JP4584117B2 - シリコン粒子を含む廃液を処理する方法、及びシリコン粒子を含む廃液からシリコンを回収する方法 - Google Patents
シリコン粒子を含む廃液を処理する方法、及びシリコン粒子を含む廃液からシリコンを回収する方法 Download PDFInfo
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1.52重量%のシリコン粒子を含む懸濁廃液5gに、1Nの苛性ソーダ溶液2mlを添加してpH10のアルカリ性にしたところ、すぐに水素ガスの発生が見られ、5分後に122ml、10分後に135ml、40分後に136ml発生し、その後の発生はなくなった。同時に、廃液中のシリコン粒子は溶解し、無色透明な溶液となった。
1.52重量%のシリコン粒子を含む懸濁廃液5gに、アニオン界面活性剤のドデシル硫酸ナトリウム(以後SDSという)を処理廃液に対して5重量%添加した後、1Nの苛性ソーダ溶液2mlを添加してpH10のアルカリ性にしたところ、7分間水素ガスの発生しない状態が生じた。その後水素ガスの発生が見られ、10分後7ml、20分後16ml、40分後30ml、60分後41ml発生し、もはや水素ガスの発生がない状態で57mlであった。
実施例1のSDSの添加量を処理廃液に対して1重量%および10重量%にしたところ、実施例1とほぼ同様の結果を得た。その水素ガス発生量の結果を比較例、実施例1の結果とともに表1に示す。
1.52重量%のシリコン粒子を含む懸濁廃液500gにSDS5gを添加し、次いで1Nの苛性ソーダ溶液200mlを添加してpH10とした後、No.5の濾紙を用いて5分以内で吸引濾過し、純水200gで洗浄後乾燥したところ7.5gの固形物を得た。この固形物1gを苛性アルカリに溶解し、水素ガス発生量による純度を測定したところ、91%であり、得られた固形物がシリコンであることをエックス線回折分析で確認した。一方、濾液を塩酸でpH8にpH調整したところ、公共水域放流規制値を満足し放流可能であった。
実施例1のSDSの代わりに、カチオン界面活性剤のセチルトリメチルアンモニウムブロミド(以後CTABrという)を用いたところ、5分間水素ガスの発生しない状態が生じ、その後水素ガスの発生が見られ、10分後18ml、20分後40ml、40分後69ml、60分後80ml発生し、もはや水素ガスの増加がない状態で92mlであった。このことから、廃液にCTABrを添加することによって、無添加に比べ水素ガスの発生開始時間が遅くなると共に、最終的な発生量は無添加に比べ30%減少したことがわかる。
実施例2のSDSの代わりに、CTABrを用いたところ、実施例4とほぼ同様の結果を得た。その水素ガス発生量の結果を比較例、実施例4の結果とともに表2に示す。
実施例3のSDSの代わりに、CTABrを用いたところ、7.4gの固形物を得た。この固形物1gを苛性アルカリに溶解し、発生水素ガス量による純度を測定したところ、92%であり、得られた固形物がシリコンであることをエックス線回折分析で確認した。一方、濾液を塩酸でpH8にpH調整したところ、公共水域放流規制値を満足し放流可能であった。
実施例1のSDSの代わりに、ノニオン界面活性剤のポリオキシエチレンラウリルエーテルを用いたところ、6分間水素ガスの発生しない状態が生じ、その後水素ガスの発生が見られ、10分後8ml、20分後23ml、40分後42ml、60分後54ml発生し、もはや水素ガスの増加がない状態で68mlであった。このことから、廃液にポリオキシエチレンラウリルエーテルを添加することによって、無添加に比べ水素ガスの発生開始時間が遅れると共に、最終的な発生量は無添加に比べ55%減少したことがわかる。
実施例2のSDSの代わりに、ポリオキシエチレンラウリルエーテルを用いたところ、実施例7とほぼ同様の結果を得た。その水素ガス発生量の結果を比較例、実施例7の結果とともに表3に示す。
Claims (4)
- シリコン粒子を含む廃液に、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、及びノニオン界面活性剤からなる群から選択される少なくとも一種のシリコン粒子の表面を不活性にする成分を0.1〜20重量%の割合で添加し、次いで廃液をpH8以上のアルカリ性にすることを特徴とするシリコン粒子を含む廃液を処理する方法。
- シリコン粒子の表面を不活性にする成分が廃液に対して0.1〜10重量%の割合で添加されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- シリコン粒子を含む廃液に、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、及びノニオン界面活性剤からなる群から選択される少なくとも一種のシリコン粒子の表面を不活性にする成分を0.1〜20重量%の割合で添加し、次いで廃液をpH8以上のアルカリ性にした後、廃液から水素ガスが発生しない5分以内に廃液を濾過してシリコンを回収することを特徴とするシリコン粒子を含む廃液からシリコンを回収する方法。
- シリコン粒子の表面を不活性にする成分が廃液に対して0.1〜10重量%の割合で添加されることを特徴とする請求項3に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005325217A JP4584117B2 (ja) | 2005-11-09 | 2005-11-09 | シリコン粒子を含む廃液を処理する方法、及びシリコン粒子を含む廃液からシリコンを回収する方法 |
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JP2007130561A JP2007130561A (ja) | 2007-05-31 |
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JP (1) | JP4584117B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012050948A (ja) * | 2010-09-02 | 2012-03-15 | Nippon Rensui Co Ltd | 排水処理装置および排水処理方法 |
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JP2000126768A (ja) * | 1998-10-21 | 2000-05-09 | Kurita Water Ind Ltd | Cmp排液の処理方法および装置 |
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JP2005111428A (ja) * | 2003-10-10 | 2005-04-28 | Toray Ind Inc | 微粒子の分離方法及び分離装置 |
-
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---|---|---|---|---|
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JP2005111428A (ja) * | 2003-10-10 | 2005-04-28 | Toray Ind Inc | 微粒子の分離方法及び分離装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007130561A (ja) | 2007-05-31 |
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