JP4571515B2 - スピン処理装置 - Google Patents
スピン処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4571515B2 JP4571515B2 JP2005014391A JP2005014391A JP4571515B2 JP 4571515 B2 JP4571515 B2 JP 4571515B2 JP 2005014391 A JP2005014391 A JP 2005014391A JP 2005014391 A JP2005014391 A JP 2005014391A JP 4571515 B2 JP4571515 B2 JP 4571515B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- holding
- rotary table
- holding member
- gear
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Weting (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
回転テーブルと、
この回転テーブルに周方向に沿って所定間隔で設けられそれぞれに上記基板の外周面を保持する保持ローラが回転可能に設けられた複数の保持手段と、
上記回転テーブルを回転駆動する駆動手段と、
上記基板を処理しているときに上記駆動手段の駆動を制御して上記回転テーブルの回転速度を加速或いは減速の少なくとも一方によって変化させる制御手段を具備し、
上記保持手段は上記回転テーブルに回転駆動可能に設けられた保持部材を有し、この保持部材の上端には上記保持ローラが上記保持部材の回転軸芯から偏心した位置に回転可能に設けられ、
上記保持部材に回転可能に設けられた上記保持ローラの正転方向或いは逆転方向の少なくとも一方の回転方向への回転角度を所定の範囲に制限する回転角度制限手段が設けられていることを特徴とする基板のスピン処理装置にある。
回転テーブルと、
この回転テーブルに周方向に沿って所定間隔で設けられそれぞれに上記基板の外周面を保持する保持ローラが回転可能に設けられた複数の保持手段と、
上記回転テーブルを回転駆動する駆動手段と、
上記基板を処理しているときに上記駆動手段の駆動を制御して上記回転テーブルの回転速度を加減速する制御手段を具備し、
上記保持手段は上記回転テーブルに回転駆動可能に設けられた保持部材を有し、この保持部材の上端には上記保持ローラが上記保持部材の回転軸芯から偏心した位置に回転可能に設けられ、
上記保持部材に回転可能に設けられた上記保持ローラの正転方向及び逆転方向への回転角度を所定の範囲に制限する回転角度制限手段が設けられていて、
上記保持ローラは上記保持部材に回転可能に支持された取り付け軸の上端部に設けられ、
上記回転角度制限手段は、上記取り付け軸の下端部に設けられた第1の歯車と、上記保持部材に上記第1の歯車と噛合して設けられた第2の歯車と、この第2の歯車が上記第1の歯車の回転に応じて回転したときに、第2の歯車の正転方向と逆転方向との回転角度を制限する規制部材とによって構成されていることを特徴とする基板のスピン処理装置にある。
基板Wの慣性による回転を制限したことで、回転テーブル11の回転方向を切り換えたとき、その切り換えに伴い基板Wを逆方向へ円滑に回転させることが可能となる。
Claims (2)
- 円盤状の基板を回転させながら処理するスピン処理装置であって、
回転テーブルと、
この回転テーブルに周方向に沿って所定間隔で設けられそれぞれに上記基板の外周面を保持する保持ローラが回転可能に設けられた複数の保持手段と、
上記回転テーブルを回転駆動する駆動手段と、
上記基板を処理しているときに上記駆動手段の駆動を制御して上記回転テーブルの回転速度を加速或いは減速の少なくとも一方によって変化させる制御手段を具備し、
上記保持手段は上記回転テーブルに回転駆動可能に設けられた保持部材を有し、この保持部材の上端には上記保持ローラが上記保持部材の回転軸芯から偏心した位置に回転可能に設けられ、
上記保持部材に回転可能に設けられた上記保持ローラの正転方向或いは逆転方向の少なくとも一方の回転方向への回転角度を所定の範囲に制限する回転角度制限手段が設けられていることを特徴とする基板のスピン処理装置。 - 円盤状の基板を回転させながら処理するスピン処理装置であって、
回転テーブルと、
この回転テーブルに周方向に沿って所定間隔で設けられそれぞれに上記基板の外周面を保持する保持ローラが回転可能に設けられた複数の保持手段と、
上記回転テーブルを回転駆動する駆動手段と、
上記基板を処理しているときに上記駆動手段の駆動を制御して上記回転テーブルの回転速度を加減速する制御手段を具備し、
上記保持手段は上記回転テーブルに回転駆動可能に設けられた保持部材を有し、この保持部材の上端には上記保持ローラが上記保持部材の回転軸芯から偏心した位置に回転可能に設けられ、
上記保持部材に回転可能に設けられた上記保持ローラの正転方向及び逆転方向への回転角度を所定の範囲に制限する回転角度制限手段が設けられていて、
上記保持ローラは上記保持部材に回転可能に支持された取り付け軸の上端部に設けられ、
上記回転角度制限手段は、上記取り付け軸の下端部に設けられた第1の歯車と、上記保持部材に上記第1の歯車と噛合して設けられた第2の歯車と、この第2の歯車が上記第1の歯車の回転に応じて回転したときに、第2の歯車の正転方向と逆転方向との回転角度を制限する規制部材とによって構成されていることを特徴とする基板のスピン処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005014391A JP4571515B2 (ja) | 2004-01-27 | 2005-01-21 | スピン処理装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004018576 | 2004-01-27 | ||
JP2005014391A JP4571515B2 (ja) | 2004-01-27 | 2005-01-21 | スピン処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005244196A JP2005244196A (ja) | 2005-09-08 |
JP4571515B2 true JP4571515B2 (ja) | 2010-10-27 |
Family
ID=35025555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005014391A Active JP4571515B2 (ja) | 2004-01-27 | 2005-01-21 | スピン処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4571515B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6205159B2 (ja) | 2013-04-09 | 2017-09-27 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板把持装置および基板処理装置 |
