JP4605921B2 - 放熱板付配線基板およびこれを用いた電子装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、金属放熱板の上面に配線基板を接着材層を間に介して接着して成る放熱板付配線基板、ならびにこの放熱板付配線基板と半導体素子等の電子部品とを具備して成る電子装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、現在の電子装置は、移動体通信機器に代表されるように小型・薄型・軽量・高性能・高機能、高品質・高信頼性が要求されており、このような電子装置に用いられる配線基板も高密度配線が要求されるようになってきている。また同時に、配線基板に高密度に実装される半導体素子等の電子部品が発生する熱を効率よく放散するために、熱伝導性が良く、かつ剛性が高く反りの少ない配線基板が要求されるようになってきている。
【０００３】
このような配線基板を構成する絶縁基板として、酸化アルミニウム質焼結体等のセラミックスを素材とするセラミック絶縁基板が使用されてきたが、近年、より高密度配線が可能な有機絶縁基板も使用されるようになってきている。この有機絶縁基板は、熱硬化性樹脂と無機フィラーとから構成されており、セラミック絶縁基板と比較して軽量であり、また、低誘電率であるために高周波特性に優れている。
【０００４】
しかしながら、このような有機絶縁基板は、セラッミク絶縁基板と比較してその熱伝導率が１／100程度と低く半導体素子等の電子部品が発生する熱を効率よく放散できないこと、および剛性が低いために反りや変形等が発生し電気的接続不良が発生し易いという問題点を有していた。そのために、有機絶縁基板に金属放熱板を接着材により接着して成る放熱板付配線基板が使用されるようになってきている。このような放熱板付配線基板は、上面に電子部品の搭載部を有する金属放熱板の上面に、搭載部を取り囲む貫通孔を有する配線基板を、接着材層を間に介して接着することにより製作される。
【０００５】
配線基板と金属放熱板とを接着する接着材としては、ガラス織布あるいはアラミド不織布などの繊維基材に熱硬化性樹脂を含浸させたものが用いられており、また、金属放熱板と配線基板との接着は、上面に電子部品の搭載部を有する金属放熱板の上面に搭載部を取り囲む貫通孔を有する配線基板を、接着材層を間に挟んで重ねるとともにこれらを加圧・加熱し、接着材の熱硬化性樹脂を硬化させることによって行なわれる。
【０００６】
また、金属放熱板は、熱伝導率の高い銅やアルミニウム等の金属から成り、放熱性と加工性のため平板が用いられており、その表面には、接着材の接着力を向上させるために、微小な凹凸を形成する黒化処理が全面に渉って施されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、表面に黒化処理が施された金属放熱板は、その表面の硬度が低いために、外部部材との擦れ等により下地金属が露出しやすく、その露出部位に空気中の水分が付着して、酸化腐蝕してしまい易いという問題点を有していた。
【０００８】
本発明はかかる従来技術の問題点に鑑み完成されたものであり、その目的は金属放熱板と接着材層との接着強度に優れ、かつ金属放熱板に酸化腐食が発生しにくい放熱板付配線基板およびこれを用いた電子装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の放熱板付配線基板は、上面に電子部品の搭載部を有する金属放熱板の上面に、搭載部を取り囲む貫通孔を有する配線基板を、接着材層を間に介して接着して成る放熱板付配線基板であって、前記金属放熱板は、上面および側面に黒化処理が施されているとともに、該黒化処理が施されていない下面に金属めっき層が被着されており、前記接着剤層の一部は、前記金属放熱板の側面に付着していることを特徴とするものである。
【００１１】
