JP4580335B2 - フッ素ゴム架橋体の製造方法 - Google Patents
フッ素ゴム架橋体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4580335B2 JP4580335B2 JP2005370433A JP2005370433A JP4580335B2 JP 4580335 B2 JP4580335 B2 JP 4580335B2 JP 2005370433 A JP2005370433 A JP 2005370433A JP 2005370433 A JP2005370433 A JP 2005370433A JP 4580335 B2 JP4580335 B2 JP 4580335B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parts
- weight
- fluororubber
- rubber
- crosslinking
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
三元系フッ素ポリマーからなり過酸化物加硫可能なフッ素ゴムと、第4級ホスホニウム塩からなる架橋促進剤と、過酸化物系架橋剤とを含有し、前記第4級ホスホニウム塩をフッ素ポリマー100重量部当り1.2〜15重量部含有するゴム組成物を、
一次加硫後に250℃〜260℃(ただし250℃は除く)の温度範囲で熱処理し、
動摩擦係数が0.5以下であり、表面粗さ(Ra)が1.0以上のフッ素ゴム架橋体を得ることを特徴とするフッ素ゴム架橋体の製造方法。
前記第4級ホスホニウム塩をフッ素ポリマー100重量部当り1.2〜5重量部含有することを特徴とする請求項1記載のフッ素ゴム架橋体の製造方法。
本発明のフッ素ゴム組成物は、三元系フッ素ポリマーからなり過酸化物加硫可能なフッ素ゴムと、第4級ホスホニウム塩からなる架橋促進剤と、過酸化物系架橋剤とを少なくとも含有する。
三元系フッ素ポリマーからなり過酸化物加硫可能なフッ素ゴムとしては、含フッ素オレフィンの3元共重合体を用いることができる。
架橋剤としては、過酸化物系架橋剤が用いられ、過酸化物系架橋剤としては有機過酸化物架橋剤を好ましく用いることができる。
第4級ホスホニウム塩は、一般式(R1R2R3R4P)+X−で表される。式中、R1〜R4は炭素数1〜25のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アルキルアリール基、アラルキル基またはポリオキシアルキレン基であり、あるいはこれらの内の2〜3個がPと共に複素環構造を形成することもできる。X−はCl−、Br−、I−、HSO4 −、H2PO4 −、RCOO−、ROSO2 −、RSO−、ROPO2H−、CO3 −−等のアニオンである。
本発明においては、以上の成分以外に、ゴム配合剤として、例えばカーボンブラック、カーボン繊維など補強剤;ハイドロタルサイト(Mg6Al2(OH)16CO3)、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、チタン酸カリウム、酸化チタン、硫酸バリウム、硼酸アルミニウム、ガラス繊維、アラミド繊維等の充填剤;ワックス、金属セッケン等の加工助剤;水酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛などの受酸剤;老化防止剤;熱可塑性樹脂;などのようなゴム工業で一般的に使用されている配合剤を本発明に使用する架橋剤及び架橋促進剤の効果を損なわない範囲で必要に応じて添加できる。
本発明において、第4級ホスホニウム塩(架橋促進剤)の含有量は、フッ素ポリマー100重量部当り1.2〜15重量部の範囲であり、好ましくは1.2〜5重量部の範囲である。第4級ホスホニウム塩(架橋促進剤)の含有量が、1.2重量部未満であれば、十分な表面粗さが得られないという問題があり、また15重量部を越えると、ゴム硬度の上昇が大きく、実用的な材料物性が得られないという問題がある。
本発明に係るゴム組成物の調製法としては、例えば、所定量の上記各成分を、インターミックス、ニーダー、バンバリーミキサー等の密閉型混練機またはオープンロールなどゴム用の一般的な混練機で混練する手法や、各成分を溶剤等で溶解して、攪拌機等で分散させる方法などが挙げられる。
<一次加硫(架橋)>
上記のようにして得られたゴム組成物は、射出成形機、圧縮成形機、加硫プレス機、オーブンなどを用いて、通常、140℃〜230℃の温度で1〜120分程度加熱(一次加硫)することにより、架橋(加硫)成形できる。
本発明の熱処理方法は、通常の2次加硫と同じであるが、本発明のゴム組成物でなければ、通常の2次加硫を行っても、フッ素ゴム架橋体の動摩擦係数が0.5以下であり、表面粗さ(Ra)が1.0以上であるものは得られない。
<配合成分とその配合量>
(1)3元系フッ素ゴム;
(デュポン・ダウ・エラストマー社製「バイトンGBL600S」;ムーニー粘度ML1+10(121℃)65) ・・・100重量部
(2)MTカーボン;
(Huber社製「Huber N-990」;平均粒径500mμ、比表面積6m2/g) ・・・25重量部
(3)酸化亜鉛;
(正同化学工業社製) ・・・4重量部
(4)架橋助剤:トリアリルイソシアヌレート;
(日本化成社製「TAIC M60」) ・・・3重量部
(5)架橋剤;
2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジヒドロペルオキシド
(日本油脂製品「パーヘキサ25B−40」) ・・・2重量部
(6)架橋促進剤;4級ホスホニウム塩
トリフェニルベンジルホスホニウムクロライド
(デュポン・ダウ・エラストマー社製「キュラティブVC#20」 ・・・4.5重量部
(注:「キュラティブVC#20」;架橋促進剤33wt%とフッ素ゴム〔バイトンE−45〕67wt%のマスターバッチ)
以上の各配合成分(加硫成分を除く。)をニーダーに投入して10分混練することにより調製した。
得られた熱処理物について、ゴム硬度、動摩擦係数、表面粗さを測定した。
JIS K6253に準拠し、タイプAデュロメーターで測定した。通常40〜85(ポイント)が好ましく、60〜80(ポイント)がより好ましい。
動摩擦係数の測定は、厚さ2mmの試料ゴムシートをJIS K7125,P8147に準拠し、新東科学社製表面試験機により、試料ゴムシート表面の動摩擦係数を測定した。試験条件は、相手材が直径10mmクロムメッキ鋼球の摩擦子、移動速度50mm/分、荷重は50gで測定した。
表1から、本配合によると、低摩擦係数を有するとともに表面粗さもRa=4.22と十分に確保できていることがわかる。
<配合成分とその配合量>
(1)3元系フッ素ゴム;
(デュポン・ダウ・エラストマー社製「バイトンGLT600S」;ムーニー粘度ML1+10(121℃)65) ・・・100重量部
(2)MTカーボン;
(Huber社製「Huber N-990」;平均粒径500mμ、比表面積6m2/g) ・・・25重量部
(3)酸化亜鉛;
(正同化学工業社製) ・・・4重量部
(4)架橋助剤:トリアリルイソシアヌレート;
(日本化成社製「TAIC M60」) ・・・3重量部
(5)架橋剤;
2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジヒドロペルオキシド
(日本油脂製品「パーヘキサ25B−40」) ・・・2重量部
(6)架橋促進剤;4級ホスホニウム塩
トリフェニルベンジルホスホニウムクロライド
(デュポン・ダウ・エラストマー社製「キュラティブVC#20」 ・・・4.5重量部
(注:「キュラティブVC#20」;架橋促進剤33wt%とフッ素ゴム〔バイトンE−45〕67wt%のマスターバッチ)
実施例1と同じ。
実施例1と同じ。
表1から、本配合によると、低摩擦係数を有するとともに表面粗さもRa=2.84と十分に確保できていることがわかる。
<配合成分とその配合量>
実施例1において、第4級ホスホニウム塩を用いない以外は同様の配合成分とした。また各成分の配合量および架橋促進剤と架橋剤の配合比を表1に示すように代えた。
実施例1と同じ。
実施例1と同じ。
表1より、4級ホスホニウム塩を配合しない場合、表面は平滑であり、摩擦係数も高いままであることがわかる。
<配合成分とその配合量>
(1)3元系フッ素ゴム;
(デュポン・ダウ・エラストマー社製「バイトンGBL600S」;ムーニー粘度ML1+10(121℃)65) ・・・100重量部
(2)MTカーボン;
(Huber社製「Huber N-990」;平均粒径500mμ、比表面積6m2/g) ・・・25重量部
(3)酸化亜鉛;
(正同化学工業社製) ・・・4重量部
(4)架橋助剤:トリアリルイソシアヌレート;
(日本化成社製「TAIC M60」) ・・・3重量部
(5)架橋剤;
2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジヒドロペルオキシド
(日本油脂製品「パーヘキサ25B−40」) ・・・2重量部
(6)架橋促進剤;4級ホスホニウム塩
トリフェニルベンジルホスホニウムクロライド
(デュポン・ダウ・エラストマー社製「キュラティブVC#20」 ・・・3重量部
(注:「キュラティブVC#20」;架橋促進剤33wt%とフッ素ゴム〔バイトンE−45〕67wt%のマスターバッチ)
実施例1と同じ。
実施例1と同じ。
表1より、4級ホスホニウム塩の有効成分量が本発明外の1.0重量部である配合量では、低摩擦係数化は進むものの、表面の粗さの改質が十分に発現しないことがわかる。
<配合成分とその配合量>
(1)3元系フッ素ゴム;
(デュポン・ダウ・エラストマー社製「バイトンGLT600S」;ムーニー粘度ML1+10(121℃)65) ・・・100重量部
(2)MTカーボン;
(Huber社製「Huber N-990」;平均粒径500mμ、比表面積6m2/g) ・・・25重量部
(3)酸化亜鉛;
(正同化学工業社製) ・・・4重量部
(4)架橋助剤:トリアリルイソシアヌレート;
(日本化成社製「TAIC M60」) ・・・3重量部
(5)架橋剤;
2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジヒドロペルオキシド
(日本油脂製品「パーヘキサ25B−40」) ・・・2重量部
(6)架橋促進剤;4級ホスホニウム塩
トリフェニルベンジルホスホニウムクロライド
(デュポン・ダウ・エラストマー社製「キュラティブVC#20」 ・・・3重量部
(注:「キュラティブVC#20」;架橋促進剤33wt%とフッ素ゴム〔バイトンE−45〕67wt%のマスターバッチ)
実施例1と同じ。
実施例1と同じ。
表1より、4級ホスホニウム塩の有効成分量が本発明外の1.0重量部である配合量では、低摩擦係数化は進むものの、表面の粗さの改質が十分に発現しないことがわかる。
<配合成分とその配合量>
(1)2元系フッ素ゴム;
(デュポン・ダウ・エラストマー社製「バイトンA500」;ポリオール加硫系、ムーニー粘度ML1+10(121℃)45) ・・・100重量部
(2)MTカーボン;
(Huber社製「Huber N-990」;平均粒径500mμ、比表面積6m2/g) ・・・25重量部
(3)酸化マグネシウム
(協和化学工業社製「キョウワマグ#150」) ・・・3重量部
(4)水酸化カルシウム;
(近江化学工業社製「カルディック#2000」) ・・・3重量部
(5)架橋剤;
ビスフェノールAF
(デュポン・ダウ・エラストマー社製「キュラティブVC#30」;50wt%とフッ素ゴム〔バイトンE−45〕50wt%のマスターバッチ) ・・・4.5重量部
(注:ロール投入)
(6)架橋促進剤;4級ホスホニウム塩
トリフェニルベンジルホスホニウムクロライド
(デュポン・ダウ・エラストマー社製「キュラティブVC#20」:「キュラティブVC#20」;架橋促進剤33wt%とフッ素ゴム〔バイトンE−45〕67wt%のマスターバッチ) ・・・8.0重量部
(注:ロール投入)
以上の各配合成分(加硫成分を除く。)をニーダーに投入して20分混練した後、オープンロールにて加硫成分を投入することで組成物を調製した。
実施例1と同じ。
表1より、ビスフェノールAFと第4級ホスホニウム塩の組み合わせにより、低摩擦化しているが、表面の粗さは平滑面のままであることがわかる。
上記のようして得られた低摩擦性フッ素ゴム架橋体は、低摩擦係数化と表面粗さ(1.5以上)が両立しており、ハードディスク(HDD)記憶装置用ヘッド、HDD装置用ストッパー、光ディスク等を用いる車載用ディスク装置やカメラ一体型ビデオレコーダー用ディスク装置等の記憶装置用ヘッド、プリンターヘッド等の衝撃吸収用ストッパー部品;Oリング、パッキン、Vパッキン、オイルシール、ガスケット、角リング、Dリング、ダイアフラム、各種バルブ等の流体(気体等を含む。)漏洩防止用の各種ゴム部品;防振ゴム、ベルト、ゴム引布、ワイパー等の各種ゴム部品等として好適に用いられる。
Claims (2)
- 三元系フッ素ポリマーからなり過酸化物加硫可能なフッ素ゴムと、第4級ホスホニウム塩からなる架橋促進剤と、過酸化物系架橋剤とを含有し、前記第4級ホスホニウム塩をフッ素ポリマー100重量部当り1.2〜15重量部含有するゴム組成物を、
一次加硫後に250℃〜260℃(ただし250℃は除く)の温度範囲で熱処理し、
動摩擦係数が0.5以下であり、表面粗さ(Ra)が1.0以上のフッ素ゴム架橋体を得ることを特徴とするフッ素ゴム架橋体の製造方法。 - 前記第4級ホスホニウム塩をフッ素ポリマー100重量部当り1.2〜5重量部含有することを特徴とする請求項1記載のフッ素ゴム架橋体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005370433A JP4580335B2 (ja) | 2005-12-22 | 2005-12-22 | フッ素ゴム架橋体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005370433A JP4580335B2 (ja) | 2005-12-22 | 2005-12-22 | フッ素ゴム架橋体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007169512A JP2007169512A (ja) | 2007-07-05 |
JP4580335B2 true JP4580335B2 (ja) | 2010-11-10 |
Family
ID=38296498
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005370433A Expired - Fee Related JP4580335B2 (ja) | 2005-12-22 | 2005-12-22 | フッ素ゴム架橋体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4580335B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007169511A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Nok Corp | ゴム組成物及びフッ素ゴム架橋体の製造方法 |
JP2007284608A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Fujikura Rubber Ltd | 非粘着性・低摩擦性フッ素ゴム組成物 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6246642A (ja) * | 1985-08-24 | 1987-02-28 | 豊田合成株式会社 | ゴム積層体の製造方法 |
JPH06122802A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-05-06 | Asahi Glass Co Ltd | フッ素ゴム組成物 |
JPH06306235A (ja) * | 1993-04-21 | 1994-11-01 | Asahi Glass Co Ltd | 弗素ゴム組成物 |
JPH08295776A (ja) * | 1995-04-27 | 1996-11-12 | Asahi Glass Co Ltd | フッ素ゴム組成物 |
WO2004094479A1 (ja) * | 2003-04-21 | 2004-11-04 | Nok Corporation | 低摩擦性フッ素ゴム架橋体の製造方法 |
JP2007169511A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Nok Corp | ゴム組成物及びフッ素ゴム架橋体の製造方法 |
-
2005
- 2005-12-22 JP JP2005370433A patent/JP4580335B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6246642A (ja) * | 1985-08-24 | 1987-02-28 | 豊田合成株式会社 | ゴム積層体の製造方法 |
JPH06122802A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-05-06 | Asahi Glass Co Ltd | フッ素ゴム組成物 |
JPH06306235A (ja) * | 1993-04-21 | 1994-11-01 | Asahi Glass Co Ltd | 弗素ゴム組成物 |
JPH08295776A (ja) * | 1995-04-27 | 1996-11-12 | Asahi Glass Co Ltd | フッ素ゴム組成物 |
WO2004094479A1 (ja) * | 2003-04-21 | 2004-11-04 | Nok Corporation | 低摩擦性フッ素ゴム架橋体の製造方法 |
JP2007169511A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Nok Corp | ゴム組成物及びフッ素ゴム架橋体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007169512A (ja) | 2007-07-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5061905B2 (ja) | フッ素ゴム組成物及びフッ素ゴム架橋体の製造方法 | |
US7279530B2 (en) | Method for producing low friction fluorine rubber crosslinked body | |
WO2009118860A1 (ja) | フッ素ゴム組成物及びフッ素ゴム架橋体 | |
JP6288398B2 (ja) | フッ素ゴム組成物 | |
WO2013111643A1 (ja) | 自動車用オイルシール | |
CN111194333B (zh) | 含氟共聚物组合物及金属橡胶层叠体 | |
JP5131347B2 (ja) | 回転摺動シールの製造方法及び回転摺動シール | |
JP5124945B2 (ja) | フッ素ゴム架橋体の製造方法 | |
JP2007169511A (ja) | ゴム組成物及びフッ素ゴム架橋体の製造方法 | |
JP4528713B2 (ja) | フッ素ゴム組成物及びフッ素ゴム架橋体の製造方法 | |
JP2004250520A (ja) | フッ素ゴム組成物 | |
JP4580335B2 (ja) | フッ素ゴム架橋体の製造方法 | |
JP2008144061A (ja) | フッ素ゴム組成物及びフッ素ゴム架橋体 | |
JP2021063197A (ja) | 含フッ素共重合体組成物、金属ゴム積層体及び金属ゴム積層体の製造方法 | |
JP6121659B2 (ja) | フッ素ゴム組成物およびその製造方法 | |
JP5422940B2 (ja) | フッ素ゴム組成物及びフッ素ゴム架橋体の製造方法 | |
JP2016090013A (ja) | オイルシール | |
JP4139943B2 (ja) | ウォータポンプ用軸受 | |
JP3882615B2 (ja) | ゴム加硫成形物 | |
JPH09239904A (ja) | 弾性複合材およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081107 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100416 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100824 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100827 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130903 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4580335 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |