JP5443405B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
パターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターンを上記パターニングデバイスから上記基板のターゲット部分上に転写するように構成されたパターニングシステムと、
上記パターンが上記基板の複数のターゲット部分で繰り返し印加されるように、一連の移動を含むパターニングパスで上記基板テーブル、上記パターニングシステム及び上記パターニングデバイスを互いに対して位置決めするように動作可能な位置決め装置と、
1つ又は複数の基準基板からベースライン制御パラメータを定義する測定値を周期的に検索することで、上記支持体、基板テーブル又はパターニングシステムのうちの少なくとも1つの制御を支援し、そのため上記ベースライン制御パラメータからのパラメータのドリフトを決定し、それにより上記ドリフトを許容及び/又は修正するように動作可能な制御モジュールであって、上記基準基板が上記ベースライン制御パラメータを決定するようにパターニングを初期に実行されている制御モジュールと、
を備え、
上記装置が、上記少なくとも1つの基準基板の上記初期のパターニング中に上記1つ又は複数の基準基板のうちの少なくとも1つ上で複数のパターニングパスを実行するように動作可能なリソグラフィ装置が提供される。
− 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PLとを備える。
1.ステップモードにおいては、マスクテーブルMT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードにおいては、マスクテーブルMT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の(スキャン方向における)高さが決まる。
3.別のモードでは、マスクテーブルMTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
・FXYテストと同様のテストを用いてスキャナ安定性モジュールのモニタウェーハ上のマルチパス露光を実行する。
・各露光パスの前に標準SA/WA/RA/LoCoシーケンスを実行する。あるいは、非標準シーケンスを使用してもよい。レチクルアラインとロット修正のみを実行すれば十分である。代替的に又は追加的に、非標準シーケンスはスループットを犠牲にすることはあっても精度を向上させる。このような方法は、同日出願の内部参照番号P−3592.000(D8062)の姉妹特許出願に開示されている。そこに開示された方法を本明細書に開示する方法と併用することができる。
・複数の露光パスに対応するオーバレイ測定値(スキャトロメータを使用するような検査/メトロロジーツールを用いて得た)を平均化することでSA/WA/RA/LoCoの影響を低減する。これは、調整すべき較正オフセットをノイズから分離するためにSA/WA/RA/LoCoの寄与を平均化することでスキャナ安定性モジュールコントローラ内で実行することができる。
・必要に応じて、デフォルトの単一パスの製品同様の露光とマルチパス露光との間にあり得る系統的オーバレイオフセット(例えば、BAOの差)を決定するために1回の較正(スキャナ当たり又はスキャナファミリ当たり)を実行する。
・ソフトウェア及びスキャナ安定性モジュールのロットをテストするためのマルチパス露光の使用を制限する(例えば、スキャナ安定性モジュール固有のロットIDがスキャナ安定性モジュール固有のレシピと組み合わせて検出される時にだけマルチパスを利用可能にする)。
Claims (16)
- リソグラフィ装置であって、
パターニングデバイスを支持する支持体と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターニングデバイスから前記基板のターゲット部分上にパターンを転写するパターニングシステムと、
前記基板の複数のターゲット部分に前記パターンが繰り返し転写されるように、前記基板テーブル、前記パターニングシステム及び前記パターニングデバイスを互いに対して位置決めするように動作可能な位置決め装置と、
ベースライン制御パラメータを定義する測定値を1つ又は複数の基準基板から周期的に検索して前記ベースライン制御パラメータからのパラメータのドリフトを決定し、前記ドリフトの許容及び/又は修正を可能にすることによって、前記支持体、前記基板テーブル又は前記パターニングシステムのうちの少なくとも1つの制御を支援するように動作可能な制御モジュールであって、前記基準基板は、前記ベースライン制御パラメータを決定するように事前に転写されたパターンを有する、制御モジュールと、を備え、
前記リソグラフィ装置が、
前記事前のパターンの転写において、少なくとも1つの前記基準基板上で、複数回の蛇行露光を実行するマルチパス露光を実行して、実際のレジスト内オーバレイとSA/WA/RA/LoCoのアライメントモデルに基づいて予想されるオーバレイとの間の、前記複数回の蛇行露光に対応する系統的線形オフセットを平均化して前記測定値を得るように動作可能であり、
各前記蛇行露光に先立ってSA/WA/RA/LoCoのアライメントを実行するように動作可能であり、
SAが、前記基板テーブルをアライメントするステージアライン、WAが、前記基板をアライメントするウェーハアライン、RAが、前記パターニングデバイスをアライメントするレチクルアライン、LoCoがロット修正である、リソグラフィ装置。 - 前記制御モジュールと他のリソグラフィ装置との間のインタフェースをさらに備え、前記インタフェースによって前記制御モジュールがマルチパス露光の機能にアクセスすることができる、請求項1に記載の装置。
- 前記マルチパス露光の機能が、前記リソグラフィ装置用のテストモジュール内に含まれる、請求項2に記載の装置。
- 前記マルチパス露光の機能が、前記テストモジュール又は前記制御モジュールによる使用に限定されるように動作可能である、請求項3に記載の装置。
- 各々の前記ターゲット部分が1回だけパターニングを実行されるように前記基準基板上で前記マルチパス露光が実行される、請求項1〜4のいずれか1項に記載の装置。
- 前記測定値の測定のため及び/又は前記基準基板上のオーバレイの測定ためのスキャトロメータを組み込んだ検査デバイスをさらに備える、請求項1〜5のいずれか1項に記載の装置。
- デフォルトの単一パス露光とマルチパス露光との間の可能な系統的オーバレイオフセットを決定するために1回の較正を実行するように動作可能である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の装置。
- 投影リソグラフィを実行するように動作可能であって、
放射ビームを調節する照明システムと、
前記パターニングシステム内に含まれる投影システムと、を備え、
前記パターニングデバイスが、前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することが可能であり、及び、前記投影システムが、前記基板の前記ターゲット部分上に前記パターン付放射ビームを投影して前記パターニングを実行する、請求項1〜7のいずれか1項に記載の装置。 - 少なくともスキャンモードで動作可能であり、前記パターン付放射ビームが、前記基板の前記ターゲット部分全体でスキャンされる、請求項8に記載の装置。
- リソグラフィ装置用の少なくとも1つの基準基板をパターニングする方法であって、前記基準基板が、ベースライン制御パラメータを定義する測定値を少なくとも1つの基準基板から周期的に検索する制御モジュールと組み合わせて使用可能であり、前記ベースライン制御パラメータからのパラメータのドリフトを決定して前記ドリフトの許容及び/又は修正を可能にすることによってリソグラフィ工程中にスキャン制御を支援し、前記ベースライン制御パラメータが、前記リソグラフィ装置を用いて前記少なくとも1つの基準基板を事前にパターニングすることによって決定され、
前記方法が、少なくとも1つの前記基準基板上で、複数回の蛇行露光を実行するマルチパス露光を実行して、実際のレジスト内オーバレイとSA/WA/RA/LoCoのアライメントモデルに基づいて予想されるオーバレイとの間の、前記複数回の蛇行露光に対応する系統的線形オフセットを平均化して前記測定値を得るステップを含み、
前記マルチパス露光が、前記基準基板の複数のターゲット部分にパターンを繰り返し転写するステップを含み、
各前記蛇行露光に先立ってSA/WA/RA/LoCoのアライメントが実行され、
SAが、基板テーブルをアライメントするステージアライン、WAが、基板をアライメントするウェーハアライン、RAが、パターニングデバイスをアライメントするレチクルアライン、LoCoがロット修正である、方法。 - 前記マルチパス露光の機能が、前記リソグラフィ装置上でのテストルーチンの実行に通常使用される、請求項10に記載の方法。
- 前記マルチパス露光の機能が、テストモジュール又はスキャン制御モジュールによる使用に限定される、請求項11に記載の方法。
- 各々の前記ターゲット部分が1回だけパターニングを実行されるように前記基準基板上で前記マルチパス露光が実行される、請求項10〜12のいずれか1項に記載の方法。
- 前記測定値の測定が、スキャトロメータを組み込んだ検査デバイスを用いて実行される、請求項10〜13のいずれか1項に記載の方法。
- デフォルトの単一パス露光とマルチパス露光との間の可能な系統的オーバレイオフセットを決定するために1回の較正を実行するステップをさらに含む、請求項10〜14のいずれか1項に記載の方法。
- 請求項10〜15のいずれか1項に記載の方法をリソグラフィ装置に実行させるように動作可能なコンピュータプログラム。
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