さらに、本発明の電子装置は、上記に記載の放熱板付配線基板の搭載部に電子部品を搭載して成ることを特徴とするものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の放熱板付配線基板およびこれを用いた電子装置について詳細に説明する。
【００１６】
図１は本発明の放熱板付配線基板およびこれを用いた電子装置の実施の形態の一例を示す断面図である。この図において、１は、主に配線基板２、金属放熱板３、接着材層４から成る放熱板付配線基板であり、また、この放熱板付配線基板１に電子部品14を搭載することにより本発明の電子装置と成る。
【００１７】
本発明の放熱板付配線基板１を構成する配線基板２は、絶縁板９ａ・９ｂ、配線導体層10、絶縁層11、スルーホール導体層12、ソルダーレジスト層13等から構成されている。
【００１８】
配線基板２は、搭載する半導体素子等の電子部品14とマザーボード等の外部電気回路基板（図示せず）とを電気的および機械的に接続し、電子部品14の電気信号を外部電気回路に伝達する機能を有する。このような配線基板２としては、絶縁基体上に絶縁層と配線導体層とを複数層積層して成るビルドアップ配線基板や絶縁板に銅箔を貼り合わせて成るプリント配線基板が用いられる。
【００１９】
なお、本発明の配線基板２は、中央部に電子部品14を収容する空所を形成するための貫通孔７を有するともに配線導体層10が被着された絶縁板９ａ・９ｂを絶縁層11を介して積層してなり、各配線導体層10を電気的に接続するためにスルーホール導体層12が形成されている。
【００２０】
配線基板２を構成する絶縁板９ａ・９ｂや絶縁層11は、ガラス繊維基材−エポキシ樹脂やガラス繊維基材−ビスマレイミドトリアジン樹脂・ガラス繊維基材−ポリフェニレンエーテル樹脂・アラミド繊維基材−エポキシ樹脂等から成る多角枠形状であり、配線導体層10とスルーホール導体層12の支持体として機能するとともに、貫通孔７内に電子部品を収容するための空所を形成する。
【００２１】
また、配線導体層10は、銅箔等の金属から成り、配線基板２の貫通孔７の開口近傍から外周部にかけて複数の帯状パターンに被着形成されており、配線基板２の貫通孔７の開口近傍に露出した部位にボンディングパッドを、また、配線基板２上面に露出した部位にボールグリッドアレイパッドを形成している。この配線導体層10は、搭載した電子部品14を外部電気回路に電気的に接続するための導電路の一部として機能し、ボンディングパッドには電子部品14の各電極がボンディングワイヤ15を介して電気的に接続され、ボールグリッドアレイパッドには外部接続端子としての半田ボール16が接合される。
【００２２】
また、配線導体層10のボンディングパッドやボールグリッドアレイパッドの表面にニッケル・金等の良導電性で耐蝕性および半田等の導電性接続部材との濡れ性が良好な金属をめっき法により１〜20μｍの厚みに被着させておくと、配線導体層10の酸化腐蝕を有効に防止することができるとともに、配線導体層10と外部電気回路およびボンディングワイヤ15との電気的接続を良好と成すことができる。従って、配線導体層10の露出した表面にニッケル・金等をめっき法により１〜20μｍの厚みに被着させておくことが好ましい。
【００２３】
なお、配線基板２には電子部品や外部電気回路基板に接続する配線導体層10のボンディングパッドやボールグリッドアレイパッドの他に、実装時の熱やフラックスから配線基板２を守るためにソルダーレジスト層13が表層に被着形成されている。
【００２４】
また、配線基板２の下面には、接着材層４を間に介して良熱伝導性材料から成る金属放熱板３が接着されている。金属放熱板３は、電子部品14を支持するための支持体として機能するとともに電子部品14から発生する熱を効率良く放散する機能および配線基板２の反りや変形を防止する機能を有する。さらに、金属放熱板３の上面には電子部品14が搭載されている。
【００２５】
