を用いると、K=約1000となるが、コーナーリフレクタ1の変位Xを分解能0.1μmで測定してコーナーリフレクタ2を動かすと、コーナーリフレクタ2は0.1nmの分解能で位置決めされる。
図2に示すように、コーナーリフレクタ2に、校正しようとする変位センサ5などの測長器を、校正器物取り付け説明図のように、センサ取り付け治具6によって取り付け、コーナーリフレクタ1を高精度にある分解能で動かし、位相差が0になるようにコーナーリフレクタ2を動かすと、コーナーリフレクタ2は、コーナーリフレクタ1の分解能のK倍高い分解能で位置決めされる。
コーナーリフレクタ1の変位を十分に高精度に測定するとき、コーナーリフレクタ2は正しい分解能で変位する。これにより、コーナーリフレクタ2に取り付けられた変位センサのような測長器5を校正することができる。
例えば、校正されるべき測長器5を100ピコメートルの分解能で校正しようとするとき、干渉計4のズーム比Kを1000に選んだ場合、コーナーリフレクタ1を100ナノメートルの分解能で正確に変位させれば、コーナーリフレクタ2は100ピコメートルの分解能で正確に位置決めされるので、変位センサ5などの測長器5の指示値を分解能100ピコメートルで校正することができる。
通常、干渉計が精度良く変位測定できる分解能は1nm程度であるが、本発明における干渉計4によれば、変位Xを精度良く測定すると、自動的に変位xをズーム比倍だけ小さい分解能で測定できる。このことから、コーナーリフレクタ1を精度良く動かすと、コーナーリフレクタ2は、ピエゾアクチュエータなどを用いても精度良く、高分解能に位置決めすることができる。
また、Isには、干渉計4全体のノイズが含まれるが、原理的には、Ipではノイズもズーム比倍縮小される。そして、本発明の干渉計4は、光源7としてλp、λsの波長をいろいろに組み合わせることにより、任意のズーム比が得られるので、さまざまな分解能に対応することが可能である。
(光源)
本発明に係る位置決め機構の干渉計4では、光源7として、光コムを用いる構成を特徴としている。図3及び図4は、本発明の干渉計4に用いる光源7の一例を説明する図である。図3に示す光源7は、光コムの第1及び第2の二つのモードに第1の半導体レーザーLD1(以下、単にLD1」という。)及び半導体レーザーLD2(以下、単にLD2」という。)の2台をそれぞれ安定化させ二波長光源7を得る構成である。
LD1のビームは、第1のビームスプリッターBS1で二つに分けられ、一方は安定化のための制御信号を取り出すためにBS4、回折格子1を経由して光検出器APD1(APD:アバランシェ・フォトダイオードは、逆バイアスを印加することにより光電流が 増倍される高速・高感度のフォトダイオードである。以下単に「APD」という。)に入射する。もう一方はビームスプリッターBS6を通り、干渉計4に入射する光源7となる。
コムレーザー光は、第3のビームスプリッターBS3で半分に分けられBS4でLD1の制御用ビームと合わせられる。光コムの中で、LD1の波長λに近い波長のモードだけを制御に用いるが、光コムには多くのモードが含まれているので、回折格子1を用いることにより、光コムのモードの空間的分布を広げ、制御に用いる波長付近の光とLD1の光のみをAPD1で検出する。
APD1で検出される、LD1の光とコムレーザーの一部のモードとのビート信号から制御信号を作り、図4に示すように、LD1の波長λに近い波長のコムの1モードと、LD1とのビート周波数を観測し、このビート周波数が安定する(ロックする)ようにLD1の印加電流に制御をかける。
LD2のビームについてもLD1と同様に制御し、第2のビームスプリッターBS2で二つに分けられ、一方は安定化のための制御信号を取り出すためにビームスプリッターBS5、回折格子2を経由してAPD2に入射する。もう一方はビームスプリッターBS6を通り、干渉計4に入射する光源7となる。
コムレーザー光は、第3のビームスプリッターBS3で半分に分けられビームスプリッターBS5でLD2の制御用ビームと合わせられる。回折格子2を用いることにより、コムレーザーのモードの空間的分布を広げ、制御に用いる波長付近の光とLD2の光のみをAPD2で検出する。
APD2で検出される、LD2の光とコムレーザーの一部のモードとのビート信号から制御信号を作り、LD2の波長λに近い波長のコムの1モードと、LD2とのビート周波数を観測し、図4に示すように、このビート周波数が安定する(ロックする)ようにLD2の印加電流に制御をかける。
ところで、光コムのモード間周波数間隔は非常に一定で安定しているので、この中の二つのモードに安定化した半導体レーザー光は、やはり非常に安定した一定の周波数間隔を持つ光源である。本発明に係る位置決め機構における干渉計4の光源7として、光コムを光源7に用いる構成の利点を以下に説明する。
さまざまな分解能の測長器5を校正しようとするとき、ズーム比が可変でない場合、低分解能の測長器5を校正するときには、コーナーリフレクタ1を非常に大きく変位させなければならず、高分解能な測長器5の場合は小さく変位させなければならない。
この場合、干渉計4をあらかじめ大きく作る必要性が出てきて、これは干渉計4の動作の安定性や環境安定性の点から見て、不利である。光源7を変えてズーム比を可変にすることによって干渉計4の大きさを変えずに測定を行うことができれば、動作の安定性も得られ、環境安定性の点でも有利である。
しかしながら、レーザー光源7では、任意の波長λp、λsを選ぶことは難しい。本発明の干渉計4では、光源7として光コムから切り出した光を用いることで、任意のズーム比を簡単に得ることができる。
ところで、前記特許文献1で開示されているような、光の屈折率の差を用いて分解能を逓倍する高分解能位置決め機構では、屈折率を精度良く測定できないために、ズーム比が正確に決められないという問題点があった。
しかしながら、本発明の干渉計4のように、光コムを光源7に用いると、光コムは正確で安定したモード間ビート周波数をもっているので、ここからλp、λsを切り出すと、ズーム比が正確に定まり、上記問題を解決することができる。
干渉計4に導入する光を、波長λpの光と波長λsの光とすると、光コムから切り出す二つの波長をλ、λとすると、λp、λsは、λ、λ、λとλの合成波長λs=λ・λ/(λ−λ)、又は充分に安定なレーザー光源λである。充分に安定なレーザー光源λは、λp、λsを、λ、λという組み合わせ、又は、λ、λという組み合わせ、又は、λ、λとλの合成波長という組み合わせとすることにより用いる。
図5及び図6は、本発明の実施例における光源7の別の例を説明する図である。この光源7では、図5に示すように、コムレーザー(コムレーザー)から光コムのビームをビームスプリッターを通して、第1のファブリーペロー共振器16及び第2のファブリーペロー共振器17にそれぞれ入射させて、波長λ1、λ2 の安定な光を得ることを特徴とするものである。
第1のファブリーペロー共振器16は、図6に示すように、干渉計4の光源7として用いたい波長λに対応する周波数を共振周波数にもち、光コムの1モードのみを切り出すことができるフィネスをもっており、波長λのモードの光だけを取り出す。
また、第2のファブリーペロー共振器17についても同様に、λに対応する共振器を作成し、波長λのモードの光だけを取り出す。
この光源7は、構成が非常に簡単であり、目的とするモードのみを、S/Nよく取り出すことができる。
以上、本発明を実施するための最良の形態を実施例に基づいて説明したが、本発明はこのような実施例に限定されることなく、特許請求の範囲記載の技術的事項の範囲内で、いろいろな実施例があることは言うまでもない。
本発明は、以上のような構成であるから、通信関連工業、電子工業、機械工業などの精密生産分野における精密測長器や変位計測センサを校正するための装置に用いる位置決めステージや、精密位置決め機構に適用することができる。
本発明に係る位置決め機構の実施例の全体構成である干渉計を説明する図である。 本発明の実施例の干渉計と校正するべき対象物との関係的構成を示すための対象物の取り付けを説明する図である。 本発明の実施例の光源の一例を説明する図である。 本発明の実施例の光源の一例の動作を説明する図である。 本発明の実施例の光源の別の例を説明する図である。 本発明の実施例の光源の図5に示す別の例の動作を説明する図である。
符号の説明
1 コーナーリフレクタ
2 コーナーリフレクタ
3 位置決め機構の本体
4 干渉計
5 測長器(変位センサ)
6 取り付け治具
7 光源
8 第1の光路
9 第2の光路
10 集光レンズ
11 AOM(音響光学変調器)
12 凹面鏡
13 位相比較器
14 第1の光検出器
15 第2の光検出器

Claims (4)

  1. 光コムをもとにして構成する二種類の波長の光を出す光源と、
    該光源から作り出した第1及び第2の波長の光を、双方とも第1及び第2の光路の二つに分ける第1のビームスプリッターと、
    二つに分けられた第1及び第2の波長の光を被測定体に反射させ第のビームスプリッターに入射させる第1の光路と、
    二つに分けられた第1及び第2の波長の光を音響光学変調器を介して第のビームスプリッターに入射させる第2の光路と、
    前記第1の光路の第1の波長の光の光路中に設けられ第1の波長の光の位相変調を行う直動ミラーと、
    第1の波長の光の第1及び第2の光路からそれぞれ入光された光の干渉光を受光する第1の光検出器と、
    第2の波長の光の第1及び第2の光路からそれぞれ入光された光の干渉光を受光する第2の光検出器と、
    第1及び第2の光検出器の検出信号に基づいて位相差を求め該位相差信号を被測定体の可動機構に出力する位相比較器と、を備えており、
    直動ミラーを移動させると、光源の波長によって正確に決められたズーム比に従った量だけ可動機構が移動して被測定体を位置決める位置決め機構。
  2. 前記光源は、光コムの二つの異なった波長のモードの光を取り出してこれをもとに構成したものであり、この光源から作り出され干渉計に導入される第1及び第2の波長の光としては、光コムから取り出された第1のモードの光、光コムから取り出された第2のモードの光、光コムから取り出された第1のモードの光と第2のモードの光の合成波長の光充分に安定なレーザー光源の光のうち、いずれか二つの光を用いることを特徴とする請求項記載の位置決め機構。
  3. 前記光源において、光コムの二つの異なった波長のモードの光を取り出す方法としては、2つの半導体レーザーの波長をそれぞれ光コムの2つの異なった周波数にロックするように制御する構成であることを特徴とする請求項1又は2記載の位置決め機構。
  4. 前記光源において、光コムの二つの異なった波長のモードの光を取り出す方法としては、fsコムレーザーの光を2つの異なった周波数ファブリーペロー共振器を用いて2波長を取り出す構成であることを特徴とする請求項1又は2記載の位置決め機構。
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