JP4565829B2 - パターン形成体用塗工液 - Google Patents
パターン形成体用塗工液 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4565829B2 JP4565829B2 JP2003392716A JP2003392716A JP4565829B2 JP 4565829 B2 JP4565829 B2 JP 4565829B2 JP 2003392716 A JP2003392716 A JP 2003392716A JP 2003392716 A JP2003392716 A JP 2003392716A JP 4565829 B2 JP4565829 B2 JP 4565829B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- coating liquid
- pattern forming
- forming body
- characteristic change
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
このような発明に用いられる特性変化パターン形成用塗工液は、通常スピンコート法により塗布されるものであり、製造効率等の面から、速乾性を有するものであった。そのため、この特性変化パターン形成用塗工液を、例えばダイコート法やビードコート法等によって塗布した場合には、ヘッドの先端が乾いて詰まったり、その乾いた部分が剥がれて塗膜上に落下し、均一な塗膜が形成できない等の問題があった。
基材上に、上記パターン形成体用塗工液を塗布する塗工液塗布工程と、
上記塗工液塗布工程により塗布されたパターン形成体用塗工液を乾燥させて特性変化層を形成する乾燥工程と、
上記特性変化層にエネルギーを照射して、上記特性変化層の特性が変化した特性変化パターンを形成する特性変化パターン形成工程と
を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。
以下、それぞれについて説明する。
まず、本発明のパターン形成体用塗工液について説明する。本発明のパターン形成体用塗工液は、光触媒、乾燥抑制剤、および特性付与剤を含有するものである。
以下、本発明のパターン形成体用塗工液の各構成ごとに詳しく説明する。
まず、本発明のパターン形成体用塗工液に用いられる乾燥抑制剤について説明する。本発明のパターン形成体用塗工液に用いられる乾燥抑制剤としては、例えばパターン形成体用塗工液中に含有される溶剤の揮発等を抑えて、パターン形成体用塗工液の乾燥速度を調整するものであれば、特に限定されるものではない。
次に、本発明に用いられる光触媒について説明する。本発明に用いられる光触媒は、エネルギー照射されることにより励起されて、後述する特性付与剤を分解または変性等させることが可能なものであれば、特に限定されるものではない。後述するような二酸化チタンに代表される光触媒の作用機構は、必ずしも明確なものではないが、光の照射によって生成したキャリアが、近傍の化合物との直接反応、あるいは、酸素、水の存在下で生じた活性酸素種によって、有機物の化学構造に変化を及ぼすものと考えられている。本発明においては、このキャリアが後述する特性付与剤に作用を及ぼすものであると考えられる。
光触媒の粒径は小さいほど光触媒反応が効果的に起こるので好ましく、平均粒径が50nm以下であることが好ましく、20nm以下の光触媒を使用するのが特に好ましい。
次に、本発明のパターン形成体用塗工液に用いられる特性付与剤について説明する。本発明のパターン形成体用塗工液に用いられる特性付与剤とは、パターン形成体用塗工液が塗布されて層が形成された際に、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により、例えば分解または変性等されて、層表面の特性を変化させるものであり、このように特性を変化させることが可能なものであれば、特にその種類等は限定されるものではない。例えば、撥液性の官能基を有する材料であり、エネルギー照射に伴う光触媒の作用によって表面の官能基が分解や置換等されることによって、表面の濡れ性が変化するものであってもよく、また感光性保護基で保護された官能基を有する分子であり、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により脱保護されて細胞との接着性が変化するもの等であってもよい。
YnSiX(4−n)
(ここで、Yはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基、クロロアルキル基、イソシアネート基、もしくはエポキシ基、またはこれらを含む有機基であり、Xはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示す。nは0〜3までの整数である。)
で示される珪素化合物の1種または2種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであることが好ましい。なお、ここでXで示されるアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。また、Yで示される有機基全体の炭素数は1〜20の範囲内、中でも5〜10の範囲内であることが好ましい。
なお、ここでいう機能性部形成用塗工液との接触角は、パターン形成体用塗工液が塗布された層と機能性部形成用塗工液、もしくは同等の表面張力を有する検査液等との接触角を接触角測定器(協和界面科学(株)製CA−Z型)を用いて測定(マイクロシリンジから液滴を滴下して30秒後)し、その結果から、もしくはその結果をグラフにして得たものである。
次に、本発明のパターン形成体用塗工液について説明する。本発明のパターン形成体用塗工液は、上述した乾燥抑制剤、光触媒、および特性付与剤を含有したものであれば、特に限定されるものではなく、必要に応じて適宜添加剤や溶剤等を含有するものであってもよい。
次に、本発明のパターン形成体の製造方法について説明する。本発明のパターン形成体の製造方法は、光触媒と、乾燥抑制剤と、特性付与剤とを混合してパターン形成体用塗工液を調製する塗工液調製工程と、
基材上に、上記パターン形成体用塗工液を塗布する塗工液塗布工程と、
上記塗工液塗布工程により塗布されたパターン形成体用塗工液を乾燥させて特性変化層を形成する乾燥工程と、
上記特性変化層にエネルギーを照射して、上記特性変化層の特性が変化した特性変化パターンを形成する特性変化パターン形成工程と
を有するものである。
まず、本発明のパターン形成体の製造方法における塗工液調製工程について説明する。本発明における塗工液調製工程は、光触媒と、乾燥抑制剤と、特性付与剤とを混合してパターン形成体用塗工液を調製する工程であり、これらを安定に混合して調製することが可能であれば、その方法等は特に限定されるものではない。また、上記の材料以外に、必要に応じて適宜他の添加剤や溶剤等が添加されて調製されるものとすることができる。
次に、本発明のパターン形成体の製造方法における塗工液塗布工程について説明する。本工程は、上記塗工液調整工程により調整されたパターン形成体用塗工液を、基材上に塗布する工程である。
次に、本発明のパターン形成体の製造方法における乾燥工程について説明する。本発明における乾燥工程は、上述した塗工液塗布工程により塗布されたパターン形成体用塗工液を乾燥させて特性変化層を形成する工程である。
次に、本発明のパターン形成体の製造方法における特性変化パターン形成工程について説明する。本発明のパターン形成体の製造方法における特性変化パターン形成工程は、上記特性変化層上にパターン状にエネルギーを照射することにより、上記特性変化層上に特性の変化した特性変化パターンを形成する工程である。
この際、特性変化層を加熱しながらエネルギー照射することにより、より感度を上昇させることが可能となり、効率的な特性の変化を行うことができる点で好ましい。具体的には30℃〜80℃の範囲内で加熱することが好ましい。
本発明においては、上記各工程の他に必要に応じて、適宜他の工程を有するものであってもよく、例えば基材上に遮光部やプライマー層等を形成する工程を有するものであってもよい。
次に、本発明の機能性素子の製造方法について説明する。本発明の機能性素子の製造方法は、上記パターン形成体の製造方法で形成されたパターン形成体の特性変化パターン上に機能性部を形成する機能性部形成工程を有するものである。
本発明のカラーフィルタの製造方法について説明する。本発明のカラーフィルタの製造方法は、上記機能性素子の製造方法の機能性部形成工程が、画素部を形成する工程であるものである。
なお、本発明におけるカラーフィルタの製造方法に用いられる各部材の材料や形成方法等については、一般的なカラーフィルタにおけるものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
次に、本発明の導電性パターンの製造方法について説明する。本発明の導電性パターンの製造方法は、上記機能性素子の製造方法の機能性部形成工程が、金属配線を形成する工程であるものである。
ここで、本発明の導電性パターンの製造方法に用いられる各部材の材料や形成方法等については、一般的な導電性パターンにおけるものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
次に、本発明の有機EL素子の製造方法について説明する。本発明の有機EL素子の製造方法は、上述した機能性素子の製造方法における機能性部形成工程が有機EL層を形成する工程であることを特徴とするものである。
なお、本発明の有機EL素子の製造方法に用いられる各部材の材料や形成方法等については、一般的な有機EL素子におけるものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
次に、本発明におけるバイオチップ用基材の製造方法について説明する。本発明のバイオチップ用基材の製造方法は、上述した機能性素子の製造方法における機能性部形成工程が、生体物質と付着性を有する機能性部を形成することを特徴とするものである。本発明の機能性部形成工程は、例えば上述した特性変化パターン上に生体物質と付着性を有する材料を付着等させる工程等とすることができる。これにより、パターン状に生体物質と付着性を有するバイオチップ用基材とすることができるのである。
なお、本発明におけるバイオチップ用基材の製造方法に用いられる各部材の材料や形成方法等については、一般的なバイオチップ用基板におけるものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
フルオロアルキルシラン(TSL8233 GE東芝シリコーン製)1.5g、テトラメトキシシラン(TSL8114 GE東芝シリコーン製)5.0g、および0.1N塩酸3gを24時間常温にて攪拌して撥液性付与剤を作製した。
次に、チタニアゾル(STS−01 石原産業製)を水とイソプロパノールとの混合液(重量比1:1)にてTiO2濃度が0.5wt%となるように希釈した。この希釈液30gに乾燥抑制剤としてジエチレングリコールモノメチルエーテル(20℃の蒸気圧0.18mmHg)を15g、および銀コロイド水分散液(平均粒径が20nm 銀固形分0.3wt%)を5g添加し、10分間攪拌した。
この液に撥液性付与剤を0.3g添加して、10分間攪拌しパターン形成体用塗工液とした。
パターン形成体用塗工液をガラス基板上にダイコーターにて連続して100枚塗布したところ、ヘッド流路での詰まりなく、塗布可能であった。
その後、200℃で乾燥し、厚さ0.15μmの均一な特性変化層が形成できた。
この特性変化層の水との接触角を測定したところ、97°であった。次に、超高圧水銀ランプ(365nm 30mW/cm2)を用いて露光すると20秒で水の接触角が10°以下になった。
実施例1と同様に撥液性付与剤を作製した。
次に、チタニアゾル(STS−01 石原産業製)を水とイソプロパノールとの混合液(重量比1:1)にてTiO2濃度が0.5wt%となるように希釈した。
この希釈液30gに銀コロイド水分散液(平均粒径が20nm 銀固形分0.3wt%)を5g、イソプロパノール(20℃の蒸気圧32mmHg)15gを添加し、10分間攪拌した。
この液に撥液性付与剤を0.3g添加して、10分間攪拌しパターン形成体用塗工液とした。
実施例1と同様にガラス基板上に特性変化層を形成したところ、10枚目以降の基板において、流路に詰まりが発生しムラのある不均一な膜が形成された。また、この特性変化層上には多数の析出物が観察された。
実施例1と同様に撥液性付与剤を作製した。
次に、チタニアゾル(STS−01 石原産業製)を水とイソプロパノールとの混合液(重量比1:1)にてTiO2濃度が0.5wt%となるように希釈した。この希釈液10gに乾燥抑制剤としてジエチレングリコールモノメチルエーテル(20℃の蒸気圧0.18mmHg)を35g、および銀コロイド水分散液(平均粒径が20nm 銀固形分0.3wt%)を5g添加し、10分間攪拌した。
この液に撥液性付与剤を0.3g添加して、10分間攪拌しパターン形成体用塗工液とした。
実施例1同様にガラス基板上に特性変化層を形成したところ、均一な膜が作製できた。 この特性変化層の水との接触角を測定したところ、80°であった。次に、超高圧水銀ランプ(365nm 30mW/cm2)を用いて露光すると20秒では水との接触角が65°であり、30秒で水との接触角が10°以下になった。
実施例1と同様に撥液性付与剤を作製した。
次に、チタニアゾル(STS−01 石原産業製)を水とイソプロパノールとの混合液(重量比1:1)にてTiO2濃度が0.5wt%となるように希釈した。この希釈液30gに乾燥抑制剤としてノルマルブタノール(20℃の蒸気圧4.39mmHg)を15g、および銀コロイド水分散液(平均粒径が20nm 銀固形分0.3wt%)を5g添加し、10分間攪拌した。
この液に撥液性付与剤を0.3g添加して、10分間攪拌しパターン形成体用塗工液とした。
実施例1同様にガラス基板上に特性変化層を形成したところ、均一な膜が作製できた。
この特性変化層の水との接触角を測定したところ、79°であった。次に、超高圧水銀ランプ(365nm 30mW/cm2)を用いて露光すると20秒では水との接触角が63°であり、29秒で水との接触角が10°以下になった。
2…特性変化層
3…特性変化パターン
Claims (13)
- 光触媒、乾燥抑制剤、および特性付与剤を含有し、前記乾燥抑制剤が、20℃における蒸気圧が10mmHg以下であり、かつ分子構造内にエーテル結合および第2級アルコールの少なくとも一方を有する溶剤であることを特徴とするパターン形成体用塗工液。
- 金属微粒子を含有することを特徴とする請求項1に記載のパターン形成体用塗工液。
- 前記パターン形成体用塗工液中における前記溶剤の含有量が1重量%〜60重量%の範囲内であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のパターン形成体用塗工液。
- 前記溶剤が、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、およびプロピレングリコールモノブチルエーテルから選択される1種または2種以上の物質であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体用塗工液。
- 前記特性付与剤が、オルガノポリシロキサンであることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体用塗工液。
- 前記オルガノポリシロキサンが、YnSiX(4−n)(ここで、Yはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基、クロロアルキル基、イソシアネート基、もしくはエポキシ基、またはこれらを含む有機基であり、Xはアルコキシル基またはハロゲンを示す。nは0〜3までの整数である。)で示される珪素化合物の1種または2種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであることを特徴とする請求項5に記載のパターン形成体用塗工液。
- 前記特性付与剤が、撥液性を有し、かつエネルギー照射に伴う光触媒の作用により分解または変性される撥液性付与剤であることを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれかの請求項に記載のパターン形成体用塗工液。
- 光触媒と、乾燥抑制剤と、特性付与剤とを混合してパターン形成体用塗工液を調製する塗工液調製工程と、
基材上に、前記パターン形成体用塗工液を塗布する塗工液塗布工程と、
前記塗工液塗布工程により塗布されたパターン形成体用塗工液を乾燥させて特性変化層を形成する乾燥工程と、
前記特性変化層にエネルギーを照射して、前記特性変化層の特性が変化した特性変化パターンを形成する特性変化パターン形成工程と
を有し、
前記乾燥抑制剤が、20℃における蒸気圧が10mmHg以下であり、かつ分子構造内にエーテル結合および第2級アルコールの少なくとも一方を有する溶剤であることを特徴とするパターン形成体の製造方法。 - 請求項8に記載のパターン形成体の製造方法により製造されたパターン形成体の、前記特性変化パターン上に機能性部を形成する機能性部形成工程を有することを特徴とする機能性素子の製造方法。
- 請求項9に記載の機能性素子の製造方法の機能性部形成工程が、画素部を形成する工程であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
- 請求項9に記載の機能性素子の製造方法の機能性部形成工程が、金属配線を形成する工程であることを特徴とする導電性パターンの製造方法。
- 請求項9に記載の機能性素子の製造方法の機能性部形成工程が、有機エレクトロルミネッセント層を形成する工程であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセント素子の製造方法。
- 請求項9に記載の機能性素子の製造方法の機能性部形成工程が、生体物質と付着性を有する機能性部を形成する工程であることを特徴とするバイオチップ用基材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003392716A JP4565829B2 (ja) | 2003-11-21 | 2003-11-21 | パターン形成体用塗工液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003392716A JP4565829B2 (ja) | 2003-11-21 | 2003-11-21 | パターン形成体用塗工液 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005156739A JP2005156739A (ja) | 2005-06-16 |
JP4565829B2 true JP4565829B2 (ja) | 2010-10-20 |
Family
ID=34719329