KR102639924B1 (ko) * | 2019-05-10 | 2024-02-23 | 주식회사 케이씨텍 | 기판 스피닝 장치의 기판 수용체 |
KR102590328B1 (ko) * | 2020-12-24 | 2023-10-16 | 세메스 주식회사 | 기판 파지 장치 및 이를 포함하는 액 처리 장치, 및 기판 처리 설비 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04186626A (ja) * | 1990-11-16 | 1992-07-03 | Nec Yamaguchi Ltd | エッチング装置 |
JPH09107023A (ja) * | 1995-10-13 | 1997-04-22 | Toshiba Microelectron Corp | 被処理物の回転保持装置 |
JP2001118824A (ja) * | 1999-08-10 | 2001-04-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2001217220A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-08-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2001250859A (ja) * | 2000-03-03 | 2001-09-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2002203891A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Kaijo Corp | スピン処理装置におけるウエーハ固定機構 |
-
2005
- 2005-01-21 JP JP2005014391A patent/JP4571515B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04186626A (ja) * | 1990-11-16 | 1992-07-03 | Nec Yamaguchi Ltd | エッチング装置 |
JPH09107023A (ja) * | 1995-10-13 | 1997-04-22 | Toshiba Microelectron Corp | 被処理物の回転保持装置 |
JP2001118824A (ja) * | 1999-08-10 | 2001-04-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2001217220A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-08-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2001250859A (ja) * | 2000-03-03 | 2001-09-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2002203891A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Kaijo Corp | スピン処理装置におけるウエーハ固定機構 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005244196A (ja) | 2005-09-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI610384B (zh) | 基板保持裝置及基板處理裝置 | |
JP5538102B2 (ja) | 基板洗浄方法および基板洗浄装置 | |
JP5123122B2 (ja) | 基板の処理装置及び処理方法 | |
JP2007523463A5 (ja) | ||
TWI738339B (zh) | 印刷電路板勻液處理裝置 | |
US7926439B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
JP4571515B2 (ja) | スピン処理装置 | |
US11961757B2 (en) | Substrate holding apparatus and substrate processing apparatus | |
JPH10340947A (ja) | スピン処理装置 | |
KR101579509B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
JP2007194351A (ja) | 基板の処理装置及び処理方法 | |
JP2001044159A (ja) | スピン処理装置 | |
KR20090120344A (ko) | 매엽식 기판처리장치의 스핀척 장치 및 척핀 작동 방법 | |
TW202215568A (zh) | 基板處理裝置 | |
JP2000070874A (ja) | スピン処理装置及びその方法 | |
JP4681148B2 (ja) | スピン処理装置 | |
JP4364659B2 (ja) | スピン処理装置及びスピン処理方法 | |
KR101388107B1 (ko) | 매엽식 기판처리장치의 스핀척 장치 | |
JP2009514208A (ja) | スピンチャック | |
JP2002143749A (ja) | 回転塗布装置 | |
JP2726809B2 (ja) | スピン乾燥処理装置 | |
JP2007165366A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2002177911A (ja) | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | |
JP2002233832A (ja) | 処理装置 | |
JP5198223B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080121 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100223 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100426 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100525 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100722 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100810 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100812 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130820 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4571515 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |