JP4610449B2 - 磁石装置 - Google Patents

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Description

本発明は、磁石装置に係り、例えば、対向配置された一対の主コイル間に静磁場空間を形成する磁気共鳴撮像装置用の磁石装置に関する。
磁気共鳴撮像装置(Magnetic Resonance Imaging)は、静磁場空間に置かれた被検体(検査体)に高周波パルスを照射したときに生じる核磁気共鳴現象を利用して被検体の物理的、化学的性質を表す画像を得ることができ、特に、医療用に用いられている。磁気共鳴撮像装置(以下、MRI装置という。)は、一般に、被検体が搬入される撮像領域内に静磁場を印加するための磁場発生源としての磁石装置と、撮像領域に向けて高周波パルスを照射するRFコイルと、撮像領域からの応答を受信する受信コイルと、撮像領域内に共鳴現象の位置情報を与えるための勾配磁場を印加する傾斜磁場コイルで構成される。
MRI装置の画質を向上するためには、撮像空間の静磁場均一度を向上させることが要求される。例えば、MRI装置の磁石装置においては、撮像領域内に別の磁場発生源により発生された外部磁場が侵入すると、静磁場均一度が損なわれることから、外部磁場の侵入を抑制する必要がある。
このような外部磁場の侵入を抑制するために、円筒状の磁石に水平方向の磁場を発生する方式の磁石装置において、様々な解決法が検討されている。例えば、特許文献1には、静磁場と同方向の磁場を発生するコイルと、静磁場と逆方向の磁場を発生するコイルとの間をブリッジ線により短絡し、外部磁場を抑制する方法が記載されている。また、特許文献2には、ブリッジ線をコイル巻線の途中から引き出して短絡し、外部磁場抑制性能を最適化する方法が記載されている。しかし、コイル系、特に巻線途中からブリッジ線を引き出す構成は磁石製作上容易ではない。
一方、静磁場発生源である主コイルとは別の遮蔽コイルを内蔵することで外部磁場を抑制する方法が、特許文献3と特許文献4に記載されている。特許文献3には、磁石装置にソレノイド状の遮蔽コイルを内蔵する方法が、特許文献4には、円筒状の遮蔽コイルを主コイルと同心状に配置し、それぞれの永久電流スイッチ制御用電源を共有させた構成が記載されている。これらの方法は磁石装置の軸長を長くしてしまう傾向をもつという問題がある。そこで、特許文献5には、主コイル近傍に少数ターンの遮蔽コイルを配置し、全て同じ向きに磁場を発生するように直列接続する方法が、特許文献6には、径の異なる遮蔽コイルを複数内蔵する方法が記載されている。
欧州特許0299325B1号公報 特許第3447090号公報 米国特許4931735号公報 特開2001―196219号公報 米国特許5329266号公報 特許第3043494号公報
ところで、上記遮蔽コイルを内蔵する方法は、いずれも水平方向の磁場を発生する円筒状の磁石装置には有効であるが、磁場発生源が対向してその間に静磁場の撮像空間を形成する、いわゆるオープン型MRI装置の磁石装置では十分な遮蔽効果が得られないという問題がある。
また、オープン型MRI装置の磁石装置では、撮像空間と遮蔽コイルとの距離が離れざるを得ないため、撮像空間における外部磁場の抑制能力は低くなってしまうという問題がある。また、外部磁場遮蔽コイルの発生する磁場を強くする目的で、単純に外部磁場遮蔽コイルの巻数を増すだけでは、コイルのインダクタンスが増してしまい、外部磁場により誘起される電流が減少するため、外部磁場の抑制能力は上がらない。
本発明の課題は、対向して配置された一対の主コイルにより形成される静磁場の撮像空間に侵入する外部磁場を効果的に抑制することである。
上記課題を解決するために、本発明の磁石装置は、対向して配置され静磁場空間を形成する一対の主コイルと、外部磁場を抑制するために主コイルと同軸に配置された外部磁場遮蔽コイルとを備え、外部磁場遮蔽コイルは、コイルの結合係数が小さい第1のコイル群と、コイルの結合係数が第1のコイル群よりも大きい第2のコイル群を有し、第1のコイル群と第2のコイル群を直列に接続することを特徴とする。
つまり、コイルの結合係数が小さい第1のコイル群はインダクタンスが小さいことから、外部磁場により誘起される電流は大きい。ここで、誘起される電流の向きは、外部磁場を抑制する磁場を発生する方向である。この誘起電流がコイルの結合係数が大きい第2のコイル群に流れると、外部磁場を抑制する強い磁場が発生する。これによって、静磁場の撮像空間に侵入する外部磁場を効果的に抑制することができる。また、第1のコイル群のインダクタンスを小さくできるから、第2のコイル群の外部磁場の抑制効果を発揮しつつ、外部磁場遮蔽コイルのインダクタンスを全体として小さくできる。
この場合において、第2のコイル群は第1のコイル群よりも静磁場空間に近い位置に配置することが好ましい。外部磁場遮蔽コイルが発生する外部磁場を抑制する磁場の強さは距離に反比例するので、コイルの結合係数が大きく、より強い磁場を発生する第2のコイル群を静磁場に近い位置に配置することで、静磁場空間に侵入する外部磁場をさらに効果的に抑制することができる。
ここで、外部磁場遮蔽コイルは超電導コイルであればさらに好ましい。これによれば、一旦発生した外部磁場がそのまま継続して発生し続ける場合に、一旦誘起された電流が減衰せずに流れ続けることで、外部磁場遮蔽コイルが発生する磁場も減衰せず継続して静磁場空間に侵入する外部磁場を効果的に抑制することができる。
また、本発明の磁石装置は、静磁場空間を形成するように対向配置された一対の主コイルと、主コイルを収容する円環状のコイル容器と、コイル容器の容器壁の内側及び外側の少なくとも一方に、主コイルと同軸に配置された外部磁場遮蔽コイルとを備え、外部磁場遮蔽コイルは、複数の1ターンコイルを間隔をあけて巻回してなる第1のコイル群と、複数の1ターンコイルを第1のコイル群の間隔よりも密に巻回してなる第2のコイル群とを有し、第1のコイル群と第2のコイル群を直列に接続するという構成にしても、上記と同様に、静磁場空間に侵入する外部磁場を効果的に抑制することができる。
この場合、第1のコイル群は、コイル容器の容器壁の内側及び外側の少なくとも一方に沿って巻回して構成することができる。コイル容器の温度が十分に低ければ、コイル容器外壁に沿って配置しても、第1のコイル群の超電導状態を維持することが可能である。
本発明によれば、対向して配置された一対の主コイルにより形成される静磁場の撮像空間に侵入する外部磁場を効果的に抑制することができる。
以下、本発明を適用した磁石装置の実施例について図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の第1の実施例である磁気共鳴撮像装置の磁石装置の斜視図であり、図2は図1に示す磁石装置の縦断面図である。
図1に示す磁石装置は、一対の主コイルを含んでなる磁場発生源1、2が連結柱4、5を介して対向して配置される。磁場発生源1、2及び連結柱5は、真空容器内に格納して構成されており、真空容器内には輻射シールド6が格納され、輻射シールド6内にはコイル容器7が格納される。コイル容器7内は、液体ヘリウムなどの冷媒とともに、主コイルと、外部磁場遮蔽コイルが格納される。
主コイルは、主磁場発生コイル9と、磁束が外部へ漏洩するのを防ぐために、主磁場と逆向きの磁場を発生するシールドコイル10とで形成されており、一対の主コイルを対向して配置することで静磁場空間3を形成する。
外部磁場遮蔽コイルの実施例について、図3に基づいて説明する。図3は、上側磁場発生源1の縦断面図の拡大図である。
外部磁場遮蔽コイルの第1のコイル群11は、複数の1ターンコイルを間隔をあけてコイル容器7の内壁に沿って巻回し、第2のコイル群12は、2個の1ターンコイルを第1のコイル群の間隔よりも密に、静磁場空間に最も近いコイルの巻枠8の静磁場空間に近い内側角部に、第1のコイル群11と同一方向に巻回しており、第1のコイル群11と第2のコイル群12は直列に接続する。第1のコイル群11の巻数は、コイル容器の大きさや、その他設計条件を考慮して決定される。
ここで、本発明の課題を解決するための基本的な概念は、図4に示すように第1のコイル群11によって外部磁場による誘起電流を大きくし、その電流を静磁場空間により近い位置に配置するコイルの結合係数が大きい第2のコイル群12に流すことにより、外部磁場を抑制する強い磁場を発生させることである。以下、その概念について詳細に説明する。
空間中に1ターンのコイルを配置したときの自己インダクタンスをL、Lに鎖交する外部磁場の磁束をφとおく。ここで、説明を簡単にするため、以下の説明では全ての1ターンコイルのインダクタンスは同じであることを仮定する。
外部磁場φによってインダクタンスLのコイルに誘起される電流Iは、以下のように表される。
(数1式)
I=φ/L
インダクタンスLの1ターンコイルがコイルの結合係数が0でNa個存在し、それぞれが直列接続されて疎結合コイル系a(第1のコイル群11)が形成されたとすると、疎結合コイル系aの自己インダクタンスLaと鎖交磁束Φaは、以下のように表される。
(数2式)
La=Na×L
(数3式)
Φa=Na×φ
インダクタンスLの1ターンコイルがコイルの結合係数が1でNb個存在し、それぞれが直列接続されて密結合コイル系b(第2のコイル群12)が形成されたとすると、密結合コイル系bの自己インダクタンスLbと鎖交磁束Φbは、以下のように表される。
(数4式)
Lb=Nb×Nb×L
(数5式)
Φb=Nb×φ
疎結合コイル系aと、密結合コイル系bとが互いに疎に直列に接続された全体コイル系cの自己インダクタンスLcと鎖交磁束Φcは、以下のように表される。
(数6式)
Lc=La+Lb=(Na+Nb×Nb)×L
(数7式)
Φc=Φa+Φb=(Na+Nb)×φ
以上から、外部磁場によって全体コイル系cに誘起される電流Icは、以下のように求められる。
(数8式)
Ic=Φc/Lc=(Na+Nb)×φ/(Na+Nb×Nb)×L
ここで、本発明の特徴の一つは、全体コイル系cに誘起される電流Icをより大きくすることであり、そのためには全体コイル系cの自己インダクタンスLcをなるべく小さく、かつ、鎖交磁束Φcをなるべく大きくすることが必要である。数6式によれば、インダクタンスLcを小さくするためには、Na及びNbを小さく、とりわけNbをより小さくすることが必要であり、数7式によれば、鎖交磁束を大きくするためには、Na及びNbを大きくする必要があることがわかる。
本発明の他の特徴は、全体コイル系cに誘起された電流Icを、静磁場空間により近い位置で密結合コイル系bに流すことである。言い換えれば、密結合コイル系bを静磁場空間により近い位置に配置し、疎結合コイル系aはその他の領域に配置するということである。これは、外部磁場によりコイルに電流が誘起され、この誘起電流によりコイルが発生する磁場強度は、コイル巻数に比例し、距離に反比例するという原理からである。
密結合コイル系bに対する疎結合コイル系aの、静磁場空間に発生する磁場強度の比をα(<1.0)とすると、全体コイル系cが静磁場空間に発生する磁場強度Beは、コイル巻数に比例するから、以下のように表される。
(数9式)
Be∝(α×Na+Nb)×(Na+Nb)×φ/(Na+Nb×Nb)×L
密結合コイル系bの巻数Nbと、疎結合コイル系aの巻数Naとの比をxとおくと、xは以下のように表される。