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003392716A Expired - Fee Related JP4565829B2 (ja) | 2003-11-21 | 2003-11-21 | パターン形成体用塗工液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4565829B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4556692B2 (ja) * | 2005-02-07 | 2010-10-06 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置の製造方法、および液滴吐出装置 |
US11147902B2 (en) | 2005-07-20 | 2021-10-19 | Surmodics, Inc. | Polymeric coatings and methods for cell attachment |
JP2007072196A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Toppan Printing Co Ltd | 着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルタ |
WO2010092688A1 (ja) | 2009-02-16 | 2010-08-19 | 富士電機ホールディングス株式会社 | 色変換フィルタの製造方法 |
JP6414203B2 (ja) * | 2014-03-14 | 2018-10-31 | Jsr株式会社 | 配線の製造方法、電子回路の製造方法および電子デバイスの製造方法 |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000137320A (ja) * | 1998-08-26 | 2000-05-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
JP2001105756A (ja) * | 1999-10-07 | 2001-04-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷用刷版 |
JP2001105761A (ja) * | 1999-10-14 | 2001-04-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷用ネガ型印刷原板、及び平版印刷用ネガ型印刷版の作製方法 |
JP2001109091A (ja) * | 1999-10-04 | 2001-04-20 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成体、パターン形成方法およびそれを用いた機能性素子、カラーフィルタ、マイクロレンズ |
JP2001130156A (ja) * | 1999-11-09 | 2001-05-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版及びそれを用いたオフセット印刷方法 |
JP2001270024A (ja) * | 2000-03-22 | 2001-10-02 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成体 |
JP2002267833A (ja) * | 2001-03-14 | 2002-09-18 | Toray Ind Inc | 液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 |
JP2003055566A (ja) * | 2001-08-23 | 2003-02-26 | Mitsubishi Chemicals Corp | 硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および液晶表示装置 |
JP2003138223A (ja) * | 2001-08-21 | 2003-05-14 | Mitsubishi Chemicals Corp | 硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および液晶表示装置 |
JP2003213565A (ja) * | 2002-01-21 | 2003-07-30 | Daido Steel Co Ltd | 難燃抗菌性繊維製品及びその製造方法 |
JP2003327920A (ja) * | 2002-03-07 | 2003-11-19 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 導電性塗料及びそれを用いた導電性塗膜の形成方法並びに導電性塗膜、導電性塗膜を有する部材 |
JP2005111354A (ja) * | 2003-10-07 | 2005-04-28 | Meidensha Corp | 光触媒担持体及びガス処理装置 |
JP2005186005A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 光触媒含有層基板およびパターン形成体の製造方法 |
JP2005254102A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 光触媒含有組成物および光触媒含有層 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0687979B2 (ja) * | 1990-05-16 | 1994-11-09 | 工業技術院長 | 微細な金属担持光触媒の製造方法 |
-
2003
- 2003-11-21 JP JP2003392716A patent/JP4565829B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000137320A (ja) * | 1998-08-26 | 2000-05-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
JP2001109091A (ja) * | 1999-10-04 | 2001-04-20 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成体、パターン形成方法およびそれを用いた機能性素子、カラーフィルタ、マイクロレンズ |
JP2001105756A (ja) * | 1999-10-07 | 2001-04-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷用刷版 |
JP2001105761A (ja) * | 1999-10-14 | 2001-04-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷用ネガ型印刷原板、及び平版印刷用ネガ型印刷版の作製方法 |
JP2001130156A (ja) * | 1999-11-09 | 2001-05-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版及びそれを用いたオフセット印刷方法 |
JP2001270024A (ja) * | 2000-03-22 | 2001-10-02 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成体 |
JP2002267833A (ja) * | 2001-03-14 | 2002-09-18 | Toray Ind Inc | 液晶ディスプレイ用カラーフィルタの製造方法。 |
JP2003138223A (ja) * | 2001-08-21 | 2003-05-14 | Mitsubishi Chemicals Corp | 硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および液晶表示装置 |
JP2003055566A (ja) * | 2001-08-23 | 2003-02-26 | Mitsubishi Chemicals Corp | 硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および液晶表示装置 |
JP2003213565A (ja) * | 2002-01-21 | 2003-07-30 | Daido Steel Co Ltd | 難燃抗菌性繊維製品及びその製造方法 |
JP2003327920A (ja) * | 2002-03-07 | 2003-11-19 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 導電性塗料及びそれを用いた導電性塗膜の形成方法並びに導電性塗膜、導電性塗膜を有する部材 |
JP2005111354A (ja) * | 2003-10-07 | 2005-04-28 | Meidensha Corp | 光触媒担持体及びガス処理装置 |
JP2005186005A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 光触媒含有層基板およびパターン形成体の製造方法 |
JP2005254102A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 光触媒含有組成物および光触媒含有層 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005156739A (ja) | 2005-06-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0932081B1 (en) | Pattern forming body, pattern forming method, and their applications | |
KR100935629B1 (ko) | 패턴 형성체의 제조 방법 및 그것에 사용하는 포토마스크 | |
JP3679943B2 (ja) | パターン形成体の製造方法 | |
JP4236081B2 (ja) | パターン形成体の製造方法 | |
JP3384544B2 (ja) | パターン形成体およびパターン形成方法 | |
JP4201162B2 (ja) | パターン形成体の製造方法およびそれに用いるフォトマスク | |
JP4289522B2 (ja) | パターン形成体の製造法 | |
JP4383095B2 (ja) | パターン形成体の製造方法 | |
JP2002274077A (ja) | パターン形成体およびパターン形成方法 | |
JP4565829B2 (ja) | パターン形成体用塗工液 | |
JP4495777B2 (ja) | パターン形成体およびパターン形成方法 | |
JP2005186005A (ja) | 光触媒含有層基板およびパターン形成体の製造方法 | |
JP4456355B2 (ja) | パターン形成体およびその製造方法 | |
JP4413035B2 (ja) | パターン形成体およびパターン形成方法 | |
JP5076298B2 (ja) | パターン形成体の製造方法、および有機薄膜トランジスタ | |
JP4560324B2 (ja) | パターン形成体の製造方法 | |
JP3881138B2 (ja) | パターン形成体の製造方法 | |
JP2001270024A (ja) | パターン形成体 | |
JP4459664B2 (ja) | パターン形成体およびその製造方法 | |
JP4451193B2 (ja) | パターン形成体の製造方法 | |
JP4844568B2 (ja) | パターン形成体の製造方法 | |
JP4515699B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
JP4641774B2 (ja) | パターン形成体の製造方法 | |
JP4374210B2 (ja) | パターン形成体の製造方法 | |
JP4461696B2 (ja) | パターニング方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060907 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090924 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100324 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100803 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100803 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130813 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |