JP4604682B2 - ポリウレタンイミド樹脂及びこれを用いた接着剤組成物 - Google Patents

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Description

本発明はポリウレタンイミド樹脂及びこれを用いた接着剤組成物に関する。
半導体分野ではエポキシ樹脂などの有機材料が多く使われている。封止材の分野では、封止システムの90%以上が樹脂封止システムに置き換わっている。封止材はエポキシ樹脂、硬化剤、各種添加剤、無機充填剤などによって構成される複合材料であり、エポキシ樹脂としてはクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が多く使用されている。しかし、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂は低吸水率、低弾性率といった特性において満足する要求特性を有していないため、表面実装方式への対応が困難である。そのため、これに代わる新規高性能エポキシ樹脂が多く提案され実用化に至っている。
また、エポキシ樹脂などの有機材料は、ダイボンディング用導電性接着剤として、エポキシ樹脂に銀粉を混練した銀ペーストとして多く使用されている。しかし、半導体素子の配線基板への装着方法が表面実装法に移行するに従い、銀ペーストに対する耐はんだリフロー性向上の要求が強まっている。この問題を解決するために、硬化後のダイボンディング用接着層のボイド、ピール強度、吸水率、弾性率等の改善がなされている。
半導体実装分野では、低コスト化・高精細化に対応した新しい実装形態としてICチップを直接プリント基板やフレキシブル配線板に搭載するフリップチップ実装が注目されている。フリップチップ実装方式としては、チップの端子にはんだバンプを設け、はんだ接続を行う方式や導電性接着剤を介して電気的接続を行う方式が知られている。これらの方式では、接続するチップと基板の熱膨張係数差に基づくストレスが、各種環境に曝した場合、接続界面で発生し接続信頼性が低下するという問題がある。このため、接続界面のストレスを緩和する目的で一般にエポキシ樹脂系のアンダフィル材をチップ/基板の間隙に注入する方式が検討されている。しかし、このアンダフィル注入工程は、プロセスを煩雑化し、生産性、コストの面で不利になるという問題がある。このような問題を解決すべく最近では、異方導電性と封止機能を有する異方導電性接着剤を用いたフリップチップ実装が、プロセス簡易性という観点から注目されている。
本発明に類似したポリウレタンイミド樹脂が、特許文献1に薄層複合膜として用いられている。
特開平05−023558号公報
しかし、上記の樹脂封止システム、ダイボンディング用導電性接着剤、フリップチップ実装では、被着体との接着力が全般的に劣るという問題がある。本発明は、接着力に優れ回路接続または半導体実装用接着剤に好適であるポリウレタンイミド樹脂及びそれを用いた接着剤組成物を提供するものである。
請求項1に記載の発明は、接着性に優れるポリウレタンイミド樹脂を提供するものである。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明に加えて容易に得られるポリウレタンイミド樹脂を提供するものである。
請求項3に記載の発明は請求項1に記載の発明に加えて溶解性に優れるポリウレタンイミド樹脂を提供するものである。
請求項4に記載の発明は請求項1に記載の発明に加えて溶解性に優れるポリウレタンイミド樹脂を提供するものである。
請求項5に記載の発明は、請求項1に記載の発明に加えて、溶解性に優れまた、樹脂の成形が容易なポリウレタンイミド樹脂を提供するものである。
請求項6に記載の発明は、接着信頼性を向上できる接着剤組成物を提供するものである。
請求項1に記載の発明は、一般式(I)で表される構造を有するポリウレタンイミド樹
脂であって、一般式(I)中、Rの10〜100mol%が一般式(II)で表される
構造を有する接着剤用のポリウレタンイミド樹脂である。
Figure 0004604682

(式中、Rは芳香族環あるいは脂肪族環を含む2価の有機基、Rは分子量100〜1
0,000の2価の有機基、Rは4個以上の炭素を含む4価の有機基、n及びmは1〜
100の整数である。)
Figure 0004604682
請求項2に記載の発明は、ジイソシアネートとジオールから得たポリウレタンオリゴマをテトラカルボン酸二無水物で鎖延長したブロック共重合体であることを特徴とする請求項1に記載の接着剤用のポリウレタンイミド樹脂である。
請求項に記載の発明は、一般式(I)中、Rの10〜100mol%が一般式(III)で表される繰り返し単位からなる平均分子量100〜10,000の2価の有機基であることを特徴とする請求項1に記載の接着剤用のポリウレタンイミド樹脂である。
Figure 0004604682

請求項に記載の発明は、平均分子量が5,000〜500,000であり、ケトン系溶媒に可溶であることを特徴とする請求項1に記載の接着剤用のポリウレタンイミド樹脂である。
請求項6に記載の発明は、請求項1に記載のポリウレタンイミド樹脂を含む接着剤組成物である。
本発明のポリウレタンイミド樹脂及びそれを含む接着剤組成物は接着力に優れ回路接続または半導体実装用接着剤に好適である。
