JP3866366B2 - 回路保護素子の製造方法 - Google Patents

回路保護素子の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP3866366B2
JP3866366B2 JP12466297A JP12466297A JP3866366B2 JP 3866366 B2 JP3866366 B2 JP 3866366B2 JP 12466297 A JP12466297 A JP 12466297A JP 12466297 A JP12466297 A JP 12466297A JP 3866366 B2 JP3866366 B2 JP 3866366B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin layer
alloy piece
soluble alloy
flux
cured resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP12466297A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH10283890A (ja
Inventor
充明 植村
俊朗 川西
尚 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Uchihashi Estec Co Ltd
Original Assignee
Uchihashi Estec Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Uchihashi Estec Co Ltd filed Critical Uchihashi Estec Co Ltd
Priority to JP12466297A priority Critical patent/JP3866366B2/ja
Publication of JPH10283890A publication Critical patent/JPH10283890A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3866366B2 publication Critical patent/JP3866366B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Fuses (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子・電気機器を異常発熱から保護するために使用される基板型温度ヒュ−ズや基板型抵抗・温度ヒュ−ズ等の回路保護素子の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
機器の過電流に基づく異常発熱を未然に防止するための回路保護素子として、絶縁基板上に対向膜電極を形成し、これらの膜電極間に低融点可溶合金片を連結し、各膜電極にリ−ド線を接合し、低融点可溶合金片にフラックスを塗布し、このフラックス塗布可溶合金片を覆う硬化樹脂層、例えばエポキシ樹脂層を設けたものが公知である。
この回路保護素子においては、機器に密接に取付けて使用され、機器の過電流に基づく発熱で低融点可溶合金片が溶断され、機器への通電が遮断されて機器の異常発熱、ひいては火災の発生を未然に防止している。
【0003】
上記低融点可溶合金片の溶断は、溶融された低融点可溶合金片が既に溶融されたフラックスの活性作用を受けつつリ−ド線端部や膜電極に向い濡れにより流動して球状化し、この球状化で分断され、その後の球状化進行で分断間距離がア−ク消滅距離に達すると、通電が実質的に遮断される過程を経ている。この場合、溶融低融点可溶合金片の分断後、ア−クが消滅するまで、フラックスがア−ク熱で気化されて内圧が発生し、回路保護素子内の高圧化が避けられない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上記の回路保護素子は、電子・電気機器に広範囲に使用されているが、近来においては、携帯電子機器の電源である二次電池の過充電・過放電に基づく異常発熱の防止にも使用され、より一層の薄型化が要請されている。
しかし、上記回路保護素子の薄型化のために、硬化樹脂層の薄肉化を図ると、回路保護素子の上記高圧化に対する強度が低下し、破裂による溶融合金の飛散が惹起される。また、フラックス層を薄くすると、低融点可溶合金片が硬化樹脂層に直接接触し、その樹脂の硬化時に低融点可溶合金片が樹脂で抱き締められて上記溶融低融点可溶合金片の球状化が生じ難くなり、作動性の低下が惹起される。
【0005】
本発明の目的は、基板型温度ヒュ−ズのような回路保護素子において、耐内圧性や作動性をよく保持しつつ充分な薄厚化を可能にすることにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1に係る回路保護素子の製造方法は、絶縁基板上に低融点可溶合金片を設け、該低融点可溶合金片にフラックスを塗布し、該フラックス塗布可溶合金片を覆って滴下塗装硬化樹脂層または浸漬塗装硬化樹脂層を設ける回路保護素子の製造方法において、フラックス塗布可溶合金片と前記硬化樹脂層との接触を遮断するように、フラックス塗布可溶合金片直上に絶縁フィルムを配し、而るのち、滴下塗装硬化樹脂層または浸漬塗装硬化樹脂層を設けることを特徴とする。
請求項2に係る回路保護素子の製造方法は、絶縁基板上に低融点可溶合金片と抵抗とを設け、該低融点可溶合金片にフラックスを塗布し、該フラックス塗布可溶合金片及び抵抗を覆って滴下塗装硬化樹脂層または浸漬塗装硬化樹脂層を設ける回路保護素子の製造方法において、フラックス塗布可溶合金片と前記硬化樹脂層との接触を遮断するように、フラックス塗布可溶合金片直上に絶縁フィルムを配し、而るのち、滴下塗装硬化樹脂層または浸漬塗装硬化樹脂層を設けることを特徴とする。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について説明する。
図1の(イ)は請求項1により製造される回路保護素子の一例を示す図面、図1の(ロ)は図1の(イ)におけるロ−ロ断面図である。
図1の(イ)及び図1の(ロ)において、1は耐熱性、熱良伝導性の絶縁基板、例えば、セラミックス基板である。2,2は絶縁基板1上に設けた対向膜電極であり、例えば、導電ペ−スト(例えば、銀ペ−スト)の印刷・焼き付けにより設けることができる。3は各電極にはんだ付けや溶接により接合したリ−ド線であり、先端部を圧縮により扁平化して膜電極2に接合してある。4は対向電極2,2間に溶接等により連結した低融点可溶合金片である。5は低融点可溶合金片4に塗布したフラックス層であり、ディスペンサ−等で塗布することができる。
6はフラックス塗布可溶合金片の直上に配した絶縁フィルムであり、フラックス塗布可溶合金片を完全に覆ってリ−ド線先端近傍にまで達している。7は絶縁フィルム6を覆って被覆した硬化樹脂層、例えばエポキシ樹脂層であり、滴下塗装や浸漬塗装等で被覆してあり、この硬化樹脂層7の内面に前記の絶縁フィルム6が固着されている。
【0008】
上記において、絶縁基板1の標準寸法は、長さや巾が3mm〜5mm、厚みが0.3mm〜1.0mmとされ、低融点可溶合金片4は、外径は0.2mm〜1.0mmや巾0.2mm〜1.5mm、厚み0.1mm〜0.5mmとされ、リ−ド線3は外径0.3mm〜1.0mmとされ、フラックス層5の厚み(可溶合金と絶縁フィルムとの間の厚み)は0.1mm〜0.4mmとされ、硬化樹脂層7の厚み(絶縁フィルム上での厚み)は0.2mm〜1.0mmとされる。
上記絶縁フィルム6には、例えば、ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、ポリフエニレンスルファィドフィルム等のプラスチックフィルム、ガラスやセラミックス膜等を使用でき、その厚みは50μm〜400μmとされる。
また、絶縁フィルムは、フラックス塗布可溶合金片を覆うように湾曲させたり、絞った形状にすることもできる。
【0009】
上記の基板型温度ヒュ−ズにおいては、硬化樹脂層の硬化時、絶縁フィルムにより硬化樹脂層の内面とフラックス塗布可溶合金片との接触が遮断され、硬化樹脂による低融点可溶合金片の抱き締めが回避されるから、フラックス塗布可溶合金片が絶縁フィルムの実質的に平坦な面で受承され、温度ヒュ−ズ作動時の溶融低融点可溶合金片の球状化分断をスム−ズに生じさせ得る。
また、絶縁フィルムにおいては、フィルム成形時の分子配列や粒子配列のために、滴下成形や浸漬成形による硬化樹脂体に較べて高い引張り強度を呈し、温度ヒュ−ズの耐内圧強度が硬化樹脂層内面に固着された絶縁フィルムのために向上されるから、硬化樹脂層が薄くても、温度ヒュ−ズ作動時のフラックスの気化による内圧発生下での硬化樹脂層の爆裂や溶融合金の飛散を防止できる。
【0010】
図2は請求項2により製造される回路保護素子の一例を示している。
図2において、1は耐熱性、熱良伝導性の絶縁基板である。2,2及び21,21は絶縁基板1上に設けた二組の対向膜電極、3,3及び31,31は各電極に接合したリ−ド線である。4は一方の対向電極2,2間に溶接等により連結した低融点可溶合金片である。8は他方の対向電極21,21間に設けた膜抵抗であり、抵抗ペ−ストの印刷焼き付けにより形成してある。5は低融点可溶合金片4に塗布したフラックス層である。6はフラックス塗布可溶合金片の直上に載置した絶縁フィルムである。7は絶縁フィルム6側に絶縁基板1の全体を覆って被覆した硬化樹脂層、例えばエポキシ樹脂層である。
【0011】
この基板型抵抗・温度ヒュ−ズにおいては、機器故障時に過電流が膜抵抗8に流され、この膜抵抗8の通電発熱で低融点可溶合金片4が溶断されて機器への通電が遮断される。
この実施例においても、絶縁フィルムのために低融点可溶合金片の硬化樹脂層による抱き締めが防止され、低融点可溶合金片のスム−ズな球状化分断が達成され得、また、耐内圧性が向上され、硬化樹脂層が薄くても、温度ヒュ−ズ作動時のフラックスの気化による内圧発生下での硬化樹脂層の爆裂や溶融合金の飛散が効果的に防止され得る。
【0012】
図3は請求項2により製造される回路保護素子の別例を示している。
図3において、1は耐熱性の絶縁基板である。2,21,22は絶縁基板1の片面に設けた3個の膜電極である。3は各膜電極に接続したリ−ド線である。4は膜電極2−22間に連結した低融点可溶合金片である。5は低融点可溶合金片4に塗布したフラックスである。6はフラックス塗布可溶合金片の直上に載置した絶縁フィルムである。8は膜電極21−22間に設けた膜抵抗である。7は絶縁基板1の片面全体に被覆した硬化樹脂層である。
この抵抗・温度ヒュ−ズにおいては、機器の異常時に膜抵抗が通電発熱され、この発生熱で低融点可溶合金片が溶断される。
【0013】
図4はこの回路保護素子の一使用状態を示す回路図であり、当該抵抗・温度ヒュ−ズEを機器Zと電源Sとの間に過電圧保護素子作動回路Fと共に組み込み、トランジスタTrのコレクタを抵抗・温度ヒュ−ズEの電極21に接続し、ツエナダイオ−ドDの高電圧側電極及び抵抗・温度ヒュ−ズEの電極22を被保護機器Zの高電圧側端子に接続し、抵抗・温度ヒュ−ズEの電極2を電源Sの高電圧側端子に接続し、トランジスタTrのエミッタを接地してある。
図4に示す回路において、機器Zにツエナダイオ−ドDの降伏電圧以上の過電圧が作用すると、トランジスタTrにベ−ス電流が流れ、これに伴い大なるコレクタ電流が流れて膜抵抗8が発熱され、この発生熱が電極22を介し低融点可溶合金片4に伝達されて低融点可溶合金片4が既溶融のフラックスの活性作用を受けつつ溶断され、被保護機器Zが電源Sから遮断されると共に膜抵抗8が電源から遮断される。
この回路保護素子においても、フラックス塗布可溶合金片の直上に絶縁フィルムが配されているから、低融点可溶合金片の硬化樹脂層による抱き締めが防止され、低融点可溶合金片のスム−ズな球状化分断が達成され得、また、耐内圧性が向上され、硬化樹脂層が薄くても、温度ヒュ−ズ作動時のフラックスの気化による内圧発生下での硬化樹脂層の爆裂や溶融合金の飛散が効果的に防止され得る。
【0014】
【発明の効果】
本発明に係る回路保護素子の製造方法においては、フラックス塗布可溶合金片と硬化樹脂層との間に絶縁フィルムを配してあるから、フラックス層を薄くしても、硬化樹脂層の硬化時、硬化樹脂による低融点可溶合金片の抱き締めを回避でき、回路保護素子作動時の溶融低融点可溶合金片の球状化分断をスム−ズに生じさせ得る。
また、回路保護素子の耐内圧強度が硬化樹脂層内面に固着された絶縁フィルムのために向上され、硬化樹脂層を薄くしても、耐内圧強度を充分に保持できるから、回路保護素子作動時のフラックスの気化による内圧発生下での硬化樹脂層の爆裂や溶融合金の飛散を防止できる。
更に、硬化樹脂層を薄くしても、絶縁フィルムの平坦性のために硬化樹脂層表面の凹凸化を排除でき、厚み寸法を安定化できる。
従って、本発明によれば、回路保護素子の性能を良好に保持しつつ回路保護素子の薄型化を図り得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 請求項1に係る回路保護素子を示す図面である。
【図2】 請求項2に係る回路保護素子の実施例を示す図面である。
【図3】 請求項2に係る回路素子の別の実施例を示す図面である。
【図4】 図3に示す実施例の使用状態を示す回路図である。
【符号の説明】
1 絶縁基板
2 膜電極
21 膜電極
22 膜電極
23 膜電極
3 リ−ド線
31 リ−ド線
4 低融点可溶合金片
5 フラックス層
6 絶縁フィルム
7 硬化樹脂層
8 抵抗