この金属放熱板３は、外形が、四角形・六角形・八角形等の多角形あるいは角部にＲを有する四角形状や六角形状・八角形状等の多角形状であり、特に、多数個取りが容易で加工のし易い四角形や四角形状であることが好ましい。また、その厚みは0.5〜2.0ｍｍの範囲が好ましく、0.5ｍｍより薄いと配線基板２の反りや変形の防止効果が小さく、2.0ｍｍを超えると重いものとなってしまい放熱板付配線基板１を軽量化できなくなる傾向がある。従って、金属放熱板３は、その厚みを0.5〜2.0ｍｍの範囲とすることが好ましい。さらに、金属放熱板３は、その使用形態によりスティフナやヒートスラグ・ヒートシンク等として用いられ、材質としては熱伝導性に優れた銅やアルミニウムが好ましい。
【００２６】
さらに、本発明の金属放熱板３は、上面に絶縁処理が施されているとともに下面に金属めっき層が被着されている。また、このことが重要である。
【００２７】
金属放熱板３は、その上面に黒化処理等の絶縁処理を施すことにより平均粗さＲａが0.1〜３μｍ程度の微小な凹凸を有する絶縁処理層５が形成され、この微小な凹凸により配線基板２と接着材層４を間に介して強固に接合される。なお、金属放熱板３の側面にも黒化処理等の絶縁処理を施しておくと、金属放熱板３と配線基板２とを接着材層４を間に介して接合する際に、接着材の一部が金属放熱板３の側面に付着し、その結果、金属放熱板３と配線基板２との接着を極めて強固なものとすることができる。従って、金属放熱板３の側面にも黒化処理等の絶縁処理を施しておくことが好ましい。
【００２８】
なお、黒化処理とは、銅を水酸化ナトリウムと亜塩素酸ナトリウムとの混合溶液に浸漬することにより、銅の表面層を微小な凹凸を有する酸化銅に変え、さらにホルマリンで還元することにより安定化する方法であり、その処理後の酸化銅の色から命名されている。
【００２９】
また、金属放熱板３の下面には、ニッケルあるいはニッケル−金等の耐蝕性の良好な金属から成る金属めっき層６が無電解めっき法や電解めっき法により１〜20μｍの厚みに被着されており、この金属めっき層６が金属放熱板３の表面を空気中の水分から保護し、金属放熱板３の腐食を有効に防止することができる。従って、搭載する電子部品１４を長期間にわたり正常に作動させることができる。なお、このように耐食性に優れるめっき金属層６を金属放熱板３の側面に施してもよい。そうすることにより金属放熱板３の腐食を有効に防止して耐湿性に優れたものとすることができる。
【００３０】
なお、ニッケルめっきの無電解めっき液は、硫酸ニッケル40ｇ／ｌ（リッター）、クエン酸ナトリウム24ｇ／ｌ、酢酸ナトリウム14ｇ／ｌ、次亜リン酸ナトリウム20ｇ／ｌ、塩化アンモニウム５ｇ／ｌから成り、温度が50〜90℃で処理している。また、金めっきの無電解めっき液は、シアン化カリウム5.0ｇ／ｌ、クエン酸カリウム50.0ｇ／ｌ、エチレンジアミンテトラアセティクアシッド5.0ｇ／ｌから成り、温度が50〜90℃で処理している。
【００３１】
金属放熱板３は、金属板の片面を絶縁フィルムで被覆する工程と、金属めっき層６を被着させる工程と、絶縁フィルムを剥離した後に放熱板の形状に切断または打ち抜き加工する工程と、酸化還元処理を施す工程とで製作される。
【００３２】
また、配線基板２と金属放熱板３とを接着する接着材層４は、配線基板２と金属放熱板３とを強固に接着固定する機能を有し、ガラス繊維基材にエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を含浸させて成り、その形状は配線基板２の底部の形状と略同一となっている。
【００３３】
接着材層４はその厚みが40〜150μｍ程度であり、接着材層４を構成するガラス繊維基材は、直径５〜７μｍのガラス繊維を数本〜数十本まとめたヤーンを0.5〜２ｍｍ間隔で編んだ織布および／または紙状に漉いた不織布であり、接着材層４の支持体および厚み制御の機能を有し、熱硬化性樹脂との密着性を向上させるためにシランカップリング剤等の処理が施されている。
【００３４】
