JP4599891B2 - 半導体装置用基板並びに半導体装置 - Google Patents
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Description
このように、インターポーザの厚みが薄くなると、半導体チップ実装、ハンダボール形成等のはんだリフロー工程においてインターポーザに反りが発生するため、スティフナーを取り付けた多層回路配線板が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
まず、一方の面に実装用パッド111を、他方の面にはんだボール用パッド112及びソルダーレジスト113を形成したインターポーザ110を作製する(図5(a)参照)。次に、インターポーザ110の所定位置にスティフナー120を接着層121にて貼り合わせ、加熱硬化してスティフナー120を固定する(図5(b)参照)。
次に、はんだバンプ141が形成された半導体チップ140をスティフナー120が形成されたインターポーザの所定位置に載置し(図5(c)参照)、ハンダリフローにて半導体チップ140のはんだバンプ141と実装用パッド111をはんだ接合する(図5(d)参照)。
さらに、はんだボール用パッド112にはんだ球を載置し、はんだリフローにてはんだボール用パッド112上にはんだボール161を形成して、半導体装置200を得る(図5(e)参照)。さらに、マザーボードに実装されて実装基板が完成する。
スティフナーとインターポーザとの接着は200℃程度の高温で接着剤を硬化させて行うため、この温度近傍で平面に近い形状となる。低温ではインターポーザの中央部分が張り詰めるため平面状態となるが、スティフナー部分はスティフナー側に反りを生じる。
このようなインターポーザの反りはインターポーザとスティフナーとの熱膨張係数の差によって引き起こされるものと考えられる。
該複合スティフナーが金属基材を備え、且つ、
該複合スティフナーが金属基材の一方の面に樹脂からなる反り防止調整層を備え、且つ、
前記多層回路配線板と前記複合スティフナーの貼りあわせが、該複合スティフナーの金属基材の他方の面に備えた加熱硬化タイプの接着剤により貼りあわせられており、且つ、
前記半導体チップが前記半導体装置用基板上にバンプを介して接合され、且つ、
前記複合スティフナーの金属基材の厚さが前記多層回路配線板の厚さより大きい
ことを特徴とする半導体装置用基板としたものである。
図1に示す複合スティフナー20は、金属板等からなる金属基材21の一方の面に反り防止調整層23を、他方の面に接着剤層22を設けたもので、金属基材21の一方の面に反り防止調整層23を設けることにより、複合スティフナー20を多層回路配線板(インターポーザ)に貼り合わせた後の多層回路配線板(インターポーザ)の反り防止を図るようにしたものである。
また、反り防止調整層23としては、多層回路配線板(インターポーザ)の絶縁基材と同
じ材質の樹脂が好ましいが、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、エポキシ、フェノール、ポリエステルイミド等の樹脂が使用でき、これらの樹脂の単独層でも、複数層でも良い。
また、接着剤層22は、加熱硬化タイプの接着フィルムをラミネートする等の方法で形成する。
次に、はんだバンプ41が形成された半導体チップ40を複合スティフナー20が形成された半導体装置用基板30の所定位置に載置し(図4(d)参照)、ハンダリフローにて半導体チップ40のはんだバンプ41と半導体装置用基板30の実装用パッド11をはんだ接合する(図4(e)参照)。
さらに、半導体装置100はマザーボードに実装されて実装基板が完成する。
着剤層22を形成し、金型で打ち抜き加工して、一辺44mmの正方形の中心部に12.5mmの正方形の開口部24が形成された複合スティフナー20を作製した(図4(b)参照)。
次に、はんだバンプ41が形成された8mm角の半導体チップ40を複合スティフナー20が形成された半導体装置用基板30の所定位置に載置し(図4(d)参照)、ハンダリフローにて半導体チップ40のはんだバンプ41と半導体装置用基板30の実装用パッド11をはんだ接合した(図4(e)参照)。
まず、一方の面に実装用パッド111を、他方の面にはんだボール用パッド112及びソルダーレジスト113を形成した40×40mmサイズで150μm厚の多層回路配線板(インターポーザ)110を作製した(図5(a)参照)。
まず、一方の面に実装用パッド111を、他方の面にはんだボール用パッド112及びソルダーレジスト113を形成した40×40mmサイズで150μm厚の多層回路配線板(インターポーザ)110を作製した(図5(a)参照)。
ンダリフローにて半導体チップ140のはんだバンプ141と半導体装置用基板130の実装用パッド111をはんだ接合した(図5(d)参照)。
反り量の測定は、アクロメトリックス社製サーモレイ モデル PS88+を用いて行った。この装置は温調領域にガラス板が嵌め込まれ、外側から測定対象の形状変化(反り)を測定する。ガラス板には細線が一定間隔で書き込まれており、外側から光を照射すると物体表面に影が形成される。ガラス板上模様と影でモアレが出現する。温度昇降に伴うモアレの変化によって物体表面の形状変化を算出する。
各実施例サンプルを温調領域に位置させ、温度を200℃まで上げて室温からの反り量を測定した。
11、111……実装用パッド
12、112……はんだボール用パッド
13、113……ソルダーレジスト
20……複合スティフナー
21……金属基材
22……ソルダーレジスト
23……反り防止調整層
24……開口部
30、130、130a、130b……半導体装置用基板
40、140……半導体チップ
41、141……はんだバンプ
51、151……アンダーフィル樹脂
61、161……はんだボール
100、200、200a、200b……半導体装置
120……スティフナー
121……接着剤層
Claims (2)
- 多層回路配線板の半導体チップ実装面に該半導体チップ実装箇所を取り囲むように開口した複合スティフナーを形成した半導体装置用基板であって、
該複合スティフナーが金属基材を備え、且つ、
該複合スティフナーが金属基材の一方の面に樹脂からなる反り防止調整層を備え、且つ、
前記多層回路配線板と前記複合スティフナーの貼りあわせが、該複合スティフナーの金属基材の他方の面に備えた加熱硬化タイプの接着剤により貼りあわせられており、且つ、
前記半導体チップが前記半導体装置用基板上にバンプを介して接合され、且つ、
前記複合スティフナーの金属基材の厚さが前記多層回路配線板の厚さより大きい
ことを特徴とする半導体装置用基板。 - 請求項1に記載の半導体装置用基板上に半導体チップを搭載、実装し、且つ、該半導体装置用基板の半導体チップ実装面と反対側の面にはんだボールを形成したことを特徴とする半導体装置。
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