本発明のポリウレタンイミド樹脂は、一般式(I)で表されるものであり、一般式(I)中、Rは芳香族環あるいは脂肪族環を含む2価の有機基、Rは分子量100〜10,000の2価の有機基、Rは4個以上の炭素を含む4価の有機基、n及びmは1〜100の整数である。
Figure 0004604682
一般式(I)中のRで表される芳香族環あるいは脂肪族環を含む2価の有機基はジイソシアネート残基であり、一般式(II)
Figure 0004604682
で表される構造を10〜100mol%含むことが好ましく、残りのジイソシアネート残基としては、
Figure 0004604682
等が挙げられ、これらは1種類あるいは2種類以上を組み合わせで用いることができる。
一般式(I)中のRで表される分子量100〜10,000の2価の有機基は、ジオール残基であり、一般式(III)
Figure 0004604682
で表される繰り返し単位からなる構造を10〜100mol%含むことが好ましく、残りのジオール残基としては、
Figure 0004604682
等の繰り返し単位を有するものが挙げられ、これらは1種類あるいは2種類以上を組み合わせで用いることができる。これらの平均分子量は100〜10,000が好ましく、500〜5,000であればより好ましい。
一般式(I)中のRで表される4個以上の炭素を含む4価の有機基はテトラカルボン酸無水物残基であり、
Figure 0004604682
等が挙げられ、これらは1種類あるいは2種類以上を組み合わせで用いることができる。
一般式(I)中のn及びmは1〜100の整数である必要があり、1〜50がより好ましい。
本発明のポリウレタンイミド樹脂は、溶液重合法等の通常の方法で合成することができる。例えば、溶液重合法の場合、生成するポリウレタンイミド樹脂が溶解するする溶媒、例えば、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)等にジイソシネート及びジオールを溶解し70℃〜180℃で1時間〜5時間反応させ、ウレタンオリゴマを合成し、さらにテトラカルボン酸二無水物を添加し70℃〜180℃で1時間から10時間反応させてポリウレタンイミド樹脂のNMP溶液が得られるが、場合により、さらに1価のアルコール、オキシム、アミン、イソシアネート、酸無水物等をさらに添加し反応を続け、ポリウレタンイミド樹脂の末端を修飾することもできる。また、合成の際には、水、アルコール、第3級アミンなどを触媒として用いることもできる。
得られたポリウレタンイミド樹脂溶液は目的に応じ、水による再沈澱法等によりポリウレタンイミド樹脂を分離することもできる。
ウレタンオリゴマを構成するジイソシアネートとジオールの組成比は、ジイソシネート1.0に対して、ジオール成分0.1〜1.0mol%が好ましい。ポリウレタンイミド樹脂を構成するポリウレタンオリゴマとテトラカルボン酸二無水物の組成比は、ポリウレタンオリゴマ1.0に対して、テトラカルボン酸二無水物、0.1〜2.0mol%が好ましい。
本発明のポリウレタンイミド樹脂は、テトラヒドロフランを溶媒としたゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の平均分子量が5,000〜500,000であることが好ましく、10,000〜100,000であることがより好ましい。平均分子量が5,000未満では樹脂の強度が低く、500,000を超えると樹脂の溶解性が劣る。
本発明のポリウレタンイミド樹脂は、ケトン系溶媒に溶解できることが好ましく、ケトン系溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニトリルアセトン、イソプロピリデンアセトン、ジイソプロピリデンアセトン、イソホロン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、ショウノウが挙げられ、その中でもアセトンまたはメチルエチルケトンが沸点が低く溶媒の除去が容易なため好ましい。
以上、説明した本発明のポリウレタンイミド樹脂は、例えば、半導体又は液晶ディスプレイ等の表示システム等において、半導体素子の実装あるいは回路接続用等の接着剤として使用することができる。
本発明のポリウレタンイミド樹脂は、それ単独での接着性に優れるが、さらに接続信頼性を向上する目的で三次元架橋性樹脂と硬化剤を組み合わせて用いることができる。
本発明に使用する三次元架橋性樹脂は、エポキシ樹脂、シアネートエステル樹脂、イミド系樹脂、ラジカル重合物質であるアクリレート・メタクリレート・マレイミド化合物等が挙げられ、硬化剤とともに用いられる。エポキシ樹脂の場合、硬化剤として公知のイミダゾール系、ヒドラジド系、三フッ化ホウ素−アミン錯体、スルホニウム塩、アミンイミド、ポリアミンの塩、ジシアンジアミド等の硬化剤またはその混合物が用いられ、エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA,F,S,AD等から誘導されるビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック、クレゾールノボラックから誘導されるエポキシノボラック型樹脂、ナフタレン骨格を有するナフタレン系エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ビフェニル・脂環式等の1分子内に2個以上のグリシジル基を有する各種のエポキシ化合物、その他公知のエポキシ樹脂が単独あるいは混合して用いられ、これらのエポキシ樹脂には不純物イオンである、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、ハロゲンイオン、特に塩素イオンや加水分解性塩素等を300ppm以下に低減した高純度品を用いることがエレクトロマイグレーション防止や回路金属導体の腐食防止のために好ましい。
シアネートエステル樹脂としては、ビス(4−シアナトフェニル)エタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフェニル)メタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、α,α’−ビス(4−シアナトフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼン、フェノール付加ジシクロペンタジエン重合体のシアネートエステル化物等が挙げられ、そのプレポリマーなどが単独若しくは混合して用いられる。その中でも、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン及び2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフェニル)等が硬化物の誘電特性が特に良好であるため好ましい。シアネートエステル樹脂の硬化剤として金属系反応触媒類が用いられ、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛等の金属触媒類が用いられ、具体的には、2−エチルヘキサン酸塩やナフテン酸塩等の有機金属塩化合物及びアセチルアセトン錯体などの有機金属錯体として用いられる。
金属系反応触媒の配合量は、シアネートエステル類化合物に対して1〜3000ppmとすることが好ましく、1〜1000ppmとすることがより好ましく、2〜300ppmとすることがさらに好ましい。金属系反応触媒の配合量が1ppm未満では反応性及び硬化性が不十分となる傾向があり、3000ppmを超えると反応の制御が難しくなったり、硬化が速くなりすぎる傾向があるが制限するものではない。
本発明で使用するラジカル重合物質(ラジカル重合性化合物)は、ラジカルにより重合する官能基を有する化合物で、(メタ)アクリレート樹脂、マレイミド樹脂、シトラコンイミド樹脂、ナジイミド樹脂などがあり、2種類以上を混合して使用してもよい。またラジカル重合性化合物は、モノマー、オリゴマーいずれの状態でも使用することができ、モノマーとオリゴマーを混合して用いてもよい。
(メタ)アクリル樹脂としては、(メタ)アクリレートをラジカル重合させることで得られるもので、(メタ)アクリレートとしてはメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、エテレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコールテトラ(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-1,3-ジアクリロキシプロパン、2,2-ビス[4-(アクリロキシメトキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(アクリロキシエトキシ)フェニル]プロパン、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレートトリシクロデカニル(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ウレタン(メタ)アクリテート、イソシアヌール酸エチレンオキシド変性ジアクリレートなどが有り、単独または2種類以上を混合して用いても良い。また、必要によっては、ハイドロキノン、メチルエーテルハイドロキノン等のラジカル重合禁止剤を硬化性が損なわれない範囲で使用しても良い。
さらに、リン酸エステル構造を有するラジカル重合性物質を使用した場合、金属等無機物に対する接着力を向上することができる。リン酸エステル構造を有するラジカル重合性物質の使用量は、0.1〜10重量部であり、好ましくは0.5〜5重量部である。リン酸エステル構造を有するラジカル重合性物質は、無水リン酸と2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートの反応生成物として得られる。具体的には、モノ(2-メタクリロイルオキシエチル)アシッドホスフェート、ジ(2-メタクリロイルオキシエチル)アシッドホスフェート等が有り、単独でも混合して使用しても良い。
マレイミド樹脂としては、分子中にマレイミド基を少なくとも1個有しているもので、例えば、フェニルマレイミド、1-メチル-2,4-ビスマレイミドベンゼン、N,N'-m-フェニレンビスマレイミド、N,N'-p-フェニレンビスマレイミド、N,N'-4,4-ビフェニレンビスマレイミド、N,N'-4,4-(3,3-ジメチルビフェニレン)ビスマレイミド、N,N'-4,4-(3,3-ジメチルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N'-4,4-(3,3-ジエチルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N'-4,4-ジフェニルメタンビスマレイミド、N,N'-4,4-ジフェニルプロパンビスマレイミド、N,N'-4,4-ジフェニルエーテルビスマレイミド、N,N'-4,4-ジフェニルスルホンビスマレイミド、2,2-ビス(4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2-ビス(3-s-ブチル-3,4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、1,1-ビス(4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル)デカン、4,4'-シクロヘキシリデン-ビス(1-(4-マレイミドフェノキシ)フェノキシ)-2-シクロヘキシルベンゼン、2,2-ビス(4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパンなどが有り、単独でも2種類以上を混合して使用しても良い。
シトラコンイミド樹脂としては、分子中にシトラコンイミド基を少なくとも1個有しているシトラコンイミド化合物を重合させたもので、シトラコンイミド化合物としては、例えば、フェニルシトラコンイミド、1-メチル-2,4-ビスシトラコンイミドベンゼン、N,N'-m-フェニレンビスシトラコンイミド、N,N'-p-フェニレンビスシトラコンイミド、N,N'-4,4-ビフェニレンビスシトラコンイミド、N,N'-4,4-(3,3-ジメチルビフェニレン)ビスシトラコンイミド、N,N'-4,4-(3,3-ジメチルジフェニルメタン)ビスシトラコンイミド、N,N'-4,4-(3,3-ジエチルジフェニルメタン)ビスシトラコンイミド、N,N'-4,4-ジフェニルメタンビスシトラコンイミド、N,N'-4,4-ジフェニルプロパンビスシトラコンイミド、N,N'-4,4-ジフェニルエーテルビスシトラコンイミド、N,N'-4,4-ジフェニルスルホンビスシトラコンイミド、2,2-ビス(4-(4-シトラコンイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2-ビス(3-s-ブチル-3,4-(4-シトラコンイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、1,1-ビス(4-(4-シトラコンイミドフェノキシ)フェニル)デカン、4,4'-シクロヘキシリデン-ビス(1-(4-シトラコンイミドフェノキシ)フェノキシ)-2-シクロヘキシルベンゼン、2,2-ビス(4-(4-シトラコンイミドフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパンなどが有り、単独でも2種類以上を混合して使用しても良い。
ナジイミド樹脂としては、分子中にナジイミド基を少なくとも1個有しているナジイミド化合物を重合したもので、ナジイミド化合物としては、例えば、フェニルナジイミド、1-メチル-2,4-ビスナジイミドベンゼン、N,N'-m-フェニレンビスナジイミド、N,N'-p-フェニレンビスナジイミド、N,N'-4,4-ビフェニレンビスナジイミド、N,N'-4,4-(3,3-ジメチルビフェニレン)ビスナジイミド、N,N'-4,4-(3,3-ジメチルジフェニルメタン)ビスナジイミド、N,N'-4,4-(3,3-ジエチルジフェニルメタン)ビスナジイミド、N,N'-4,4-ジフェニルメタンビスナジイミド、N,N'-4,4-ジフェニルプロパンビスナジイミド、N,N'-4,4-ジフェニルエーテルビスナジイミド、N,N'-4,4-ジフェニルスルホンビスナジイミド、2,2-ビス(4-(4-ナジイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2-ビス(3-s-ブチル-3,4-(4-ナジイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、1,1-ビス(4-(4-ナジイミドフェノキシ)フェニル)デカン、4,4'-シクロヘキシリデン-ビス(1-(4-ナジイミドフェノキシ)フェノキシ)-2-シクロヘキシルベンゼン、2,2-ビス(4-(4-ナジイミドフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパンなどが有り、単独でも2種類以上を混合して使用しても良い。
上記ラジカル重合性化合物を使用した場合には、重合開始剤を使用する。重合開始剤としては、熱または光によってラジカルを発生する化合物であれば特に制限はなく、過酸化物、アゾ化合物などがあり、目的とする接続温度、接続時間、保存安定性等を考慮し適宜選択されるが、高反応性と保存安定性の点から、半減期10時間の温度が、40℃以上かつ、半減期1分の温度が180℃以下の有機過酸化物が好ましく、半減期10時間の温度が、50℃以上かつ、半減期1分の温度が170℃以下の有機過酸化物が特に好ましい。接続時間を10秒とした場合、十分な反応率を得るための硬化剤の配合量は、1〜20重量%が好ましく、2〜15重量%が特に好ましい。本発明で使用される有機過酸化物の具体的な化合物としては、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシエステル、パーオキシケタール、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、シリルパーオキサイドなどから選定できるが、パーオキシエステル、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、シリルパーオキサイドは、開始剤中の塩素イオンや有機酸が5000ppm以下であり、加熱分解後に発生する有機酸が少なく、金属等でできた回路部材の接続端子の腐食を抑えることができるため特に好ましい。
ジアシルパーオキサイド類としては、イソブチルパーオキサイド、2,4-ジクロロベンゾイルパーオキサイド、3,5,5-トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ステアロイルパーオキサイド、スクシニックパーオキサイド、ベンゾイルパーオキシトルエン、ベンゾイルパーオキサイド等が挙げられる。
パーオキシジカーボネート類としては、ジ-n-プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス(4-t-ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ-2-エトキシメトキシパーオキシジカーボネート、ジ(2-エチルヘキシルパーオキシ)ジカーボネート、ジメトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ(3-メチル-3-メトキシブチルパーオキシ)ジカーボネート等が挙げられる。
パーオキシエステル類としては、クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3-テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1-シクロヘキシル-1-メチルエチルパーオキシノエデカノエート、t-ヘキシルパーオキシネオデカノエート、t-ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3-テトラメチルブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノネート、2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、1-シクロヘキシル-1-メチルエチルパーオキシ-2-エチルヘキサノネート、t-ヘキシルパーオキシ-2-エチルヘキサノネート、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノネート、t-ブチルパーオキシイソブチレート、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、t-ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t-ブチルパーオキシ-3,5,5-トリメチルヘキサノネート、t-ブチルパーオキシラウレート、2,5-ジメチル-2,5-ジ(m-トルオイルパーオキシ)ヘキサン、t-ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキシルモノカーボネート、t-ヘキシルパーオキシベンゾエート、t-ブチルパーオキシアセテート等を挙げることができる。
パーオキシケタール類では、1,1-ビス(t-ヘキシルパーオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、1,1-ビス(t-ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1-ビス(t-ブチルパーオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、1,1-(t-ブチルパーオキシ)シクロドデカン、2,2-ビス(t-ブチルパーオキシ)デカン等が挙げられる。
ジアルキルパーオキサイド類では、α,α’-ビス(t-ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、t-ブチルクミルパーオキサイド等が挙げられる。
ハイドロパーオキサイド類では、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等が挙げられる。
シリルパーオキサイド類としては、t-ブチルトリメチルシリルパーオキサイド、ビス(t-ブチル)ジメチルシリルパーオキサイド、t-ブチルトリビニルシリルパーオキサイド、ビス(t-ブチル)ジビニルシリルパーオキサイド、トリス(t-ブチル)ビニルシリルパーオキサイド、t-ブチルトリアリルシリルパーオキサイド、ビス(t-ブチル)ジアリルシリルパーオキサイド、トリス(t-ブチル)アリルシリルパーオキサイド等が挙げられる。
前述のように、金属製の回路部材の接続端子の腐食を抑えるために、硬化剤中に含有される塩素イオンや有機酸は5000ppm以下であることが好ましく、さらに、加熱分解後に発生する有機酸が少ないものがより好ましい。また、作製した被着体の安定性が向上することから室温(25℃)、常圧下で24時間の開放放置後に20重量%以上の重量保持率を有することが好ましい。これらは適宜混合して用いることができる。
これらの重合開始剤は単独または混合して使用することができ、分解促進剤、抑制剤等を混合して用いても良い。
また、これらの硬化剤をポリウレタン系、ポリエステル系の高分子物質等で被覆してマイクロカプセル化したものは、可使時間が延長されるために好ましい。
本発明の接着剤組成物は一般式(I)で示される構造からなるポリウレタンイミド樹脂(A)と三次元架橋性樹脂(B)の配合比が重量部で(A):(B)=1:99〜99:1で使用することができ、好ましくは10:90〜90:10である。
ポリウレタンイミド樹脂を用いた接着剤組成物には、流動性や、物性の向上または導電性、異方導電性、熱伝導性の機能の付加を目的にフィラーや粒子を添加して用いることができる。このようなフィラーや粒子としては、シリカ、三酸化二アンチモン、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、ステンレス、カーボン、セラミック、または上記金属、非導電性のガラス、セラッミク、プラスチック等を核としこの核に前記金属やカーボンを被覆したものでもよい。フィラーや粒子の使用量は特に制限は受けないが、ポリウレタンイミド樹脂を含む接着剤組成物のトータル100体積に対して0.1〜50体積%とすることが好ましい。
本発明のポリウレタンイミド樹脂を含む接着剤組成物は、接着力及び接着剤の物性の向上を目的として、種々のポリマを適宜添加してもよい。使用するポリマは特に制限を受けない。このようなポリマとしては、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂やビスフェノールF型フェノキシ樹脂、ビスフェノールA・ビスフェノールF共重合型フェノキシ樹脂等の汎用フェノキシ樹脂類、ポリメタクリレート類、ポリアクリレート類、ポリイミド類、ポリウレタン類、ポリエステル類、ポリビニルブチラール、SBS及びそのエポキシ変性体、SEBS及びその変性体などを用いることができる。これらは単独あるいは2種類以上を混合して用いることができる。さらに、これらポリマ中にはシロキサン結合やフッ素置換基が含まれていても良い。これらは、混合する樹脂同士が完全に相溶するか、もしくはミクロ相分離が生じて白濁する状態であれば接着剤組成物としては好適に用いることができる。上記ポリマの分子量は特に制限を受けるものではないが、一般的な平均分子量としては5,000〜150,000が好ましく、10,000〜80,000が特に好ましい。この値が、5,000未満では接着剤の物性が低下する傾向があり、また150,000を超えると他の成分との相溶性が悪くなる傾向がある。使用量としてはポリウレタンイミド樹脂を含む接着剤組成物100重量部に対して20〜320重量部とすることが好ましい。この使用量が、20重量部未満又は320重量部を超える場合は、流動性や接着性が低下する傾向がある。
本発明のポリウレタンイミド樹脂を含む接着剤組成物には適宜、軟化剤、促進剤、老化防止剤、着色剤、難燃剤、カップリング剤を添加しても良い。
本発明のポリウレタンイミド樹脂を含む接着剤組成物は、常温(25℃)で液状である場合にはペースト状で使用することができる。室温で固体の場合には、加熱して使用する他、溶剤を使用してペースト化してもよい。使用できる溶剤としては、接着剤組成物及び添加剤と反応性がなく、かつ十分な溶解性を示すものであれば、特に制限は受けないが、常圧(大気圧)での沸点が50〜150℃であるものが好ましい。また、沸点が50℃以下の場合、室温で放置すると揮発する恐れがあり、開放系での使用が制限される。また、沸点が150℃以上だと、溶剤を揮発させることが難しく、接着後の信頼性に悪影響を及ぼす恐れがある。
本発明のポリウレタンイミド樹脂を含む接着剤組成物はフィルム状にして用いることもできる。接着剤組成物に必要により溶剤等を加えるなどした溶液を、フッ素樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、離形紙等の剥離性基材上に塗布し、あるいは不織布等の基材に前記溶液を含浸させて剥離性基材上に載置し、溶剤等を除去してフィルムとして使用することができる。フィルムの形状で使用すると取扱性等の点から一層便利である。
本発明のポリウレタンイミド樹脂を含む接着剤組成物は熱膨張係数の異なる異種の被着体の接着剤として使用することができる。具体的には銀ペースト、銀フィルム、異方導電接着剤等に代表される回路接続材料、CSP用エラストマー、CSP用アンダーフィル材、LOCテープ、ダイボンド接着材等に代表される半導体素子接着剤として使用することができる。
以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれに制限されるも
のではない。
(ポリウレタンイミド樹脂の合成:PUI−1)
ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート(1.0mol)、ジフェニルメタン−2,4’−ジイソシアネート(1.0mol)及び平均分子量1,000のポリテトラメチレングリコール(0.8mol)を1−メチル−2−ピロリドン中で窒素雰囲気下、100℃で1時間反応させ、そこに、4,4’−オキシジフタル酸無水物(1.0mol)、トリエチルアミンおよび1−メチル−2−ピロリドンを添加し、さらに100℃で3時間かくはんした。さらに、ベンジルアルコールを添加し100℃で1時間かくはんし、反応を終了した。得られた溶液を激しくかくはんさせた水に入れ沈殿物を濾別し、真空中80℃で8時間乾燥させポリウレタンイミド樹脂PUI−1を得た。得られたポリウレタンイミド樹脂をGPCを用いて測定した結果、ポリスチレン換算で、Mw=51,000、Mn=22,000、であった。また、このポリウレタンイミド樹脂は固形分40重量%でメチルエチルケトンに可溶であった。
(ポリウレタンイミド樹脂の合成:PUI−2)
PUI−1のジオール成分を平均分子量1,000のポリテトラメチレングリコール(0.4mol),平均分子量2,000のポリ(ヘキサメチレンカーボネート)(0.4mol)に変え、実施例1と同様に合成し、PUI−2を得た。GPCを用いて測定した結果、ポリスチレン換算で、Mw=55,000、Mn=25,000であった。また、このポリウレタンイミド樹脂は固形分30重量%でメチルエチルケトンに可溶であった。
(実施例1)
PUI−1、ウレタンアクリレート(U−108、新中村化学工業株式会社製商品名)、硬化剤として1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン(パーヘキサTMH、日本油脂株式会社製商品名)を固形重量比で表1に示すように配合し、さらにポリスチレンを核とする粒子の表面に、厚み0.2μmのニッケル層を設け、このニッケル層の外側に、厚み0.02μmの金層を設けた、平均粒径5μm、比重2.5の導電性粒子を1.5体積%配合分散させ、厚み80μmのフッ素樹脂フィルムに塗工装置を用いて塗布し、70℃、10分の熱風乾燥によって接着剤層の厚みが20μmのフィルム状回路接続用異方導電性接着フィルムを得た。
上記製法によって得たフィルム状接着剤を用いて、40μmのポリイミドフィルム上にライン幅50μm、ピッチ100μm、厚み10μmの銅回路500本を蒸着により形成した2層フレキシブル回路板(FPC)と、0.2μmの酸化インジウム(ITO)の薄層を形成したガラス(厚み1.1mm、表面抵抗20Ω/□)とを、熱圧着装置(加熱方式:コンスタントヒート型、東レエンジニアリング株式会社製)を用いて170℃、3MPaで20秒間の加熱加圧を行って幅2mmにわたり接続し、接続体を作製した。
得られた接続体の接着強度を、JIS−Z0237に準じて90度剥離法で測定し、評価した。ここで、接着強度の測定装置は東洋ボールドウィン株式会社製テンシロンUTM−4(剥離速度50mm/分、25℃)を使用した。
(実施例2)
PUI−2を実施例1と同様に表1の配合にしたがい、接着剤層の厚みが20μmのフィルム状接着剤を作製し、実施例1と同様にFPCとITO形成ガラス基板との接着力を評価した。
(比較例1)
PUI−1の代わりにフェノキシ樹脂(PKHC、ユニオンカーバイド社製商品名、平均分子量45,000、メチルエチルケトン溶液(固形分40重量%))を用いて実施例1と同様にフィルム状接着剤を作製し、実施例1と同様にFPCとITO形成ガラス基板との接
着力を評価した。
(比較例2)
PUI−1の代わりにポリビニルブチラール樹脂(3000K、電気化学工業株式会社製商品名、平均重合度800、メチルエチルケトン溶液(固形分40重量%))を用いて実施例1と同様にフィルム状接着剤を作製し、実施例1と同様にFPCとITO形成ガラス基板との接着力を評価した。
Figure 0004604682
本発明の一般式(I)で表されるポリウレタンイミド樹脂を用いた接着剤組成物である実施例1、2は、接着強度が高い。これに対してフェノキシ樹脂を用いた比較例1、ポリビニルブチラール樹脂を用いた比較例2は、接着強度に劣る。

Claims (5)

  1. 一般式(I)で表される構造を有するポリウレタンイミド樹脂であって、一般式(I)
    中、R1の10〜100mol%が一般式(II)で表される構造を有する接着剤用のポリウレタンイミド樹脂。
    Figure 0004604682

    (式中、Rは芳香族環あるいは脂肪族環を含む2価の有機基、Rは分子量100〜1
    0,000の2価の有機基、Rは4個以上の炭素を含む4価の有機基、n及びmは1〜
    100の整数である。)
    Figure 0004604682
  2. ジイソシアネートとジオールから得たポリウレタンオリゴマをテトラカルボン酸二無水
    物で鎖延長したブロック共重合体であることを特徴とする請求項1に記載の接着剤用のポリウレタンイミド樹脂。
  3. 一般式(I)中、Rの10〜100mol%が一般式(III)で表される繰り返し
    単位からなる平均分子量100〜10,000の2価の有機基であることを特徴とする請
    求項1に記載の接着剤用のポリウレタンイミド樹脂。
    Figure 0004604682
  4. 平均分子量が5,000〜500,000であり、ケトン系溶媒に可溶であることを特
    徴とする請求項1に記載の接着剤用のポリウレタンイミド樹脂。
  5. 請求項1に記載のポリウレタンイミド樹脂を含む接着剤組成物。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4617848B2 (ja) * 2004-01-08 2011-01-26 日立化成工業株式会社 接着剤組成物及び回路接続用接着剤組成物
JP2006241174A (ja) * 2005-02-07 2006-09-14 Hitachi Chem Co Ltd ダイボンディング用フィルム状接着剤及びこれを用いた接着シート、並びに半導体装置。
JP5023665B2 (ja) * 2006-07-19 2012-09-12 日立化成工業株式会社 接着剤組成物、それを用いたフィルム状接着剤及び回路接続材料、並びに、接続体
KR101058632B1 (ko) 2006-08-04 2011-08-22 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 필름상 접착제, 접착 시트 및 이를 사용한 반도체 장치
KR20090042842A (ko) 2006-10-04 2009-04-30 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 다이본딩용 수지 페이스트, 반도체장치의 제조방법 및 반도체장치
JP2008112972A (ja) * 2006-10-06 2008-05-15 Hitachi Chem Co Ltd ダイボンディング用樹脂ペースト、半導体装置の製造方法及び半導体装置
JP4851970B2 (ja) * 2007-03-16 2012-01-11 ニッタ株式会社 イミド変性シリコンエラストマー
JPWO2010070947A1 (ja) * 2008-12-17 2012-05-24 日立化成工業株式会社 ダイボンディング用樹脂ペースト、半導体装置の製造方法及び半導体装置
CN105062342A (zh) * 2015-08-12 2015-11-18 河南卓立膜材料股份有限公司 合成树脂及利用该合成树脂制备的背涂液

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4934599A (ja) * 1972-07-31 1974-03-30
US4929358A (en) * 1989-08-09 1990-05-29 Exxon Research And Engineering Company Polyurethane-imide membranes and their use for the separation of aromatics from non-aromatics
JPH07113004A (ja) * 1993-10-18 1995-05-02 Regurusu:Kk 熱可塑性ポリウレタンエラストマー及びその製造方法
JPH07216050A (ja) * 1994-01-27 1995-08-15 Dainippon Ink & Chem Inc 硬化性樹脂組成物
JPH09235540A (ja) * 1996-03-01 1997-09-09 Sekisui Chem Co Ltd 湿気硬化型ウレタン系接着剤
JP2002128894A (ja) * 2001-08-10 2002-05-09 Hitachi Chem Co Ltd 共重合体
WO2003046040A1 (de) * 2001-11-27 2003-06-05 Basf Aktiengesellschaft Verfahen zur herstellung von isocyanatgruppen und urethangruppen enthaltenden prepolymeren
JP2003292575A (ja) * 2002-01-31 2003-10-15 Dainippon Ink & Chem Inc 熱硬化性ポリイミド樹脂組成物、ポリイミド樹脂の製造方法およびポリイミド樹脂
JP2003335943A (ja) * 2002-05-21 2003-11-28 Hitachi Chem Co Ltd ポリアミドイミド樹脂ペースト及びそれを含む被膜形成材料

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4934599A (ja) * 1972-07-31 1974-03-30
US4929358A (en) * 1989-08-09 1990-05-29 Exxon Research And Engineering Company Polyurethane-imide membranes and their use for the separation of aromatics from non-aromatics
JPH07113004A (ja) * 1993-10-18 1995-05-02 Regurusu:Kk 熱可塑性ポリウレタンエラストマー及びその製造方法
JPH07216050A (ja) * 1994-01-27 1995-08-15 Dainippon Ink & Chem Inc 硬化性樹脂組成物
JPH09235540A (ja) * 1996-03-01 1997-09-09 Sekisui Chem Co Ltd 湿気硬化型ウレタン系接着剤
JP2002128894A (ja) * 2001-08-10 2002-05-09 Hitachi Chem Co Ltd 共重合体
WO2003046040A1 (de) * 2001-11-27 2003-06-05 Basf Aktiengesellschaft Verfahen zur herstellung von isocyanatgruppen und urethangruppen enthaltenden prepolymeren
JP2003292575A (ja) * 2002-01-31 2003-10-15 Dainippon Ink & Chem Inc 熱硬化性ポリイミド樹脂組成物、ポリイミド樹脂の製造方法およびポリイミド樹脂
JP2003335943A (ja) * 2002-05-21 2003-11-28 Hitachi Chem Co Ltd ポリアミドイミド樹脂ペースト及びそれを含む被膜形成材料

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