また、接着材層４を構成する熱硬化性樹脂は、金属放熱板３および配線基板２との接着力が強い水酸基やカルボキシル基をもつエポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂等が用いられる。なお、熱硬化性樹脂を含有する接着材層４は、その取り扱いの容易さおよび配線基板２と金属放熱板３との密着性の観点からは、ガラス繊維基材に含浸させた状態で使用される。
【００３５】
さらに、この接着材層４を間に介した配線基板２と金属放熱板３との接着は、配線基板２と金属放熱板３とを間に未硬化の接着材層４を挟んで積層するとともにこれらを、0.3〜0.5ＭＰａの荷重を加えた状態で150〜200℃の温度のオーブン中で数分〜数時間加熱することにより行われ、それにより本発明の放熱板付配線基板１が製造される。
【００３６】
かくして、本発明の放熱板付配線基板１によれば、金属放熱板３の上面に絶縁処理が施されるとともに下面に金属めっき層が被着されて成ることから、配線基板２と金属放熱板３との間に接着材層４を挟んで加圧・加熱硬化してこれらを接着する際、金属放熱板３表面に微小な凹凸があることから接着材がその凹凸部に入り込み硬化固定されるので、配線基板２と金属放熱板３とを強固に接合することができる。
【００３７】
また、本発明の電子装置は、上記の放熱板付配線基板１の金属放熱板３の搭載部８に電子部品14を搭載するとともにこの電子部品14の各電極を配線導体層１０にボンディングワイヤ15を介して電気的に接続することによって製作される。
【００３８】
本発明の電子装置によれば、上記の放熱板付配線基板１の搭載部８に電子部品14を搭載して成ることから、電子部品14を正常かつ強固に搭載できるとともに電子部品14の発生する熱を放熱板３を介して外部に良好に放散することができ、それにより長期間にわたり正常に作動することが可能な電子装置とすることができる。
【００３９】
なお、本発明の放熱板付配線基板１およびこれを用いた電子装置は上述の実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能であり、例えば本例では、搭載される電子部品14として半導体素子の例を示したが、抵抗器・キャパシタ・圧電素子等の電子部品を搭載しても良い。
【００４０】
【発明の効果】
本発明の放熱板付配線基板によれば、金属放熱板は、その上面に絶縁処理を施したことからその表面に微小な凹凸が形成され、その結果、金属放熱板と配線基板とを接着材層を間に介して強固に接合することができる。また、金属放熱板の下面に金属めっき層を被着させたことから、この金属めっき層が金属放熱板の表面を空気中の水分から保護し、金属放熱板の酸化腐食を有効に防止することができる。
【００４１】
また、本発明の放熱板付配線基板によれば、金属放熱板の側面に黒化処理を施したことから、金属放熱板と配線基板とを接着材層を間に介して接合する際に、接着材の一部が金属放熱板の側面に回り込んで付着し、その結果、金属放熱板と配線基板との接合を極めて強固なものとすることができる。
【００４２】
本発明の電子装置によれば、上記の放熱板付配線基板の搭載部に電子部品を搭載して成ることから、金属放熱板と配線基板とが強固に接合されているとともに金属放熱板に腐食が発生しにくい、電子部品を長期間にわたり正常に作動することが可能な電子装置とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は本発明の放熱板付配線基板およびこれを用いた電子装置の実施の形態の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
１・・・・・・放熱板付配線基板
２・・・・・・配線基板
３・・・・・・金属放熱板
４・・・・・・接着材層
５・・・・・・絶縁処理層
６・・・・・・金属めっき層
７・・・・・・貫通孔
８・・・・・・搭載部
14・・・・・・電子部品
【発明の属する技術分野】
