JP2001250859A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 回転台等の回転部材に対する基板の相対的な
回転力を積極的に発生させて基板を回転させることによ
り、基板の支持に起因する処理ムラを防止して均一な処
理を施すことができる。 【解決手段】 基板処理装置において、基板Ｗの端縁に
当接して水平方向への移動を規制する複数個の規制部材
１９を回転可能に回転台３に備えた。複数個の規制部材
１９が回転可能であるので、一定の加減速や処理液の供
給により基板Ｗは複数個の規制部材１９に対して滑り出
して基板Ｗが回転台３に対し相対回転を行う。したがっ
て規制部材１９が基板端縁の同じ位置に当接し続けるこ
とがなく、基板Ｗの支持に起因する処理ムラを防止して
均一な処理を施すことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、円形の半導体ウエ
ハやガラス基板（以下、単に基板と称する）に対して処
理液を供給して処理を施す基板処理装置に係り、特に基
板の下面に処理液を供給し、遠心力で上面の周辺部に処
理液を回り込ませて処理を行う技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の基板処理装置として、例
えば、基板の端縁を当接支持するための支持ピンが複数
個立設された回転台を備えたものが挙げられる。これら
の複数個の支持ピンは、回転中心側に向けて付勢されて
おり、基板を支持していない状態では基板の外径よりも
内側に位置している。基板を支持する際には、基板の外
径よりも大きく拡げられた後に基板が載置され、複数個
の支持ピンによって把持されるようになっている。

【０００３】基板の処理時には、回転台ごと基板を回転
させながら、回転台の中心付近に配設されたノズルから
基板の下面に向けて処理液を吐出させ、遠心力で中心側
から周辺側に向けて下面を伝った処理液を上面に回り込
ませる。これにより基板の上面のうち周辺部だけが処理
液によって処理されるようになっている。処理の具体例
としては、上面全体に銅メッキが施された基板を処理の
対象とし、下面全体と、上面のうちの周辺部だけ、例え
ば、周辺部の１〜７ｍｍ程度を除去するものが挙げられ
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。

【０００５】すなわち、処理の間中、基板はその端縁を
複数個の支持ピンによって挟持されている関係上、基板
の上面の周辺部のうちその付近に位置する部分には処理
液が到達しない。そのため基板の上面のうちの周辺部を
均一に処理することできないという問題がある。

【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、回転台等の回転部材に対する基板の相
対的な回転力を積極的に発生させて基板を回転させるこ
とにより、基板の支持に起因する処理ムラを防止して均
一な処理を施すことができる基板処理装置を提供するこ
とを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の基板処理装置は、基板を回転させ
つつ基板の下面から処理液を供給して基板に所定の処理
を施す基板処理装置において、基板の下面側に配置さ
れ、かつ基板の下面と対向する対向面を有し、回転可能
な回転部材と、前記回転部材に回転可能に設けられ、基
板の端縁に当接して基板の移動を規制する複数個の規制
部材と、を備えたことを特徴とするものである。

【０００８】また、請求項２に記載の基板処理装置は、
請求項１に記載の基板処理装置において、前記複数個の
規制部材は、前記回転部材に対して鉛直軸周りに回転可
能なようにベアリングを介して前記回転部材に取り付け
られていることを特徴とするものである。

【０００９】また、請求項３に記載の基板処理装置は、
基板を回転させつつ基板の下面から処理液を供給して基
板に所定の処理を施す基板処理装置において、基板の下
面側に配置され、かつ基板の下面と対向する対向面を有
し、回転可能な回転部材と、前記回転部材に回転可能に
設けられ、基板の端縁に当接して基板の移動を規制する
複数個の規制部材と、前記複数個の規制部材のうち少な
くとも１つを回転駆動させる駆動手段と、を備えたこと
を特徴とするものである。

【００１０】また、請求項４に記載の基板処理装置は、
請求項３に記載の基板処理装置において、前記駆動手段
は、前記規制部材の下部に取り付けられた回転側磁石
と、前記回転部材が回転する際の回転側磁石の軌道に応
じて環状に、かつ自転可能に配設された複数個の固定側
磁石と、前記複数個の固定側磁石を自転させる回転手段
とを備えていることを特徴とするものである。

【００１１】また、請求項５に記載の基板処理装置は、
請求項４に記載の基板処理装置において、前記回転手段
は、外周面に歯車が形成されているとともに複数個の固
定側磁石の各々が取り付けられた複数個のベース部材
と、隣接しているベース部材の歯車に咬合して回転を伝
達する複数個の伝達ギアと、複数個の伝達ギアのうちの
少なくとも一つを回転駆動するモータとをさらに備えて
いることを特徴とするものである。

【００１２】また、請求項６に記載の基板処理装置は、
請求項３に記載の基板処理装置において、前記駆動手段
は、規制部材の下部に取り付けられ、規制部材の回転軸
芯に直交する方向に延伸したレバーと、前記レバーを規
制部材の回転軸芯周りに揺動駆動するエアシリンダとを
備えていることを特徴とするものである。

【００１３】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。複数個の規制部材は回転可能であるので、一定の加
減速を回転部材に加えると、基板が回転部材に対して相
対的に回転する。したがって、規制部材が基板端縁の同
じ位置に当接し続けることがない。また、回転している
基板の下面に処理液を供給すると、回転エネルギーをも
っていない処理液が基板の下面に到達してその回転を遅
くしようとする抵抗として働く。すると、複数個の規制
部材は回転可能であるので、基板は複数個の規制部材に
対して滑り出し、基板と回転部材の回転数に差が生じて
基板が回転部材に対し相対回転を行う。したがって、同
様に規制部材が基板端縁の同じ位置に当接し続けること
がない。

【００１４】また、請求項２に記載の発明によれば、複
数個の規制部材をベアリングを介して回転部材に取り付
けることにより、各々の規制部材を回転可能に構成する
ことができる。

【００１５】また、請求項３に記載の発明によれば、複
数個の規制部材のうちの少なくとも一つが駆動手段によ
って積極的に回転されると、基板が回転を始めて回転部
材に対し相対回転を行う。したがって、規制部材が基板
端縁の同じ位置に当接し続けることがない。

【００１６】また、請求項４に記載の発明によれば、回
転手段が固定側磁石を自転させると、その上方の軌道を
移動している回転側磁石が、固定側磁石の極性に応じて
自転を始める。したがって、その自転に応じて規制部材
が回転する。

【００１７】また、請求項５に記載の発明によれば、モ
ータを駆動すると複数個の伝達ギアを介して複数個のベ
ース部材が回転し、これに応じて固定側磁石が自転す
る。

【００１８】また、請求項６に記載の発明によれば、エ
アシリンダを駆動するとレバーが揺動するので、これに
伴い規制部材が揺動する。したがって、基板が回転部材
に対してある一定の角度範囲内でのみ回転する。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。 ＜第１実施例＞図１は本実施例に係る基板処理装置の概
略構成を示した縦断面図であり、図２はその要部を拡大
した一部破断縦断面図であり、図３は概略構成を示した
平面図である。

【００２０】基板Ｗは、基板保持機構１によって支持さ
れて回転部材に相当する回転台３の上に水平姿勢で載置
される。回転台３は、その中央部に開口部３ａが形成さ
れており、これと同軸に中空の回転軸９が取り付けられ
ている。この回転軸９は、図示しない電動モータによっ
て回転駆動され、これにより回転台３ごと基板Ｗが鉛直
軸周りに水平姿勢で回転される。また、回転軸９には、
図示しない処理液供給部から供給される処理液を基板Ｗ
の下面に向けて供給するためのノズル１１が挿通されて
いる。

【００２１】基板保持機構１は、平面視で均等な角度で
３箇所に可動保持機構１３を備えている。各々の可動保
持機構１３は、回転軸芯Ｐ１周りに回転可能に構成され
ている。回動部材１５は、回転軸芯Ｐ１部分を平面視円
形状のベースとし、回転軸芯Ｐ１を挟んで反対側に各々
部材を延伸して、回動時にバランスがとれるような形状
に形成されている。それらは、図中にそれぞれ第１延伸
部１５ａと、第２延伸部１５ｂとして示してあるが、長
い方の第２延伸部１５ｂは基板Ｗの搬入・搬出時に図示
しないアームによって押されるようになっている。

【００２２】回動部材１５には、その回転軸芯Ｐ１の位
置に、基板Ｗの下面に当接して水平姿勢に保持するため
の支持部材１７が立設されている。この支持部材１７
は、基板Ｗの下面に点接触となるようにその上端部が先
細り形状に形成されている。また、支持部材１７よりも
外側の第１延伸部１５ａには、基板Ｗの端縁に当接して
水平方向への移動を規制するための規制部材１９が立設
されている。この規制部材１９は、その上部よりも短径
に形成された基部１９ａがベアリング２１を介して回動
部材１５の第１延伸部１５ａに取り付けられており、鉛
直方向の回転軸芯Ｐ２周りに回転可能に構成されてい
る。

【００２３】なお、上記の規制部材１９は、基板Ｗに形
成されているノッチよりも大径に形成されていることが
好ましい。また、その上端部には、基板Ｗの上方への飛
び出しを防止するために、回転台３の回転中心側に向け
て鍔部を延出しておくことが好ましい。

【００２４】上述した３個の可動保持機構１３は、回転
台３に内蔵されたリンク機構２３により、１個の可動保
持機構１３の動きが他の可動保持機構１３に伝わって連
動するように構成されている。このリンク機構２３は、
回動部材１５に連結されて回転軸芯Ｐ１周りに回転する
第１アーム２５と、この第１アーム２５の先端部側に一
端側が連結された第２アーム２７と、この第２アーム２
７の他端側に一端側が連結され、『く』の字状に一定の
角度を保持した状態で中央部付近の軸芯Ｐ３周りに回動
する第３アーム２９と、この第３アーム２９の他端側が
連結されたリング状のリンク部材３１と、規制部材１９
が回転台３の中心側に向けて付勢される方向に第３アー
ム２９の他端側を付勢する引張コイルバネ３３とを備え
ている。上記のリンク機構２３により、待機状態や保持
状態では、３個の規制部材１９が回転台３の中心部側に
移動して基板Ｗの外径よりも内側に入り込むようになっ
ている。

【００２５】次に、上記のように構成された基板処理装
置の動作について説明する。なお、一例として、基板Ｗ
はその上面にメッキ処理がされており、この装置にて上
面の周辺部数ｍｍ程度をエッチングして除去する処理を
施すことを目的としているものとして説明する。

【００２６】まず、基板Ｗを搬入する際には、図示しな
いアームで可動保持機構１３の第２延伸部１５ｂを回転
軸９側に向けて押す。これにより規制部材１９が基板Ｗ
の外径よりも外側に移動する。

【００２７】次に、処理対象の基板Ｗをメッキ側を上に
して搬送アームで搬入し、３個の支持部材１７にその基
板Ｗの下面が当接するように載置する。そして、アーム
による第２延伸部１５ｂの押しを解除する。これにより
基板Ｗが水平姿勢に支持されるとともに、水平方向への
移動が規制される。

【００２８】そして、回転台３を回転させて一定の速度
で基板Ｗを回転させた後、ノズル１１から処理液を供給
すると、下面を伝って下面周辺部に向かった処理液が基
板Ｗの上面に這い上がって上面の周辺部を処理する。こ
のとき固定系であるノズル１１からの処理液が、回転し
ている基板Ｗの下面に触れることにより抵抗となり、回
転可能に構成されている規制部材１９により端縁を当接
支持されている基板Ｗは回転台３に対して遅れて回転す
ることになる。つまり、基板Ｗと回転台３の回転数に差
が生じて基板Ｗが回転台３に対して相対回転を行う。し
たがって、規制部材１９が基板Ｗの端縁の同じ位置に当
接し続けることがないので、支持に起因する処理ムラを
防止することができる。

【００２９】なお、上記のように処理液を供給すること
により相対回転をさせるのではなく、回転台３の回転に
一定の加速度を与えることにより相対回転を生じさせる
ことも可能である。

【００３０】上記のようにして処理液を一定時間供給し
た後、基板の回転数がある程度追従可能な程度で徐々に
回転数を上げて処理液を振り切り、回転を停止してから
上記の手順とは逆の手順で処理済の基板Ｗを搬出する。

【００３１】なお、処理液の振り切り時には基板Ｗの相
対回転を生じさせないように、支持部材１７の回転をロ
ックする機構を設けるようにしてもよい。

【００３２】＜第２実施例＞図４は本実施例に係る基板
処理装置の要部を示した縦断面図であり、図５は回転駆
動に係る機構を示した平面図である。なお、上述した実
施例と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説
明を省略する。

【００３３】この実施例における可動保持機構１３は、
磁力により積極的に基板を回転駆動するように構成され
ている。規制部材１９Ａは、円柱状の胴部１９Ａ₁ と、
この上部に基板Ｗの端縁を保持可能な形状に形成された
切れ込み部１９Ａ₂ と、回転台３を貫通して下方に突出
した軸部１９Ａ₃ とから構成されている。

【００３４】固定部材１５Ａには、軸部１９Ａ₃ を回転
可能に支持するベアリング１５Ａ₁が埋設されている。
さらに、このベアリング１５Ａ₁ から下方に突出した軸
部１９Ａ₃ は、回転台３の下面に配設されたベアリング
３５によって回転可能に支持されている。また、軸部１
９Ａ₃ の下端部には、磁石３７を埋設された保持体３９
が取り付けられている。このような構成により、保持体
３９が回転すると規制部材１９Ａも連動して回転するよ
うになっている。

【００３５】回転台３の下方に位置する固定基台４１に
は、モータ４３が回転軸を上向きにして取り付けられて
おり、その先端部に取り付けられた第１ギア４５を回転
軸芯Ｐ４周りに回転する。この第１ギア４５は、第２ギ
ア４７を介して第３ギア４９に咬合している。第３ギア
４９は、回転軸芯Ｐ５周りに回転可能な軸５１の下部に
連動連結されており、その上部には磁石５３が取り付け
られている。磁石５３は、図５に示すように回転台３の
磁石３７が回転時に描く軌道に沿って複数個配設されて
いる。全ての磁石５３は、固定基台４１の中心側に同じ
極が向くように取り付けられている。

【００３６】なお、上述した磁石３７が本発明における
回転側磁石に相当し、磁石５３が固定側磁石に相当し、
モータ４３が回転手段に相当するとともに、これらが駆
動手段に相当する。また、複数個の第３ギア４９が本発
明における複数個のベース部材に相当し、複数個の第２
ギア４７が複数個の伝達ギアに相当する。

【００３７】上記のように構成されている装置では、上
記第１実施例と同様にして基板Ｗを搬入し、基板Ｗの端
縁を切れ込み部１９Ａ₂ に位置させて可動保持機構１３
に保持させる。

【００３８】その後、処理用の回転数で回転台３を回転
させ、処理液をノズル１１から基板Ｗに供給するととも
にモータ４３を一定の速度で回転させる。すると、第１
ギア４５がこれに咬合した第２ギア４７だけを回転させ
る。第２ギア４７の回転は、これに咬合している二つの
第３ギア４９に伝達され、互いに逆方向に二つの磁石５
３が回転される。そして、そのうちの、図５中で上側の
第３ギア４９の回転が第２ギア４７を介して残りの第３
ギア４９に伝わって円形に配置された全ての磁石５３が
回転駆動される。

【００３９】一方、回転台３は固定側基台４１に対して
処理用の速度で回転しているので、各規制部材１９Ａの
磁石３７が回転中に近接している磁石５３の極性に応じ
て反発あるいは吸引し、これに応じて各規制部材１９Ａ
が一定の方向に回転を続ける。これにより基板Ｗが回転
台３に対して回転し、支持に起因する処理ムラを防止す
ることができる。

【００４０】なお、上述した第２実施例は、以下のよう
に変形実施が可能である。

【００４１】図６に示すように規制部材１９Ａの軸部１
９Ａ₃ には、従動ギア５５が取り付けられており、この
従動ギア５５には主動ギア５７が咬合している。回転台
３に下向きに配設されたモータ５９の回転軸には、上記
の主動ギア５７が取り付けられており、このモータ５９
を駆動することで規制部材１９Ａが回転するようになっ
ている。

【００４２】モータ５９には、次のようにして給電され
る。固定側基台４１の回転中心側には、固定側内コイル
６１と、固定側外コイル６３とが回転軸９を囲うように
同心円状に埋設されている。これらのコイル６１，６３
には、交流電源供給部６５から電力が給電されている。
また、固定側内コイル６１及び固定側外コイル６３に対
向する回転台３の下面には、回転側内コイル６７と回転
側外コイル６９が配設されており、これらからモータ５
９に給電されている。

【００４３】このような構成を採用しても、３個の規制
部材１９Ａを上述した第２実施例と同様に回転させるこ
とができ、基板Ｗを回転台３に対して相対的に回転させ
ることができる。

【００４４】また、図７に示すように従動ギア５５に
は、鉛直軸周りに回転自在の軸の両端にギアを有する第
１伝達ギア７１を介して同様の第２伝達ギア７３の回転
が伝わるようになっている。第２伝達ギア７３の下側の
ギアは、固定基台４１における回転軸９の周囲に配設さ
れた環状の固定ギア７５に咬合している。したがって、
回転台３が回転軸９とともに回転すると第２伝達ギア７
３が回転し、これにより第１伝達ギア７１及び従動ギア
５５が回転して規制部材１９Ａが回転するようになって
いる。

【００４５】この変形例の場合には、特に電源を用いる
ことなく規制部材１９Ａを回転させることができる点が
特徴的となっている。

【００４６】＜第３実施例＞この実施例は上述した各実
施例やその変形例とは異なり、規制部材１９，１９Ａを
回転させるのではなく揺動させる点において相違するも
のである。

【００４７】なお、図８は本実施例に係る基板処理装置
の概略構成を示した縦断面図であり、図９はその要部を
示した縦断面図である。

【００４８】規制部材１９Ａの軸部１９Ａ₃ には、その
軸方向に直交するようにレバー７７が取り付けられてい
る。このレバー７７の先端部側には長穴７７ａが形成さ
れており、この長穴７７ａにはエアシリンダ７９の伸縮
する作動軸７９ａが連結されている。

【００４９】エアシリンダ７９を駆動するための気体で
あるエアは、回転台３の中心部に向けて削設された横穴
８１と、回転軸９の上部側面に形成された開口穴８３
と、回転軸９に形成されて開口穴８３に連通した縦穴８
５と、この縦穴８５の下部で回転軸９の外周面に開口し
た供給口８７とを通じて供給される。

【００５０】固定基台４１における供給口８７の周囲に
は、回転軸９の外周面を取り囲むような形状を呈した環
状供給部８９が配設されている。この環状供給部８９
は、二つの軸シールを上下に合わせてなる供給リング９
１で回転軸９の外周面に接触している。この供給リング
９１は回転軸９に接する部分が弾性を有し、回転軸９の
軸ブレがあっても供給口８７に漏れなくエアを供給でき
るようになっている。

【００５１】なお、上述したエアシリンダ７９が本発明
における駆動手段に相当する。

【００５２】エアシリンダ４５を作動させると、作動軸
が伸長してレバー７７が揺動し、規制部材１９Ａがある
方向に回転する。一方、エアシリンダ４５を非作動にす
ると、作動軸が収縮してレバー７７が逆方向に揺動し、
規制部材１９Ａが逆方向に回転する。つまり、規制部材
１９Ａが揺動し、基板Ｗが回転し続けるのではなく、あ
る一定角度回転した後に逆方向に回転する。

【００５３】本実施例のような構成であっても上述した
実施例等と同様の効果を得ることができるが、本実施例
ではさらに基板Ｗのノッチが規制部材１９，１９Ａには
まり込むことによる基板への衝撃や基板の相対的な回転
の停止などの不都合を防止できる。

【００５４】なお、本発明は、上述した実施例および変
形例に限定されるものではなく、以下のように変形実施
が可能である。

【００５５】（１）規制部材１９，１９Ａは、３箇所の
うちの一つを駆動すれば上述した効果を得ることができ
るので、全ての規制部材１９，１９Ａを回転あるいは揺
動する必要はない。

【００５６】（２）実施例装置では、規制部材１９，１
９Ａを３個備えた例を説明したが、本発明はこの個数に
限定されるものではない。

【００５７】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、複数個の規制部材が回転可能
に構成されているので、一定の加減速や処理液の供給に
より基板は複数個の規制部材に対して滑り出し、基板と
回転部材の回転数に差が生じて基板が回転部材に対し相
対回転を行う。したがって、規制部材が基板端縁の同じ
位置に当接し続けることがなく、基板の支持に起因する
処理ムラを防止して、均一な処理を施すことができる。

【００５８】また、請求項２に記載の発明によれば、複
数個の規制部材をベアリングを介して回転部材に取り付
けることにより、各々の規制部材を回転可能に構成する
ことができるので、比較的簡易な構成で本発明を実現で
きる。

【００５９】また、請求項３に記載の発明によれば、複
数個の規制部材のうちの少なくとも一つが駆動手段によ
って積極的に回転されると、基板が回転部材に対し相対
回転を行う。したがって、規制部材が基板端縁の同じ位
置に当接し続けることがないので、基板の支持に起因す
る処理ムラを防止して、均一な処理を施すことができ
る。

【００６０】また、請求項４に記載の発明によれば、回
転側磁石が固定側磁石の極性に応じて自転を始め、その
自転に応じて規制部材が回転するので、基板を回転部材
に対して回転させることができる。

【００６１】また、請求項５に記載の発明によれば、複
数個の伝達ギアを介して複数個のベース部材を回転さ
せ、これに応じて固定側磁石を自転させることで、回転
部材上の基板を相対回転させることが可能である。

【００６２】また、請求項６に記載の発明によれば、エ
アシリンダの駆動によりレバーが揺動して規制部材が揺
動するので、基板を回転部材に対してある一定の角度範
囲内でのみ回転させることができる。したがって、基板
に形成されているノッチなどが規制部材に入り込むこと
及び、これに起因して生じる不都合を防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例に係る基板処理装置の概略構成を示
した縦断面図である。

【図２】第１実施例に係る基板処理装置の要部を拡大し
て示した一部破断縦断面図である。

【図３】第１実施例に係る基板処理装置の概略構成を示
した平面図である。

【図４】第２実施例に係る基板処理装置の要部を示した
縦断面図である。

【図５】回転駆動に係る機構を示した平面図である。

【図６】第２実施例の変形例を示した縦断面図である。

【図７】第２実施例のもう一つの変形例を示した縦断面
図である。

【図８】第３実施例に係る基板処理装置の概略構成を示
した縦断面図である。

【図９】第３実施例に係る基板処理装置の要部を示した
縦断面図である。

【符号の説明】

１ … 基板保持機構 ３ … 回転台 ９ … 回転軸 １３ … 可動保持機構 １５ … 回動部材 １７ … 支持部材 １９，１９Ａ … 規制部材 ２１ … ベアリング ２３ … リンク機構 ３１ … リンク部材

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 梶野 一樹 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 高村 幸宏 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 増市 幹雄 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 4D075 AC64 AC79 DA08 DB13 DC22 4F042 AA07 EB08 EB11 EB12 5F031 CA01 HA24 HA27 HA30 HA48 HA59 LA07 LA11 LA14 LA15 MA24

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を回転させつつ基板の下面から処理
   液を供給して基板に所定の処理を施す基板処理装置にお
   いて、 基板の下面側に配置され、かつ基板の下面と対向する対
   向面を有し、回転可能な回転部材と、 前記回転部材に回転可能に設けられ、基板の端縁に当接
   して基板の移動を規制する複数個の規制部材と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記複数個の規制部材は、前記回転部材に対して鉛直軸
   周りに回転可能なようにベアリングを介して前記回転部
   材に取り付けられていることを特徴とする基板処理装
   置。
3. 【請求項３】 基板を回転させつつ基板の下面から処理
   液を供給して基板に所定の処理を施す基板処理装置にお
   いて、 基板の下面側に配置され、かつ基板の下面と対向する対
   向面を有し、回転可能な回転部材と、 前記回転部材に回転可能に設けられ、基板の端縁に当接
   して基板の移動を規制する複数個の規制部材と、 前記複数個の規制部材のうち少なくとも１つを回転駆動
   させる駆動手段と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の基板処理装置におい
   て、 前記駆動手段は、規制部材の下部に取り付けられた回転
   側磁石と、前記回転部材が回転する際の回転側磁石の軌
   道に応じて環状に、かつ自転可能に配設された複数個の
   固定側磁石と、前記複数個の固定側磁石を自転させる回
   転手段とを備えていることを特徴とする基板処理装置。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の基板処理装置におい
   て、 前記回転手段は、外周面に歯車が形成されているととも
   に複数個の固定側磁石の各々が取り付けられた複数個の
   ベース部材と、 隣接しているベース部材の歯車に咬合して回転を伝達す
   る複数個の伝達ギアと、 複数個の伝達ギアのうちの少なくとも一つを回転駆動す
   るモータとをさらに備えていることを特徴とする基板処
   理装置。
6. 【請求項６】 請求項３に記載の基板処理装置におい
   て、 前記駆動手段は、規制部材の下部に取り付けられ、規制
   部材の回転軸芯に直交する方向に延伸したレバーと、前
   記レバーを規制部材の回転軸芯周りに揺動駆動するエア
   シリンダとを備えていることを特徴とする基板処理装
   置。