JP4586732B2 - 電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 - Google Patents
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Description
<第1実施形態>
第1実施形態に係る液晶装置について、図1から図6を参照して説明する。
<製造方法>
次に、上述した本実施形態に係る液晶装置の製造方法について、図7から図10を参照して説明する。ここに図7から図10は、本実施形態に係る液晶装置を製造する一連の製造工程を示す工程断面図である。尚、図7、図9及び図10では、図5に示した画素部の断面図に対応して示してあり、図8では、図6に示した蓄積容量の部分拡大断面図に対応して示してある。尚、ここでは、本実施形態に係る液晶装置のうち蓄積容量の製造工程を主として説明することとする。
<電子機器>
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。
Claims (4)
- 基板上に、互いに交差して延在するデータ線及び走査線と、前記基板上で平面的に見て前記データ線及び走査線に対応して規定される画素毎に配置された画素電極と、前記画素電極に電気的に接続された薄膜トランジスタと、下側電極、誘電体膜及び上側電極が下層側から順に積層されてなると共に前記画素電極に電気的に接続された蓄積容量とを備えた電気光学装置を製造する電気光学装置の製造方法であって、
前記基板上に前記走査線を形成する工程と、
前記基板上の平面的に見て前記データ線及び走査線の交差に対応する領域に、前記薄膜トランジスタを形成する工程と、
前記蓄積容量を、前記基板上で平面的に見て前記薄膜トランジスタのチャネル領域に対向する領域を含む領域に、前記薄膜トランジスタより上層側にポリシリコン膜からなる下側電極、誘電体膜及び金属膜からなる上側電極が下層側から順に積層されてなるように、形成する工程と、
前記データ線を、前記基板上に前記走査線と交差するように形成する工程と、
前記画素電極を、前記画素毎に、前記蓄積容量と電気的に接続されるように形成する工程と
を含み、
前記蓄積容量を形成する工程は、前記上側電極を積層する前に、前記誘電体膜を焼成する焼成処理を行う工程を含む
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 前記蓄積容量を形成する工程は、前記誘電体を積層する前に、前記下側電極における上層側表面を酸化する酸化処理を行う工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置の製造方法。
- 前記蓄積容量を形成する工程は、前記誘電体膜を、原子層堆積法によって形成することを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置の製造方法。
- 前記上側電極の上層側に低温プラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)法によって、前記上側電極と前記データ線とを電気的に層間絶縁する層間絶縁膜を形成する工程を含むことを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
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