本発明は、金属放熱板の上面に配線基板を接着材層を間に介して接着して成る放熱板付配線基板、ならびにこの放熱板付配線基板と半導体素子等の電子部品とを具備して成る電子装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、現在の電子装置は、移動体通信機器に代表されるように小型・薄型・軽量・高性能・高機能、高品質・高信頼性が要求されており、このような電子装置に用いられる配線基板も高密度配線が要求されるようになってきている。また同時に、配線基板に高密度に実装される半導体素子等の電子部品が発生する熱を効率よく放散するために、熱伝導性が良く、かつ剛性が高く反りの少ない配線基板が要求されるようになってきている。
【０００３】
このような配線基板を構成する絶縁基板として、酸化アルミニウム質焼結体等のセラミックスを素材とするセラミック絶縁基板が使用されてきたが、近年、より高密度配線が可能な有機絶縁基板も使用されるようになってきている。この有機絶縁基板は、熱硬化性樹脂と無機フィラーとから構成されており、セラミック絶縁基板と比較して軽量であり、また、低誘電率であるために高周波特性に優れている。
【０００４】
しかしながら、このような有機絶縁基板は、セラッミク絶縁基板と比較してその熱伝導率が１／100程度と低く半導体素子等の電子部品が発生する熱を効率よく放散できないこと、および剛性が低いために反りや変形等が発生し電気的接続不良が発生し易いという問題点を有していた。そのために、有機絶縁基板に金属放熱板を接着材により接着して成る放熱板付配線基板が使用されるようになってきている。このような放熱板付配線基板は、上面に電子部品の搭載部を有する金属放熱板の上面に、搭載部を取り囲む貫通孔を有する配線基板を、接着材層を間に介して接着することにより製作される。
【０００５】
配線基板と金属放熱板とを接着する接着材としては、ガラス織布あるいはアラミド不織布などの繊維基材に熱硬化性樹脂を含浸させたものが用いられており、また、金属放熱板と配線基板との接着は、上面に電子部品の搭載部を有する金属放熱板の上面に搭載部を取り囲む貫通孔を有する配線基板を、接着材層を間に挟んで重ねるとともにこれらを加圧・加熱し、接着材の熱硬化性樹脂を硬化させることによって行なわれる。
【０００６】
また、金属放熱板は、熱伝導率の高い銅やアルミニウム等の金属から成り、放熱性と加工性のため平板が用いられており、その表面には、接着材の接着力を向上させるために、微小な凹凸を形成する黒化処理が全面に渉って施されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、表面に黒化処理が施された金属放熱板は、その表面の硬度が低いために、外部部材との擦れ等により下地金属が露出しやすく、その露出部位に空気中の水分が付着して、酸化腐蝕してしまい易いという問題点を有していた。
【０００８】
本発明はかかる従来技術の問題点に鑑み完成されたものであり、その目的は金属放熱板と接着材層との接着強度に優れ、かつ金属放熱板に酸化腐食が発生しにくい放熱板付配線基板およびこれを用いた電子装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の放熱板付配線基板は、上面に電子部品の搭載部を有する金属放熱板の上面に、搭載部を取り囲む貫通孔を有する配線基板を、接着材層を間に介して接着して成る放熱板付配線基板であって、前記金属放熱板は、上面および側面に黒化処理が施されているとともに、該黒化処理が施されていない下面に金属めっき層が被着されており、前記接着剤層の一部は、前記金属放熱板の側面に付着していることを特徴とするものである。
【００１１】
さらに、本発明の電子装置は、上記に記載の放熱板付配線基板の搭載部に電子部品を搭載して成ることを特徴とするものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の放熱板付配線基板およびこれを用いた電子装置について詳細に説明する。
【００１６】
図１は本発明の放熱板付配線基板およびこれを用いた電子装置の実施の形態の一例を示す断面図である。この図において、１は、主に配線基板２、金属放熱板３、接着材層４から成る放熱板付配線基板であり、また、この放熱板付配線基板１に電子部品14を搭載することにより本発明の電子装置と成る。
【００１７】
本発明の放熱板付配線基板１を構成する配線基板２は、絶縁板９ａ・９ｂ、配線導体層10、絶縁層11、スルーホール導体層12、ソルダーレジスト層13等から構成されている。
【００１８】
配線基板２は、搭載する半導体素子等の電子部品14とマザーボード等の外部電気回路基板（図示せず）とを電気的および機械的に接続し、電子部品14の電気信号を外部電気回路に伝達する機能を有する。このような配線基板２としては、絶縁基体上に絶縁層と配線導体層とを複数層積層して成るビルドアップ配線基板や絶縁板に銅箔を貼り合わせて成るプリント配線基板が用いられる。
【００１９】
なお、本発明の配線基板２は、中央部に電子部品14を収容する空所を形成するための貫通孔７を有するともに配線導体層10が被着された絶縁板９ａ・９ｂを絶縁層11を介して積層してなり、各配線導体層10を電気的に接続するためにスルーホール導体層12が形成されている。
【００２０】
配線基板２を構成する絶縁板９ａ・９ｂや絶縁層11は、ガラス繊維基材−エポキシ樹脂やガラス繊維基材−ビスマレイミドトリアジン樹脂・ガラス繊維基材−ポリフェニレンエーテル樹脂・アラミド繊維基材−エポキシ樹脂等から成る多角枠形状であり、配線導体層10とスルーホール導体層12の支持体として機能するとともに、貫通孔７内に電子部品を収容するための空所を形成する。
【００２１】
また、配線導体層10は、銅箔等の金属から成り、配線基板２の貫通孔７の開口近傍から外周部にかけて複数の帯状パターンに被着形成されており、配線基板２の貫通孔７の開口近傍に露出した部位にボンディングパッドを、また、配線基板２上面に露出した部位にボールグリッドアレイパッドを形成している。この配線導体層10は、搭載した電子部品14を外部電気回路に電気的に接続するための導電路の一部として機能し、ボンディングパッドには電子部品14の各電極がボンディングワイヤ15を介して電気的に接続され、ボールグリッドアレイパッドには外部接続端子としての半田ボール16が接合される。
【００２２】
また、配線導体層10のボンディングパッドやボールグリッドアレイパッドの表面にニッケル・金等の良導電性で耐蝕性および半田等の導電性接続部材との濡れ性が良好な金属をめっき法により１〜20μｍの厚みに被着させておくと、配線導体層10の酸化腐蝕を有効に防止することができるとともに、配線導体層10と外部電気回路およびボンディングワイヤ15との電気的接続を良好と成すことができる。従って、配線導体層10の露出した表面にニッケル・金等をめっき法により１〜20μｍの厚みに被着させておくことが好ましい。
【００２３】
なお、配線基板２には電子部品や外部電気回路基板に接続する配線導体層10のボンディングパッドやボールグリッドアレイパッドの他に、実装時の熱やフラックスから配線基板２を守るためにソルダーレジスト層13が表層に被着形成されている。
【００２４】
また、配線基板２の下面には、接着材層４を間に介して良熱伝導性材料から成る金属放熱板３が接着されている。金属放熱板３は、電子部品14を支持するための支持体として機能するとともに電子部品14から発生する熱を効率良く放散する機能および配線基板２の反りや変形を防止する機能を有する。さらに、金属放熱板３の上面には電子部品14が搭載されている。
【００２５】
この金属放熱板３は、外形が、四角形・六角形・八角形等の多角形あるいは角部にＲを有する四角形状や六角形状・八角形状等の多角形状であり、特に、多数個取りが容易で加工のし易い四角形や四角形状であることが好ましい。また、その厚みは0.5〜2.0ｍｍの範囲が好ましく、0.5ｍｍより薄いと配線基板２の反りや変形の防止効果が小さく、2.0ｍｍを超えると重いものとなってしまい放熱板付配線基板１を軽量化できなくなる傾向がある。従って、金属放熱板３は、その厚みを0.5〜2.0ｍｍの範囲とすることが好ましい。さらに、金属放熱板３は、その使用形態によりスティフナやヒートスラグ・ヒートシンク等として用いられ、材質としては熱伝導性に優れた銅やアルミニウムが好ましい。
【００２６】
さらに、本発明の金属放熱板３は、上面に絶縁処理が施されているとともに下面に金属めっき層が被着されている。また、このことが重要である。
【００２７】
金属放熱板３は、その上面に黒化処理等の絶縁処理を施すことにより平均粗さＲａが0.1〜３μｍ程度の微小な凹凸を有する絶縁処理層５が形成され、この微小な凹凸により配線基板２と接着材層４を間に介して強固に接合される。なお、金属放熱板３の側面にも黒化処理等の絶縁処理を施しておくと、金属放熱板３と配線基板２とを接着材層４を間に介して接合する際に、接着材の一部が金属放熱板３の側面に付着し、その結果、金属放熱板３と配線基板２との接着を極めて強固なものとすることができる。従って、金属放熱板３の側面にも黒化処理等の絶縁処理を施しておくことが好ましい。
【００２８】
なお、黒化処理とは、銅を水酸化ナトリウムと亜塩素酸ナトリウムとの混合溶液に浸漬することにより、銅の表面層を微小な凹凸を有する酸化銅に変え、さらにホルマリンで還元することにより安定化する方法であり、その処理後の酸化銅の色から命名されている。
【００２９】
また、金属放熱板３の下面には、ニッケルあるいはニッケル−金等の耐蝕性の良好な金属から成る金属めっき層６が無電解めっき法や電解めっき法により１〜20μｍの厚みに被着されており、この金属めっき層６が金属放熱板３の表面を空気中の水分から保護し、金属放熱板３の腐食を有効に防止することができる。従って、搭載する電子部品１４を長期間にわたり正常に作動させることができる。なお、このように耐食性に優れるめっき金属層６を金属放熱板３の側面に施してもよい。そうすることにより金属放熱板３の腐食を有効に防止して耐湿性に優れたものとすることができる。
【００３０】
なお、ニッケルめっきの無電解めっき液は、硫酸ニッケル40ｇ／ｌ（リッター）、クエン酸ナトリウム24ｇ／ｌ、酢酸ナトリウム14ｇ／ｌ、次亜リン酸ナトリウム20ｇ／ｌ、塩化アンモニウム５ｇ／ｌから成り、温度が50〜90℃で処理している。また、金めっきの無電解めっき液は、シアン化カリウム5.0ｇ／ｌ、クエン酸カリウム50.0ｇ／ｌ、エチレンジアミンテトラアセティクアシッド5.0ｇ／ｌから成り、温度が50〜90℃で処理している。
【００３１】
金属放熱板３は、金属板の片面を絶縁フィルムで被覆する工程と、金属めっき層６を被着させる工程と、絶縁フィルムを剥離した後に放熱板の形状に切断または打ち抜き加工する工程と、酸化還元処理を施す工程とで製作される。
【００３２】
また、配線基板２と金属放熱板３とを接着する接着材層４は、配線基板２と金属放熱板３とを強固に接着固定する機能を有し、ガラス繊維基材にエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を含浸させて成り、その形状は配線基板２の底部の形状と略同一となっている。
【００３３】
接着材層４はその厚みが40〜150μｍ程度であり、接着材層４を構成するガラス繊維基材は、直径５〜７μｍのガラス繊維を数本〜数十本まとめたヤーンを0.5〜２ｍｍ間隔で編んだ織布および／または紙状に漉いた不織布であり、接着材層４の支持体および厚み制御の機能を有し、熱硬化性樹脂との密着性を向上させるためにシランカップリング剤等の処理が施されている。
【００３４】
また、接着材層４を構成する熱硬化性樹脂は、金属放熱板３および配線基板２との接着力が強い水酸基やカルボキシル基をもつエポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂等が用いられる。なお、熱硬化性樹脂を含有する接着材層４は、その取り扱いの容易さおよび配線基板２と金属放熱板３との密着性の観点からは、ガラス繊維基材に含浸させた状態で使用される。
【００３５】
さらに、この接着材層４を間に介した配線基板２と金属放熱板３との接着は、配線基板２と金属放熱板３とを間に未硬化の接着材層４を挟んで積層するとともにこれらを、0.3〜0.5ＭＰａの荷重を加えた状態で150〜200℃の温度のオーブン中で数分〜数時間加熱することにより行われ、それにより本発明の放熱板付配線基板１が製造される。
【００３６】
かくして、本発明の放熱板付配線基板１によれば、金属放熱板３の上面に絶縁処理が施されるとともに下面に金属めっき層が被着されて成ることから、配線基板２と金属放熱板３との間に接着材層４を挟んで加圧・加熱硬化してこれらを接着する際、金属放熱板３表面に微小な凹凸があることから接着材がその凹凸部に入り込み硬化固定されるので、配線基板２と金属放熱板３とを強固に接合することができる。
【００３７】
また、本発明の電子装置は、上記の放熱板付配線基板１の金属放熱板３の搭載部８に電子部品14を搭載するとともにこの電子部品14の各電極を配線導体層１０にボンディングワイヤ15を介して電気的に接続することによって製作される。
【００３８】
本発明の電子装置によれば、上記の放熱板付配線基板１の搭載部８に電子部品14を搭載して成ることから、電子部品14を正常かつ強固に搭載できるとともに電子部品14の発生する熱を放熱板３を介して外部に良好に放散することができ、それにより長期間にわたり正常に作動することが可能な電子装置とすることができる。
【００３９】
なお、本発明の放熱板付配線基板１およびこれを用いた電子装置は上述の実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能であり、例えば本例では、搭載される電子部品14として半導体素子の例を示したが、抵抗器・キャパシタ・圧電素子等の電子部品を搭載しても良い。
【００４０】
【発明の効果】
本発明の放熱板付配線基板によれば、金属放熱板は、その上面に絶縁処理を施したことからその表面に微小な凹凸が形成され、その結果、金属放熱板と配線基板とを接着材層を間に介して強固に接合することができる。また、金属放熱板の下面に金属めっき層を被着させたことから、この金属めっき層が金属放熱板の表面を空気中の水分から保護し、金属放熱板の酸化腐食を有効に防止することができる。
【００４１】
また、本発明の放熱板付配線基板によれば、金属放熱板の側面に黒化処理を施したことから、金属放熱板と配線基板とを接着材層を間に介して接合する際に、接着材の一部が金属放熱板の側面に回り込んで付着し、その結果、金属放熱板と配線基板との接合を極めて強固なものとすることができる。
【００４２】
本発明の電子装置によれば、上記の放熱板付配線基板の搭載部に電子部品を搭載して成ることから、金属放熱板と配線基板とが強固に接合されているとともに金属放熱板に腐食が発生しにくい、電子部品を長期間にわたり正常に作動することが可能な電子装置とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は本発明の放熱板付配線基板およびこれを用いた電子装置の実施の形態の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
１・・・・・・放熱板付配線基板
２・・・・・・配線基板
３・・・・・・金属放熱板
４・・・・・・接着材層
５・・・・・・絶縁処理層
６・・・・・・金属めっき層
７・・・・・・貫通孔
８・・・・・・搭載部
14・・・・・・電子部品
Claims (2)
- 上面に電子部品の搭載部を有する金属放熱板の前記上面に、前記搭載部を取り囲む貫通孔を有する配線基板を、接着材層を間に介して接着して成る放熱板付配線基板であって、
前記金属放熱板は、上面および側面に黒化処理が施されているとともに、該黒化処理が施されていない下面に金属めっき層が被着されており、
前記接着剤層の一部は、前記金属放熱板の側面に付着していることを特徴とする放熱板付配線基板。 - 請求項１記載の放熱板付配線基板の前記搭載部に電子部品を搭載して成ることを特徴とする電子装置。
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