(数10式)
x=Nb/Na
数9式及び数10式から、以下が得られる。
(数11式)
Be∝(x+α)×(x+1)×φ/(x×x+1/Na)×L
数11式は、最大値をもつ関数となっており、最大値を与えるxを求めれば、疎結合コイル系aの巻数Naと、密結合コイル系bの巻数Nbとの最適な比が決定する。
図7にNa=100とし、α=0.3〜0.7に変化させた場合に数11式を描いたグラフを、図8にNa=10とし、同様にα=0.3〜0.7に変化させた場合のグラフを示す。このグラフのX軸は、密結合コイル系bの巻数Nbであり、Y軸は全体コイル系cが静磁場空間に発生する磁場強度Beであり、本発明の性能指標である。
この2つのグラフから、疎結合コイル系aの巻数Naによらず、αが0.5以上のときは、密結合コイル系bの巻数Nbとして1又は2ターンの巻数を選ぶことが適切であり、αが0.5未満のときは、2又は3ターンの巻数が適切であることがわかる。また、多くとも10ターン以内でなければ、Nb=0の場合と比較して同等以上の性能は得られないことも意味し
ている。
上記の説明は簡単のため、疎結合コイル系aのコイルの結合係数を0、密結合コイル系bのコイルの結合係数を1としたが、現実のコイルの結合係数は0から1の間の値をとる。疎結合と密結合の境界は定義により異なり、またどう定義しても構わないが、1つの例として中間の値0.5を境界としても良いし、境界を定めず、疎結合コイル系aのコイルの結合係数が密結合コイル系bのそれより小さいというような、相対的な関係であっても、上記説明の合理性は失わない。
上記説明をふまえた上で、本実施例の外部磁場遮蔽コイルは実現される。
本実施例によれば、外部磁場により誘起される電流は大きくなり、この誘起電流を第1のコイル群11よりも静磁場空間の近くに配置したコイルの結合係数の大きい第2のコイル群12に流すと、外部磁場を抑制する強い磁場を発生することができるので、対向して配置された一対の主コイルにより形成される静磁場の撮像空間に侵入する外部磁場を効果的に抑制することができる。
また、第1のコイル群11と第2のコイル群12は、共にコイル容器7の容器壁の内側に巻回しているので、外部磁場遮蔽コイルは、液体ヘリウムなどの冷媒により冷却され超電導コイルとなる。したがって、一旦発生した外部磁場がそのまま継続して発生し続ける場合に、一旦誘起された電流が減衰せずに流れ続けることで、外部磁場遮蔽コイルが発生する磁場も減衰せず、継続して静磁場の撮像空間に侵入する外部磁場を効果的に抑制することができる。
本発明を適用した磁石装置の第2の実施例について、図5に基づいて説明する。図5は、上側磁場発生源の縦断面の拡大図である。斜視図については実施例1と同様であるので省略する。
本実施例では、外部磁場遮蔽コイルの第1のコイル群11は、複数の1ターンコイルを互いに間隔をあけてコイル容器7の容器内部の空間全域にわたって配置し、第2のコイル群12は、3個の1ターンコイルを第1のコイル群の間隔よりも密に、静磁場空間に最も近いコイルの巻枠8の静磁場空間に近い内側角部に、第1のコイル群11と同一方向に巻回しており、第1のコイル群11と第2のコイル群12は直列に接続する。
以上のように、第1のコイル群11は、コイル容器7の内壁に沿って巻回するだけでなく、容器内全域にわたって巻回してもよいし、第2のコイル群として3ターンコイルを採用しても、静磁場の撮像空間に侵入する外部磁場を効果的に抑制することができる。
本発明を適用した磁石装置の第3の実施例について、図6に基づいて説明する。図6は、上側磁場発生源の縦断面の拡大図である。斜視図については実施例1と同様であるので省略する。
本実施例では、外部磁場遮蔽コイルの第1のコイル群11は、複数の1ターンコイルを間隔をあけてコイル容器7の外壁に沿って巻回し、第2のコイル群12は、3個の1ターンコイルを第1のコイル群の間隔よりも密に、コイル容器7の静磁場空間に最も近い外側角部に、第1のコイル群11と同一方向に巻回しており、第1のコイル群11と第2のコイル群12は直列に接続する。コイル容器7は容器壁の内部に液体ヘリウムなどの冷媒をもち、その外壁は十分に低温であることが期待されるから、コイル容器7の容器壁の内側のみならず、外壁に沿って外部磁場遮蔽コイルを配置しても、外部磁場遮蔽コイルの超伝導状態を維持することが可能である。
このような実施例とすると、コイルの結合係数の大きい第2のコイル群12は、より静磁場空間の近くに配置することになるので、静磁場の撮像空間に侵入する外部磁場をより効果的に抑制することが期待できる。
本発明の一実施例である磁石装置の斜視図である。 図1に示す磁石装置の縦断面図である。 本発明の第1の実施例における磁石装置の、上側磁場発生源の縦断面の拡大図である。 外部磁場遮蔽コイルの概略図である。 本発明の第2の実施例における磁石装置の、上側磁場発生源の縦断面の拡大図である。 本発明の第3の実施例における磁石装置の、上側磁場発生源の縦断面の拡大図である。 数式11をプロットしたグラフである。 数式11をプロットしたグラフである。
符号の説明
1、2 磁場発生源
3 静磁場空間
4、5 連結柱
6 輻射シールド
7 コイル容器
8 コイルの巻枠
9 主磁場発生コイル
10 シールドコイル
11 第1のコイル群
12 第2のコイル群

Claims (8)

  1. 対向して配置され静磁場空間を形成する一対の主コイルと、前記主コイルと同軸に配置された外部磁場遮蔽コイルとを備え、該外部磁場遮蔽コイルは、コイルの結合係数が小さい第1のコイル群と、コイルの結合係数が第1のコイル群よりも大きい第2のコイル群を有し、前記第2のコイル群は前記第1のコイル群よりも前記静磁場空間に近い位置に配置され、前記第1のコイル群と前記第2のコイル群が直列に接続されている磁石装置。
  2. 前記第2のコイル群は、前記主コイルのうち、前記静磁場空間に最も近いコイルの巻枠の前記静磁場空間に近い内側角部に巻回されていることを特徴とする請求項に記載の磁石装置。
  3. 前記第2のコイル群は、少なくとも2ターン以上10ターン以下で巻回されていることを特徴とする請求項1に記載の磁石装置。
  4. 前記第1のコイル群は、コイルの結合係数が0.5未満であり、前記第2のコイル群は、コイルの結合係数が0.5以上であることを特徴とする請求項1に記載の磁石装置。
  5. 静磁場空間を形成するように対向配置された一対の主コイルと、前記主コイルを収容する円環状のコイル容器と、該コイル容器の容器壁の内側及び外側の少なくとも一方に、前記主コイルと同軸に配置された外部磁場遮蔽コイルとを備え、該外部磁場遮蔽コイルは、複数の1ターンコイルを間隔をあけて巻回してなる第1のコイル群と、複数の1ターンコイルを第1のコイル群の間隔よりも密に巻回してなる第2のコイル群とを有し、前記第2のコイル群は前記第1のコイル群よりも前記静磁場空間に近い位置に配置され、前記第1のコイル群と前記第2のコイル群が直列に接続されている磁石装置。
  6. 前記第1のコイル群は、前記コイル容器の容器壁の内側及び外側の少なくとも一方に沿って巻回されていることを特徴とする請求項に記載の磁石装置。
  7. 前記第2のコイル群は、前記コイル容器に収容された前記主コイルのうち、前記静磁場空間に最も近いコイルの巻枠の前記静磁場空間に近い内側角部に巻回されていることを特徴とする請求項に記載の磁石装置。
  8. 前記第2のコイル群は、前記コイル容器の前記静磁場空間に最も近い外側角部に巻回されていることを特徴とする請求項に記載の磁石装置。
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