Claims (2)

  1. 絶縁基板上に低融点可溶合金片を設け、該低融点可溶合金片にフラックスを塗布し、該フラックス塗布可溶合金片を覆って滴下塗装硬化樹脂層または浸漬塗装硬化樹脂層を設ける回路保護素子の製造方法において、フラックス塗布可溶合金片と前記硬化樹脂層との接触を遮断するように、フラックス塗布可溶合金片直上に絶縁フィルムを配し、而るのち、滴下塗装硬化樹脂層または浸漬塗装硬化樹脂層を設けることを特徴とするする回路保護素子の製造方法。
  2. 絶縁基板上に低融点可溶合金片と抵抗とを設け、該低融点可溶合金片にフラックスを塗布し、該フラックス塗布可溶合金片及び抵抗を覆って滴下塗装硬化樹脂層または浸漬塗装硬化樹脂層を設ける回路保護素子の製造方法において、フラックス塗布可溶合金片と前記硬化樹脂層との接触を遮断するように、フラックス塗布可溶合金片直上に絶縁フィルムを配し、而るのち、滴下塗装硬化樹脂層または浸漬塗装硬化樹脂層を設けることを特徴とするする回路保護素子の製造方法。
JP12466297A 1997-04-03 1997-04-03 回路保護素子の製造方法 Expired - Fee Related JP3866366B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12466297A JP3866366B2 (ja) 1997-04-03 1997-04-03 回路保護素子の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12466297A JP3866366B2 (ja) 1997-04-03 1997-04-03 回路保護素子の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10283890A JPH10283890A (ja) 1998-10-23
JP3866366B2 true JP3866366B2 (ja) 2007-01-10

Family

ID=14890958

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12466297A Expired - Fee Related JP3866366B2 (ja) 1997-04-03 1997-04-03 回路保護素子の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3866366B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4207686B2 (ja) 2003-07-01 2009-01-14 パナソニック株式会社 ヒューズ、それを用いたパック電池およびヒューズ製造方法
JP4582724B2 (ja) * 2009-11-25 2010-11-17 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 保護素子
JP4667527B2 (ja) * 2010-04-12 2011-04-13 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 保護素子

Also Published As

Publication number Publication date
JPH10283890A (ja) 1998-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101802953B (zh) 保护元件及充电电池装置
JP5130232B2 (ja) 保護素子
JP5301298B2 (ja) 保護素子
CN102217021B (zh) 保护元件
JP6420053B2 (ja) ヒューズエレメント、及びヒューズ素子
CN100492574C (zh) 温度熔断器和使用它的电池
KR102442404B1 (ko) 퓨즈 소자
JP3618635B2 (ja) 電池用プロテクタ−
JP4341085B2 (ja) 抵抗体付き温度ヒュ−ズ
JP3866366B2 (ja) 回路保護素子の製造方法
JP3782176B2 (ja) 保護素子の使用方法及び保護装置
JP2001345035A (ja) 保護素子
JP2006221919A (ja) 基板型抵抗体付きヒューズ及び電池パック
JP4015240B2 (ja) 基板型温度ヒュ−ズの製造方法及び基板型抵抗体付き・温度ヒュ−ズの製造方法
JP4112297B2 (ja) サーモプロテクター及びサーモプロテクターの製造方法
JP3754770B2 (ja) 薄型ヒュ−ズ
JPH10261353A (ja) 抵抗・温度ヒュ−ズ
JPH076677A (ja) 基板型温度ヒュ−ズ
JP2000173427A (ja) 保護装置組立構体および保護装置
JP3267740B2 (ja) 基板型温度ヒュ−ズ
JP2001135213A (ja) 保護素子
JPH11195361A (ja) 基板型温度ヒュ−ズ及び抵抗体付き基板型温度ヒュ−ズ
JP2501183Y2 (ja) 合金型温度ヒュ−ズ
TW201533765A (zh) 複合保護裝置
JPH06302257A (ja) 基板型温度ヒュ−ズ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040315

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060725

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060804

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060911

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061003

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061005

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101013

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111013

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121013

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121013

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121013

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131013

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees