JP4610807B2 - 薄型ヒューズ - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は薄型ヒューズに関し、二次電池保護用温度ヒューズとして有用なものである。
【0002】
【従来の技術】
携帯電子機器の電源として使用されている二次電池においては、携帯電話・携帯端末やノート型パソコン等の多機能化のために高密度エネルギー化、高容量密度化が要請され、リチウムイオン二次電池等の高密度エネルギー・高容量密度二次電池が開発されている。
而るに、二次電池が高密度エネルギー・高容量密度になるほど、短絡等による発生熱も大きく、電池爆裂の危険性が高い。
そこで、温度ヒューズを二次電池の缶体に熱的に接触させて取付け、当該電池の所定の昇温で温度ヒューズを作動させて当該電池の充電・放電を遮断させることが行われている。
一方、近来、携帯電話、ノート型パソコン等の小型軽量化・薄型化が進められ、これに伴う二次電池の小型・薄型化に対応するために、温度ヒューズにおいても、小型・薄型化が要請されている。
【0003】
而して、本出願人においては、薄型ヒューズ、特に薄型温度ヒューズとして、図4の(イ)に示すように、「一対のリード導体2’,2’の各先端部21’,21’を絶縁プレート1’の片面11’より他面12’に水密に表出させ、該絶縁プレート1’の他面12’において、上記のリード導体先端部21’,21’間にヒューズエレメント3’を接続し、同上絶縁プレート1’の他面12を絶縁被覆(5’)した薄型ヒューズ」をすでに提案した(特公平7−95419号、特開平7−201263号、特開平7−201265号等)。
この薄型ヒューズによれば、例えば、絶縁プレートには厚み200μmのプラスチックフィルムを、リード導体には厚み100μmの帯状導体を、絶縁被覆体(カバー用絶縁体)には厚み200μmのプラスチックフィルムをそれぞれ使用することにより、厚み1000μm以下の薄型温度ヒューズを提供できる。更に、絶縁プレートとカバー用絶縁体との界面にリード導体を挿通させなくてもすみ、その界面のシールが確実・容易である利点も得られる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
図4の(ロ)及び(ハ)〔図4の(ロ)のハ−ハ断面図〕は、上記薄型ヒューズにおけるリード導体先端部21’の絶縁プレート片面11’から他面12’への導出構造を示し、先端部を膨出させ、その膨出部21’を絶縁プレート1’の片面11’から他面12’に現出させると共にリード導体2’と絶縁プレート1’との間を熱融着等により密着させてあり、ヒューズエレメント3’の封止保証のために、膨出部21’の周りに所定広さd1,d2の密着領域を採っている。従って、図4の(イ)において、リード導体先端20’が膨出部21’の前端縁211’より距離d1だけ前方に位置されており、両リード導体先端20’,20’間の距離lが膨出部21’,21’間の距離Lよりも短くされている。
【0005】
上記薄型ヒューズの作動機構は、電池の過熱等によりヒューズエレメント(可溶合金片)3’が溶融され、この溶融合金が既溶融のフラックス4’との共存下、フラックスの活性力や界面エネルギーにより球状化分断され、この溶融分断合金がリード導体2’の膨出部21’表面に濡れ拡がって通電が遮断され、その通電遮断による降温でその濡れ拡がり合金が冷却固化されることにあり、その通電遮断の当所、リード導体2,2間に回路電圧が課電され、絶縁プレート片面11’のリード導体先端20’,20’間には、絶縁プレート面に沿う沿面ストレスが作用する。
而るに、リード導体先端20’,20’間の絶縁プレート沿面距離lが前記した通り短く、その間の沿面絶縁強度が本来的に低く、更に、その沿面絶縁強度が湿分付着や汚損などにより低下されることがあるために、リード導体先端間の沿面ストレスにより沿面導通が生じ易く、上記リード導体膨出部間のヒューズエレメントの溶断による通電遮断に引き続き沿面導通が発生して通電遮断を円滑に行い得ない畏れがある。
【0006】
本発明の目的は、上記の薄型ヒューズにおいて、絶縁プレート裏面のリード導体先端間の沿面絶縁強度を高めて遮断特性の向上を図ることにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る薄型ヒューズは、ベース用絶縁体の片面に一対のリード導体が固着され、各リード導体の先端部がベース用絶縁体の他面に導出され、その他面における導出前縁に対し片面のリード導体先端が同一位置若しくは1000μm以内の前方に位置され、両導出部間にヒューズエレメントが接続され、該ヒューズエレメントを覆うカバー用絶縁体がベース用絶縁体他面の周囲に固着され、ベース用絶縁体片面にベース用絶縁体とリード導体先端部との間の水密性を高めるための水密化処理が施されていることを特徴とする構成であり、水密化処理はベース用絶縁体片面にリード導体先端部を覆う水密絶縁層を付設することにより行うことができ、また、この水密絶縁層及びベース用絶縁体のそれぞれを、カバー用絶縁体よりも薄くすることができる。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について説明する。
図1の(イ)は請求項2に係る薄型温度ヒューズの一実施例を示す一部切欠平面図、図1の(ロ)は図1の(イ)におけるロ−ロ断面図、図1の(ハ)は図1の(イ)におけるハ−ハ断面図である。
図1において、1はベース用絶縁体であり、通常、プラスチックが用いられる。2はリード導体であり、通常、帯状導体が用いられ、先端部を絞り出し加工等により所定の輪郭、例えば四角輪郭で膨出させ、この膨出部21をベース用絶縁体片面11から他面12に導出させると共にリード導体2とベース用絶縁体1とを溶着等により固着してあり、ベース用絶縁体他面12におけるリード導体膨出部21の前縁210に対しベース用絶縁体片面11のリード導体先端20を同じ位置に位置させてある。従って、ベース用絶縁体片面11のリード導体先端20,20間の間隔L1がリード導体の膨出部21,21間の間隔L2に等しくされて従来例のリード導体先端間の間隔(図4におけるl)よりも広げられている。
6はベース用絶縁体1の他面11にリード導体先端部21,21を水密に覆って付設した絶縁層であり、熱可塑性プラスチックフィルムの加熱溶着、絶縁プラスチックフィルムの粘着剤、硬化型若しくはホットメルト接着剤による貼着、絶縁塗料のコーティング等により行うことができる。
3はリード導体2,2の膨出部21,21間に溶接等により接続した可溶合金片であり、一層の薄型化のためにテープ状のものを使用することが好ましい。
4は可溶合金片3に塗布したフラックスである。
5はカバー用絶縁体であり、通常、プラスチックが用いられ、周囲部を前記ベース用絶縁体他面12の周囲部に超音波溶着または高周波溶着等により固着してフラックス塗布可溶合金片を封止してある。この場合、更なる薄型化のために、カバー用絶縁体5を可溶合金片3に、その分断球状化を妨げない範囲内で接触させることが好ましい。
【0009】
上記実施例の薄型温度ヒューズを製造するには、先端部を膨出加工した帯状リード導体をベース用絶縁体面に配し、これらのリード導体をベース用絶縁体面に加熱溶着し、更に、リード導体先端を覆って水密絶縁層を付設し、ついで、反転してリード導体の膨出部間に可溶合金片を接続し、フラックスを塗布したうえで、カバー用絶縁体をベース用絶縁体上に載せ、これらの周囲部を超音波溶着または高周波溶着することができる。
また、先端側に膨出部を加工した帯状リード導体をベース用絶縁体面に配し、これらのリード導体をベース用絶縁体面に加熱溶着し、ついで、反転してリード導体の膨出部間に可溶合金片を接続し、フラックスを塗布したうえで、カバー用絶縁体をベース用絶縁体上に載せ、これらの周囲部を超音波溶着または高周波溶着し、而るのち、リード導体先端を覆ってベース用絶縁体面に水密絶縁層を付設することができる。
また、先端側に膨出部を加工した帯状リード導体をベース用絶縁体と水密絶縁層との間に配し、リード導体と絶縁体、絶縁層との間を同時に加熱溶着し、ついで、反転してリード導体の膨出部間に可溶合金片を接続し、フラックスを塗布したうえで、カバー用絶縁体をベース用絶縁体上に載せ、これらの周囲部を超音波溶着または高周波溶着することができる。
【0010】
本発明に係る薄型温度ヒューズにおいては、ベース用絶縁体外面11に沿うリード導体先端20,20間の距離L1を従来例に較べ長くしてあるから、その間の沿面絶縁強度を増大できる。また、従来例におけるリード導体の先端膨出部での前縁の水密性を担う融着界面部分(図4におけるd1部分)を欠如しているが、ベース用絶縁体外面11にリード導体先端20を覆って水密に絶縁層6を設けてあるから、ヒューズエレメント3に対する封止性も良好である。
特に、図1に示す実施例では、両リード導体2,2の露出部位e,e間の距離L0が長くされていることもベース用絶縁体外面11のリード導体先端20,20間の沿面絶縁強度の向上に役立っている。
なお、薄型温度ヒューズ本体を相手面に接触させた場合に相手発生熱をリード導体の高い熱伝導性によりヒューズエレメントに迅速に伝達させるには、リード導体と相手面との接触面積を可及的に大きくすることが有効であり、沿面絶縁強度の向上との兼ね合いから、水密絶縁層6をリード導体先端20からリード導体膨出部21付近までを被覆することが好ましい。
【0011】
図4で説明した通り、従来の薄型温度ヒューズにおいては、ヒューズ作動時に、リード導体先端間のベース用絶縁体外面に沿う沿面絶縁強度が低く、ヒューズ作動時にリード導体先端間のベース用絶縁体外面に沿い作用する沿面ストレスにより沿面導通が生じ易い。
而るに、本発明に係る薄型温度ヒューズにおいては、封止性をよく保証しつつリード導体先端間のベース用絶縁体外面に沿う沿面絶縁強度を向上できるから、沿面導通を良好に抑制できる。
【0012】
上記の実施例では、両リード導体2,2の先端部21,21を覆って絶縁層6を付設しているが、図2に示すように、各リード導体先端部21,(21)を覆うようにして各リード導体先端部21,(21)のそれぞれに対して水密絶縁層6,(6)を設けてもよい。
【0013】
また、上記の実施例では、ベース用絶縁体他面におけるリード導体膨出部の前縁に対しベース用絶縁体片面のリード導体先端を同一位置に位置させているが、図3において、ベース用絶縁体1の片面11のリード導体先端20,20間の距離L1を従来例よりも広くできることを条件として、ベース用絶縁体他面12におけるリード導体膨出部21の前縁211に対しベース用絶縁体片面11のリード導体先端20を前方に位置させても、ベース用絶縁体片面11のリード導体先端20,20間の沿面絶縁強度を向上でき、従って、図3におけるΔLが1000μm以内の範囲内であれば、前方に位置させてもよい。
【0014】
本発明に係る薄型温度ヒューズにおいては、水密絶縁層、ベース用絶縁体フィルムの厚みを調整することにより薄型ヒューズの厚みを調整でき、水密絶縁層及びベース用絶縁体フィルムにカバー用絶縁体フィルムに較べて薄いものを使用することにより、ヒューズの一層の薄型化を図ることができる。
【0015】
本発明において、ベース用絶縁体、カバー用絶縁体、フィルム水密絶縁層には、厚み50μm〜300μm程度のプラスチックフィルム、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリブチレンテレフタレ−ト、ポリフェニレンオキシド、ポリエチレンサルファイド、ポリサルホン等のエンジニアリングプラスチック、ホリアセタ−ル、ポリカ−ボネ−ト、ポリフェニレンスルフィド、ポリオキシベンゾイル、ポリエ−テルエ−テルケトン、ポリエ−テルイミド等のエンジニアリングプラスチックやポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリ塩化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、エチレンポリテトラフルオロエチレン共重合体、エチレン酢酸ビニル共重合体、AS樹脂、ABS樹脂、アイオノマ−、AAS樹脂、ACS樹脂等のフィルムを使用できる。
前記水密絶縁層用の絶縁塗料としては、樹脂の溶剤溶液、水溶性樹脂の水溶液を使用できる。
【0016】
前記リ−ド導体には、上記のフィルムよりも薄い厚み50μm〜300μm程度の例えば、ニッケル、銅、ステンレス帯状体を使用でき、先端に可溶合金片との溶接性に優れた金属を、後端に電極とのはんだ付け性に優れた金属を、例えば、銀、銅をめっき、またはクラッド等による複合化することもできる。
【0017】
上記可溶合金片には、線径200〜500μmφの所定融点の可溶合金体、またはその扁平帯体を使用でき、融点は機器の保護温度に応じて選定されるが、通常、固相線温度が80℃〜120℃、固相線温度が80℃〜120℃である合金が使用される。例えばIn30〜75重量%、Sn5〜50重量%、Cd0.5〜25重量%の合金、更にこの合金組成にAu、Ag、Cu、Al、Biのうちの1種または2種以上を合計0.1〜5重量%添加した合金、Bi48〜53重量%、Pb28〜33重量%、Sn13〜19重量%の合金、In0.5〜4重量%、Bi50〜54重量%、Pb30〜34重量%、Sn14〜18重量%の合金、In46〜51重量%、Sn40〜47重量%、Bi3〜12重量%の合金、等を使用できる。
本発明の上記実施例は、アキシャル型についてのものであるが、ラジアル型に対しても適用できる。
【0018】
上記フラックスには、天然ロジン、変性ロジン(水添ロジン、不均化ロジン、重合ロジン等)及びこれらの精製ロジンにジエチルアミンの塩酸塩、ジエチルアミンの臭化水素酸塩等を添加したものを使用できる。
【0019】
本発明にかかわる薄型温度ヒューズにおいて、ヒューズエレメントの抵抗値をR、平時通電電流をi、ヒューズエレメントの融点をT、機器の保護温度をTxとし、ヒューズエレメントのジュール発熱によるヒューズエレメントの昇温温度をαRiとすれば、
【数1】
T=αRi+Tx (1)
が成立し、通常αRiを無視できるが、Rや電流値iが大きい場合は、式(1)に従ってヒューズエレメントの融点をTを設定することが必要である。
【0020】
【実施例】
以下の実施例及び比較例の耐電圧値は、可溶合金片を溶断させたのち、リード導体間に電圧を課電し、0.5kv/1秒で昇圧して測定した。
【0021】
〔実施例1〕
図1において、ベース用絶縁体1に長さ10.5mm、巾6mm、厚み0.125mmのポリエチレンテレフタレートフィルムを、リード導体2には、膨出部21表面を銅面とするように先端部側に銅をクラッドした巾3.5mm、厚み0.1mmの銅−ニッケル複合体をそれぞれ用い、各リード導体2のベース用絶縁体1への接触長さを3.75mmとして溶着し、リード導体先端間距離L1と膨出部間の距離L2を等しくし3.0mmとした。ベース用絶縁体片面11に対し各リード導体2が突出し,図1の(ハ)において、その突出高さΔhは25μmであった。
ベース用絶縁体外面11に両リード導体2,2の先端膨出部21,21を覆って厚み0.075mmのポエチレンテレフタレートフィルム6を溶着により付設した。
また、可溶合金片3の直径を0.446mmとし、フラックス4にロジンを用い、カバー用絶縁体5には厚み0.188mmのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用した。
【0022】
〔比較例〕
図4において、ベース用絶縁体1’に長さ10.5mm、巾6mm、厚み0.188mmのポリエチレンテレフタレートフィルムを、リード導体2’には、膨出部21’表面を銅面とするように先端部側に銅をクラッドした巾3.5mm、厚み0.1mmの銅−ニッケル複合体をそれぞれ用い、寸法d1を1.1mm、リード導体先端20’,20’間距離lを0.8mm、リード導体膨出部21’,21’間距離lを3.0mm、各リード導体2’のベース用絶縁体1’への接触長さを4.85mmとしてベース用絶縁体に両リード導体を溶着した。各リード導体2’がベース用絶縁体片面11’に食い込み、図4の(ハ)における段差Δhが、25μmであった。
また、可溶合金片3’の直径を0.446mmとし、フラックス4’にロジンを用い、カバー用絶縁体5’には厚み0.188mmのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用した。
【0023】
これらの各実施例品並びに比較例品について、耐電圧値を測定したところ(試料数10個の平均値)、比較例品が2.3kvに過ぎなかったのに対し、実施例品では6.6kv(比較例品の187%アップ)であり、耐電圧値の飛躍的向上を達成し得た。
また、リード導体の膨出部がベース用絶縁体から剥離する方向にリード導体の90°曲げを、リード導体が曲げ破断するまで繰返し行い、剥離の有無を観察したが、実施例、比較例とも剥離は観られなかった。
【0024】
【発明の効果】
本発明によれば、本出願人が既に提案した薄型ヒューズ、すなわち「一対のリード導体の各先端部を絶縁プレートの片面より他面に水密に表出させ、該絶縁プレートの片面の他面において、上記のリード導体先端部間にヒューズエレメントを接続し、同上絶縁プレートの他面を絶縁被覆したことを特徴とする薄型ヒューズ」の作動時での絶縁プレート外面のリード導体先端間の沿面絶縁強度を封止性を保証しつつ飛躍的に向上でき、ヒューズ作動時の沿面導通をよく抑制でき、一層のヒューズ遮断特性の向上を図ることができる。
特に、請求項2の薄型ヒューズでは、ベース用絶縁体、水密絶縁層の厚み調整により薄型ヒューズの厚み調整ひいては薄型化を容易に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】請求項2の薄型ヒューズの一実施例を示す図面である。
【図2】請求項2の薄型ヒューズの別実施例を示す図面である。
【図3】請求項2の薄型ヒューズの他の実施例を示す図面である。
【図4】従来の薄型ヒューズを示す図面である。
【符号の説明】
1 ベース用絶縁体
2 リード導体
20 リード導体先端
21 リード導体膨出部
211 膨出部前縁
3 ヒューズエレメント
4 フラックス
5 カバー用絶縁体
6 水密絶縁層

Claims (3)

  1. ベース用絶縁体の片面に一対のリード導体が固着され、各リード導体の先端部がベース用絶縁体の他面に導出され、その他面における導出前縁に対し片面のリード導体先端が同一位置若しくは1000μm以内の前方に位置され、両導出部間にヒューズエレメントが接続され、該ヒューズエレメントを覆うカバー用絶縁体がベース用絶縁体他面の周囲に固着され、ベース用絶縁体片面にベース用絶縁体とリード導体先端部との間の水密性を高めるための水密化処理が施されていることを特徴とする薄型ヒューズ。
  2. ベース用絶縁体片面にリード導体先端部を覆って水密絶縁層が付設されている請求項1記載の薄型ヒューズ。
  3. ベース用絶縁体及び水密絶縁層のそれぞれが、カバー用絶縁体よりも薄くされている請求項2記載の薄型ヒューズ。
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