JP4568084B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Description
図1は本発明に係る半導体記憶装置の一実施形態の概略構成を示すブロック図である。図1の半導体記憶装置は、DRAMセル1が縦横に配列されたDRAMセルアレイ2と、各DRAMセル1のゲートに接続されるワード線WL0〜WL3と、各DRAMセル1のドレインに接続されるビット線BLと、複数のビット線電位の中から一つを選択するビット線選択回路3(BS BLOCK)と、ビット線選択回路3で選択されたビット線電位が所定電位以下になるように電位制限を行うビット線クランプ回路(BL LIMITER)4と、複数のビット線BLを挟んで所定間隔ごとに配置されるデータ"0"用の第1ダミービット線DBL0と、複数のビット線BLを挟んで所定間隔ごとに配置されるデータ"1"用の第2ダミービット線DBL1と、第1ダミービット線DBL0に接続されてデータ"0"用の基準電流を生成する第1ダミーセル5と、第2ダミービット線DBL1に接続されてデータ"1"用の基準電流を生成する第2ダミーセル6と、対応する第1ダミービット線DBL0の電位が所定電位以下になるように電位制限を行う第1ダミービット線クランプ回路7と、対応する第2ダミービット線DBL1の電位が所定電位以下になるように電位制限を行う第2ダミービット線クランプ回路8と、対応する第1および第2ダミービット線クランプ回路7,8の出力電流に基づいて基準電位を生成する基準電位生成回路9と、選択されたメモリセルの出力電流と基準電流との電流差に基づいて、選択されたメモリセルが保持しているデータの論理を検出するセンスアンプ10と、第1ダミービット線クランプ回路7の出力端子と、対応する第2ダミービット線クランプ回路8の出力端子と、対応する基準電位生成回路9の入力端子とを共通に接続する共通接続線11と、対応する第1ダミーセル5にデータを書き込む制御を行う第1トランジスタ12と、対応する第2ダミーセル6にデータを書き込む制御を行う第2トランジスタ13と、を備えている。
図9は本発明に係る半導体記憶装置の第2の実施形態の概略構成を示すブロック図である。図9では、図1と共通する構成部分には同一符号を付しており、以下では相違点を中心に説明する。
図11は本発明に係る半導体記憶装置の第3の実施形態の概略構成を示すブロック図である。図11では、図1と共通する構成部分には同一符号を付しており、以下では相違点を中心に説明する。
データ"0"用の第1ダミーセル5とデータ"1"用の第2ダミーセル6とを、間にDRAMセル1を挟んで離れて配置するものである。
第5の実施形態は、第4の実施形態の変形例であり、第4の実施形態よりもダミーセルの数を削減するものである。
第6の実施形態は、ダミーセルに欠陥がある場合に、そのダミーセルが接続されているダミービット線をスペアのビット線に置き換えるものである。
第7の実施形態は、不良の第1ダミーセル5または第2ダミーセル6への書き込みを禁止できるようにしたものである。
第8の実施形態は、第7の実施形態の変形例である。
2 DRAMセルアレイ
3 ビット線選択回路
4 ビット線クランプ回路
5 第1ダミーセル
6 第2ダミーセル
7 第1ダミービット線クランプ回路
8 第2ダミービット線クランプ回路
9 基準電位生成回路
10 センスアンプ
11 共通接続線
12 第1トランジスタ
13 第2トランジスタ
31 オペアンプ
32 トランジスタ
33,34 PMOSトランジスタ
41 第1センス回路
42 第2センス回路
43,44 PMOSトランジスタ
45 オペアンプ
46 ラッチ回路
47 カラムゲート
48 データ線
49 リフレッシュ回路
51,52 差動増幅器
54 ダミービット線クランプ回路
Claims (6)
- データを保持する複数のメモリセルを有するメモリセルアレイと、
前記メモリセルに接続される複数のビット線と、
少なくとも1本の前記ビット線を挟んで所定間隔ごとに配置されるデータ"0"用の第1ダミービット線と、
少なくとも1本の前記ビット線を挟んで所定間隔ごとに配置されるデータ"1"用の第2ダミービット線と、
対応する前記第1ダミービット線に接続され、データ"0"用の基準電流を生成する第1ダミーセルと、
対応する前記第2ダミービット線に接続され、データ"1"用の基準電流を生成する第2ダミーセルと、
対応する前記第1ダミービット線の電位が所定電位以下になるように電位制限を行う第1ダミービット線クランプ回路と、
対応する前記第2ダミービット線の電位が所定電位以下になるように電位制限を行う第2ダミービット線クランプ回路と、
対応する前記第1および第2ダミービット線クランプ回路の出力電流に基づいて基準電位を生成する基準電位生成回路と、
選択されたメモリセルの出力電流と前記基準電流との電流差に基づいて、前記選択されたメモリセルが記憶しているデータの論理を検出するセンスアンプと、
前記第1ダミービット線クランプ回路の出力端子と、対応する前記第2ダミービット線クランプ回路の出力端子と、対応する前記基準電位生成回路の入力端子とを共通に接続する共通接続線と、を備えることを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記センスアンプは、
選択されたメモリセルの出力電流と前記基準電流との電流差に基づいてデータ電位を生成する第1センス回路と、
前記第1センス回路から出力されるデータ電位と前記基準電位とに基づいて、前記選択されたメモリセルが記憶しているデータの論理を検出する第2センス回路と、を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。 - 前記共通接続線は、複数の前記第1ダミービット線クランプ回路の出力端子と、複数の前記第2ダミービット線クランプ回路の出力端子と、複数の前記第1基準電位生成回路の入力端子と、複数の前記第2基準電位生成回路の入力端子とを共通に接続することを特徴とする請求項1または2に記載の半導体記憶装置。
- 不良の前記第1ダミーセルを、前記第1ダミービット線を単位として置換可能な第1スペアセルおよび第1スペアビット線と、
不良の前記第2ダミーセルを、前記第2ダミービット線を単位として置換可能な第2スペアセルおよび第2スペアビット線と、
前記第1スペアビット線を前記第1ダミービット線クランプ回路に接続するか否かを制御する第5トランジスタと、
前記第2スペアビット線を前記第2ダミービット線クランプ回路に接続するか否かを制御する第6トランジスタと、を備えることを特徴とする請求項1及至3のいずれかに記載の半導体記憶装置。 - データを記憶する複数のメモリセルを有するメモリセルアレイと、
前記メモリセルに接続される複数のビット線と、
少なくとも1本のビット線を挟んで所定間隔ごとに配置されるダミービット線と、
対応する前記ダミービット線に接続され、データ"0"用の基準電流を生成する第1ダミーセルと、
対応する前記ダミービット線に接続され、データ"1"用の基準電流を生成する第2ダミーセルと、
対応する前記ダミービット線の電位が所定電位以下になるように電位制限を行うクランプ回路と、
対応する前記クランプ回路の出力電流に基づいて基準電位を生成する基準電位生成回路と、
前記基準電流および前記基準電位に基づいて、選択されたメモリセルが記憶しているデータの論理を検出するセンスアンプと、
前記クランプ回路の出力端子と対応する前記基準電位生成回路の入力端子とを共通に接続する共通接続線と、を備えることを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記メモリセルアレイは、FBC(Floating Body Cell)であることを特徴とする請求項1及至5のいずれかに記載の半導体記憶装置。
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