JP4611407B2 - 検査装置および方法、リソグラフィ装置、リソグラフィ処理セル、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
最適焦点面に対する基板の位置を表す焦点誤差信号を生成する焦点センサと、
焦点誤差信号に交流信号を与える変調器と、
交流信号が与えられた焦点誤差信号から焦点センサの利得を計算する利得決定回路と、を備える。
焦点センサ使用して、最適焦点面に対する基板の位置を表す焦点誤差信号を生成するステップと、
焦点誤差信号に交流信号を与えるステップと、
交流信号が与えられた焦点誤差信号から焦点センサの利得を計算するステップと、を含む。
パターンを照射する照明光学システムと、
パターンの像を基板の上へ投影する投影光学システムと、
基板の特性を測定する検査装置と、
を備え、前記検査装置が、
最適焦点面に対する基板の位置を表す焦点誤差信号を生成する焦点センサと、
焦点誤差信号に交流信号を与える変調器と、
交流信号が与えられた焦点誤差信号から焦点センサの利得を計算する利得決定回路と、を備える。
基板に放射性感応性層を塗布する塗布装置と、
塗布装置によって塗布された基板の放射性感応性層へ像を露光するリソグラフィ装置と、
リソグラフィ装置によって露光された像を現像する現像装置と、
基板の特性を測定する検査装置と、
を備え、前記検査装置は、
最適焦点面に対する基板の位置を表す焦点誤差信号を生成する焦点センサと、
焦点誤差信号に交流信号を与える変調器と、
交流信号が与えられた焦点誤差信号から焦点センサの利得を計算する利得決定回路と、を備える。
リソグラフィ装置を使用して基板にパターンを形成するステップと、
焦点センサ使用して、最適焦点面に対する基板の位置を表す焦点誤差信号を生成すること、
焦点誤差信号に交流信号を与えること、および
交流信号が与えられた焦点誤差信号から焦点センサの利得を計算することによって、形成されたパターンのパラメータに関連した値を決定するステップと、を含む。
距離を表す値を含む信号を出力するセンサと、
既知のサイクリック関数に従って、センサで測定されるような距離を変える変調器と、
センサによって出力される信号および既知のサイクリック関数に応じて、これらから、ターゲットと基準の間の実際の距離と、信号の値との関係を決定するように構成された信号処理装置と、を備える。
− 放射ビームB(例えば、UV放射またはDUV放射)を条件付けするように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持するように組み立てられ、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置付けするように構成された第1の位置決め装置PMに接続された支持構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
− 基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように組み立てられ、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置付けするように構成された第2の位置決め装置PWに接続された基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つまたは複数のチップを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズシステム)PLと、を含む。
Claims (12)
- 基板の特性を測定する検査装置であって、
最適焦点面に対する前記基板の位置を表す焦点誤差信号を生成する焦点センサと、
ナイフエッジに振動運動を与えて前記焦点センサのフォーカス状態に変調を与えるアクチュエータと、
前記変調が与えられた状態で生成される前記焦点誤差信号に対して、所定の周波数の変調信号の微分係数を掛けて、前記焦点センサの利得を計算する利得決定回路と、
前記焦点誤差信号をフィルタ処理して、ナイフエッジによって生じた前記変調を除去するフィルタと、
前記利得決定回路の出力信号と前記フィルタの出力信号を掛けて、前記基板の前記位置を調整するための焦点誤差を得る乗算器と、
を備える、検査装置。 - 前記焦点センサが、光センサである、請求項1に記載の装置。
- 前記焦点誤差に応じて前記基板の前記位置を調整するサーボ回路をさらに備える、請求項1に記載の装置。
- 前記検査装置が前記基板の特性を測定している間は前記変調を与えないように前記アクチュエータを制御する制御回路と、前記利得決定回路によって計算された前記利得の少なくとも1つの値を格納するメモリとをさらに備える、請求項1に記載の装置。
- 前記検査装置が、スキャトロメータである、請求項1に記載の装置。
- 前記検査装置が、レベルセンサである、請求項1に記載の装置。
- 基板の特性を測定する方法であって、
焦点センサを使用して、最適焦点面に対する前記基板の位置を表す焦点誤差信号を生成するステップと、
ナイフエッジに振動運動を与えて前記焦点センサのフォーカス状態に変調を与えるステップと、
前記変調が与えられた状態で生成される前記焦点誤差信号に対して、所定の周波数の変調信号の微分係数を掛けて、前記焦点センサの利得を計算するステップと、
前記焦点誤差信号をフィルタ処理して、ナイフエッジによって生じた前記変調を除去するステップと、
前記焦点センサの利得と前記フィルタ処理された前記焦点誤差信号を掛けて、前記基板の前記位置を調整するための焦点誤差を得るステップと、
を含む、方法。 - 前記焦点誤差に応じて前記基板の前記位置を調整するステップをさらに含む、請求項7に記載の方法。
- 前記変調を与える前記ステップが、前記基板の特性を測定している間は行われず、さらに、前記計算された利得の少なくとも1つの値を格納するステップを含む、請求項7に記載の方法。
- パターンを照射する照明光学システムと、
前記パターンの像を基板の上へ投影する投影光学システムと、
基板の特性を測定する検査装置と、
を備え、前記検査装置が、
最適焦点面に対する前記基板の位置を表す焦点誤差信号を生成する焦点センサと、
ナイフエッジに振動運動を与えて前記焦点センサのフォーカス状態に変調を与えるアクチュエータと、
前記変調が与えられた状態で生成される前記焦点誤差信号に対して、所定の周波数の変調信号の微分係数を掛けて、前記焦点センサの利得を計算する利得決定回路と、
前記焦点誤差信号をフィルタ処理して、ナイフエッジによって生じた前記変調を除去するフィルタと、
前記利得決定回路の出力信号と前記フィルタの出力信号を掛けて、前記基板の前記位置を調整するための焦点誤差を得る乗算器と、
を備える、リソグラフィ装置。 - 基板に放射性感応性層を塗布するように構成された塗布装置と、
前記塗布装置によって塗布された前記基板の前記放射性感応性層へ像を露光するリソグラフィ装置と、
前記リソグラフィ装置によって露光された像を現像する現像装置と、
基板の特性を測定するように構成された検査装置と、
を備え、前記検査装置が、
最適焦点面に対する前記基板の位置を表す焦点誤差信号を生成する焦点センサと、
ナイフエッジに振動運動を与えて前記焦点センサのフォーカス状態に変調を与えるアクチュエータと、
前記変調が与えられた状態で生成される前記焦点誤差信号に対して、所定の周波数の変調信号の微分係数を掛けて、前記焦点センサの利得を計算する利得決定回路と、
前記焦点誤差信号をフィルタ処理して、ナイフエッジによって生じた前記変調を除去するフィルタと、
前記利得決定回路の出力信号と前記フィルタの出力信号を掛けて、前記基板の前記位置を調整するための焦点誤差を得る乗算器と、
を備える、リソグラフィセル。 - リソグラフィ装置を使用して基板にパターンを形成すること、
焦点センサを使用して、最適焦点面に対する前記基板の位置を表す焦点誤差信号を生成すること、
ナイフエッジに振動運動を与えて前記焦点センサのフォーカス状態に変調を与えること、および
前記変調が与えられた状態で生成される前記焦点誤差信号に対して、所定の周波数の変調信号の微分係数を掛けて、前記焦点センサの利得を計算すること、
前記焦点誤差信号をフィルタ処理して、ナイフエッジによって生じた前記変調を除去すること、
前記焦点センサの利得と前記フィルタ処理された前記焦点誤差信号を掛けて、前記基板の前記位置を調整するための焦点誤差を得ること、
を含む、デバイス製造方法。
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Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102203676B (zh) * | 2008-11-07 | 2013-12-04 | Asml荷兰有限公司 | 散射仪和光刻设备 |
WO2010130673A1 (en) * | 2009-05-15 | 2010-11-18 | Asml Netherlands B.V. | Inspection method for lithography |
JPWO2010137637A1 (ja) * | 2009-05-27 | 2012-11-15 | 株式会社ニコン | 形状測定装置、形状測定方法、および、製造方法 |
EP2491452A4 (en) | 2009-10-19 | 2015-03-11 | Ventana Med Syst Inc | IMAGING SYSTEM AND TECHNIQUES |
JP5525919B2 (ja) * | 2010-05-28 | 2014-06-18 | 株式会社東芝 | 欠陥検査方法および欠陥検査装置 |
WO2016050453A1 (en) | 2014-10-03 | 2016-04-07 | Asml Netherlands B.V. | Focus monitoring arrangement and inspection apparatus including such an arragnement |
US9885656B2 (en) * | 2014-12-17 | 2018-02-06 | Kla-Tencor Corporation | Line scan knife edge height sensor for semiconductor inspection and metrology |
KR102607646B1 (ko) * | 2015-05-19 | 2023-11-29 | 케이엘에이 코포레이션 | 오버레이 측정을 위한 지형 위상 제어 |
US10740783B2 (en) | 2016-04-25 | 2020-08-11 | Broadsign Serv, Llc | Method and digital signage player for managing distributed digital signage content |
CN112631086A (zh) * | 2016-07-11 | 2021-04-09 | Asml荷兰有限公司 | 用于确定性能参数的指纹的方法和设备 |
EP3336606A1 (en) | 2016-12-16 | 2018-06-20 | ASML Netherlands B.V. | Method for monitoring a characteristic of illumination from a metrology apparatus |
JP2019079029A (ja) | 2017-10-24 | 2019-05-23 | キヤノン株式会社 | 露光装置および物品の製造方法 |
WO2019082727A1 (ja) * | 2017-10-24 | 2019-05-02 | キヤノン株式会社 | 露光装置および物品の製造方法 |
EP3521930A1 (en) * | 2018-02-02 | 2019-08-07 | ASML Netherlands B.V. | Method of optimizing a metrology process |
DE102020108333B3 (de) | 2020-03-26 | 2021-07-15 | Technische Universität Ilmenau | Verfahren und Vorrichtung zur Kompensation von instationären Aberrationen bei der konfokalen Vermessung einer Probenoberfläche |
WO2024199876A1 (en) * | 2023-03-30 | 2024-10-03 | Asml Netherlands B.V. | Height measurement error determination |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5798139A (en) * | 1980-12-09 | 1982-06-18 | Fujitsu Ltd | Optical recorder and reproducer |
JPS6042984A (ja) * | 1983-08-19 | 1985-03-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 自動焦点整合装置 |
JPS6165672A (ja) * | 1984-09-07 | 1986-04-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ビデオカメラ用自動焦点装置 |
JPS62146081A (ja) * | 1985-12-20 | 1987-06-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 自動焦点整合装置 |
JPH0289413U (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-16 | ||
JPH02246026A (ja) * | 1989-03-18 | 1990-10-01 | Pioneer Electron Corp | フォーカスサーボループのループゲイン設定方法 |
JPH04329079A (ja) * | 1991-04-30 | 1992-11-17 | Canon Inc | 磁気記録撮影装置 |
JP2005142576A (ja) * | 2003-10-17 | 2005-06-02 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ処理セル、リソグラフィ装置、トラック、及びデバイス製造法 |
JP2006146175A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-08 | Kenho Rin | ズーム機能とフォーカス機能を備えた多層式単一レンズ |
JP2006196716A (ja) * | 2005-01-14 | 2006-07-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
JP2007173807A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Asml Netherlands Bv | デバイス製造方法およびコンピュータプログラム製品 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57113428A (en) * | 1980-12-29 | 1982-07-14 | Pioneer Video Corp | Focus servo device |
US4435055A (en) * | 1981-08-12 | 1984-03-06 | The Gerber Scientific Instrument Company | Multiple frequency ranging apparatus for focus control |
JPS60210733A (ja) | 1984-04-04 | 1985-10-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レンズ光軸検査装置 |
NL8600253A (nl) * | 1986-02-03 | 1987-09-01 | Philips Nv | Optisch afbeeldingssysteem voorzien van een opto-elektronisch fokusfoutdetektiestelsel. |
JPH0289413A (ja) | 1988-09-27 | 1990-03-29 | Yokogawa Electric Corp | フィルタ |
JPH02265025A (ja) | 1989-04-05 | 1990-10-29 | Pioneer Electron Corp | サーボループのループゲイン設定方法 |
US5251194A (en) * | 1989-04-17 | 1993-10-05 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Techniques for controlling beam position and focus in optical disk drives |
JP2960746B2 (ja) * | 1990-03-15 | 1999-10-12 | 株式会社日立製作所 | ビーム照射方法および電子ビーム描画方法とビーム照射装置並びに電子ビーム描画装置 |
NL9100215A (nl) * | 1991-02-07 | 1992-09-01 | Asm Lithography Bv | Inrichting voor het repeterend afbeelden van een maskerpatroon op een substraat. |
NL9100410A (nl) * | 1991-03-07 | 1992-10-01 | Asm Lithography Bv | Afbeeldingsapparaat voorzien van een focusfout- en/of scheefstandsdetectie-inrichting. |
JP3851657B2 (ja) * | 1994-06-02 | 2006-11-29 | アーエスエム リソグラフィ ベスローテン フェンノート シャップ | マスクパターンを基板上に繰り返し結像する方法及びこの方法を実施する装置 |
KR100214046B1 (ko) * | 1995-03-27 | 1999-08-02 | 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 | 초해상 광헤드장치 |
US5696589A (en) * | 1996-05-20 | 1997-12-09 | Lockheed Martin Energy Systems, Inc. | Optical caliper with compensation for specimen deflection and method |
TW498067B (en) | 1996-07-19 | 2002-08-11 | Hoffmann La Roche | 4-hydroxy-piperidine derivatives |
US5926266A (en) * | 1996-09-23 | 1999-07-20 | International Business Machines Corporation | Optical apparatus for rapid defect analysis |
US5978091A (en) * | 1998-06-26 | 1999-11-02 | Hmt Technology Corporation | Laser-bump sensor method and apparatus |
WO2001048742A1 (en) * | 1999-12-24 | 2001-07-05 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Optical scanning unit comprising a detection system for detecting the position of a movable element within the unit |
US6690636B1 (en) * | 2000-09-27 | 2004-02-10 | Eastman Kodak Company | Preformatting optical recording medium |
US6458605B1 (en) * | 2001-06-28 | 2002-10-01 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and apparatus for controlling photolithography overlay registration |
EP2275828A3 (en) * | 2002-04-03 | 2011-05-04 | Panasonic Corporation | Optical information device, optical storage medium, optical storage medium inspection device, and optical storage inspection method |
US20070104050A1 (en) | 2003-06-25 | 2007-05-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Focus control device and tracking control device |
JP2006040380A (ja) | 2004-07-26 | 2006-02-09 | Ricoh Co Ltd | 光記録装置 |
US7791727B2 (en) | 2004-08-16 | 2010-09-07 | Asml Netherlands B.V. | Method and apparatus for angular-resolved spectroscopic lithography characterization |
-
2007
- 2007-07-18 US US11/826,830 patent/US7869022B2/en active Active
-
2008
- 2008-07-11 JP JP2008180849A patent/JP4611407B2/ja active Active
- 2008-07-17 NL NL1035713A patent/NL1035713A1/nl active Search and Examination
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5798139A (en) * | 1980-12-09 | 1982-06-18 | Fujitsu Ltd | Optical recorder and reproducer |
JPS6042984A (ja) * | 1983-08-19 | 1985-03-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 自動焦点整合装置 |
JPS6165672A (ja) * | 1984-09-07 | 1986-04-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ビデオカメラ用自動焦点装置 |
JPS62146081A (ja) * | 1985-12-20 | 1987-06-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 自動焦点整合装置 |
JPH0289413U (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-16 | ||
JPH02246026A (ja) * | 1989-03-18 | 1990-10-01 | Pioneer Electron Corp | フォーカスサーボループのループゲイン設定方法 |
JPH04329079A (ja) * | 1991-04-30 | 1992-11-17 | Canon Inc | 磁気記録撮影装置 |
JP2005142576A (ja) * | 2003-10-17 | 2005-06-02 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ処理セル、リソグラフィ装置、トラック、及びデバイス製造法 |
JP2006146175A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-08 | Kenho Rin | ズーム機能とフォーカス機能を備えた多層式単一レンズ |
JP2006196716A (ja) * | 2005-01-14 | 2006-07-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
JP2007173807A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Asml Netherlands Bv | デバイス製造方法およびコンピュータプログラム製品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20090021708A1 (en) | 2009-01-22 |
NL1035713A1 (nl) | 2009-01-20 |
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