JP4546607B2 - 良品パターン登録方法及びパターン検査方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体、プリント基板、液晶、プラズマディスプレイパネル等の配線パターンや、印刷、捺印パターン等の文字・記号パターンなどを、画像処理により検査する際に、予め登録した良品パターンを修正して登録する良品パターン登録方法と、修正して登録された良品パターンと検査対象パターンとを比較して検査するパターン検査方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
パターン検査方法においては、予め登録した良品パターンと、画像入力される対象パターンとの差画像の比較により行っているが、良品パターン自体に欠陥が含まれていると、正確な検査ができなくなる。そのため、良品パターンの画像を修正する作業が必要である。
【0003】
従来は、この修正作業は人が目で良品パターンを確認して、欠陥と思われる部分を1画素毎に修正を行っていた。
【0004】
また、一旦登録した良品パターンに含まれている欠陥領域を消し去るため、良品パターン全体を、一定画素数だけ膨張・収縮させる処理と、一定画素数だけ収縮・膨張させる処理を行う方法もあった。
【0005】
また、良品パターンの修正作業をなくすため、CADデータ等の設計データを良品パターンとして採用する方法もあった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、人が欠陥の修正を行う場合、欠陥を探す作業と修正する作業が大きな手間となっていた。
【0007】
また、膨張・収縮により修正する方法も、パターン全面に対して処理を行っているため、処理に長時間を要していた。
【0008】
また、設計データを良品パターンとして用いる方法では、実際の画像は、レンズの収差等のために必ずしも設計データとは一致せず、正確な検査が行えなかった。
【0009】
本発明は、上記従来の問題点に鑑み、予め登録された良品パターンを少ない手間で短時間の処理にて修正して登録することができる良品パターン登録方法と、修正して登録された良品パターンを用いてパターン検査を実施することができるパターン検査方法を提供することを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の良品パターン登録方法は、予め登録された良品パターンを分割する第1の分割工程と、設計データのパターンである設計パターンを分割する第2の分割工程と、前記第2の分割工程で分割された設計パターンの領域を動かして前記第1の分割工程で分割された良品パターンの領域と最も重なる位置をマッチングによって検出する位置検出工程と、前記最も重なる位置において前記良品パターンの領域に前記設計パターンの領域を置換して前記良品パターンを修正する修正工程と、を有するものであり、予め登録された良品パターンを少ない手間で短時間の処理にて修正して登録することができる。
【0011】
また、修正工程は、前記分割された良品パターンの全領域に実施するものであり、予め登録された良品パターンを少ない手間で短時間の処理にて修正して、より適切な良品パターンを得ることができる。
【0012】
また、本発明の良品パターン登録方法によって登録された良品パターンと検査対象パターンとを比較して検査するものであり、少ない手間で短時間の処理にて最適な良品パターンに修正し、修正して登録された最適な良品パターンを用いてパターン検査をすることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の良品パターン登録方法の各実施形態について図1〜図30を参照して説明する。
【0016】
(第1の実施形態)
第1の実施形態は良品パターンを最初に登録する方法に係るものであり、図1〜図3を参照して説明する。
【0017】
本実施形態においては、予め良品パターンの登録に用いる複数(説明では4つ)の対象ワークを用意しておく。その際に全く欠陥のない対象ワークを特に探す必要はなく、欠陥の少なそうなものを選択すればよい。
【0018】
次に、図1の処理フローにおいて、まず対象ワークの画像を入力し(ステップ#11)、次にその画像中のパターンが存在している画素を記憶し(ステップ#12)、以上の処理を予め設定した対象ワーク数になるまで繰り返す(ステップ13)。図2に4つの対象ワークのパターンの例を示す。各パターンには、それぞれ多少の欠陥が存在している。次に、4つの対象ワークのパターンの内、予め設定した数のパターン、本実施形態では3つのパターンで、一致してパターンが存在する画素のみをパターンとして登録する(ステップ#14)。これによって、図3に示すような欠陥のない最適な良品パターンが登録される。
【0019】
本実施形態によれば、以上のように良品パターンを登録する際に、全く欠陥のない対象ワークを探す手間がかからないので、少ない手間で簡単に最適な良品パターンを登録することができる。
【0020】
(第2の実施形態)
第2の実施形態は最初に登録された良品パターンを修正して登録する方法に係るものであり、図4〜図12を参照して説明する。
【0021】
図4に、本実施形態の処理フローを示す。なお、最初に登録された良品パターンには、図5に示すように、欠陥が含まれているものとする。この図5の良品パターンを用いて、図6に示す対象パターンに対して検査を行う例について説明する。
【0022】
図4の処理フローにおいて、まず図6の対象パターンを入力し(ステップ#21)、次に図5の良品パターンと比較して検査を行うと(ステップ#22)、図7に示すような欠陥領域A、Bが検出される(ステップ#23)。
【0023】
次に、欠陥領域についてのみ、良品パターンの膨張、収縮処理を行う。欠陥領域Aは、パターン(白い部分)が、図5の良品パターンには存在せず、図6の対象パターンには存在する欠陥であると判定できるため(ステップ#24)、図8に示すように、パターン(白い画素)を適当な画素数(説明では2画素)だけ膨張した後、図9に示すように、膨張したのと同じ画素数だけ収縮させる(ステップ#25)。この処理によって、図5の良品パターンにおける、図7の欠陥領域Aが消える。
【0024】
一方、欠陥領域Bは、パターン(白い部分)が、図5の良品パターンに存在し、図6の対象パターンには存在しない欠陥であると判定できるため(ステップ#26)、図10に示すように、パターン(白い画素)を適当な画素数(説明では2画素)だけ収縮した後、図11に示すように、収縮したのと同じ画素数だけ膨張させる(ステップ#27)。この処理によって、図5の良品パターンにおける、図7の欠陥領域Bが消える。かくして、図12に示すように、適正な良品パターンが得られる。
【0025】
本実施形態によれば、良品パターンの全面に対する膨張・収縮処理を行うことなく、必要最小限の膨張・収縮処理によって短時間で良品パターンの修正を行うことができる。
【0026】
(第3の実施形態)
第3の実施形態も最初に登録された良品パターンを修正して登録する方法に係るものであり、図13〜図17を参照して説明する。
【0027】
図13に、本実施形態の処理フローを示す。なお、最初に登録された良品パターンは、図14に示すように、欠陥が含まれているものとする。また、この図14の良品パターンを用いて検査を行う対象パターンは、図15に示すように、別の欠陥が含まれているものとする。
【0028】
図13の処理フローにおいて、まず図15の対象パターンを入力し(ステップ#31)、次に図14の良品パターンと比較して検査を行うと(ステップ#32)、図16に示すような欠陥領域A、Bが検出される(ステップ#33)。次に、検出された欠陥領域A、Bについて、人が良品パターンの欠陥により検出されたものか、対象パターンの欠陥により検出されたものかを判断する(ステップ#34)。その結果、欠陥領域Aは対象パターンの欠陥によって検出されているが、欠陥領域Bは良品パターンの欠陥により検出されたものであることが分かるので(ステップ#35)、人がそれを指示することで、欠陥領域Bについてのみ、対象パターンを良品パターンとする(ステップ#36)。かくして、図17に示すように、適正な良品パターンが得られる。
【0029】
本実施形態によれば、人の判断の介入はいるが、あまり手間をかけずに簡単な処理で良品パターンの修正を行うことができる。
【0030】
(第4の実施形態)
第4の実施形態は最初に登録された良品パターンを設計データを用いて修正して登録する方法に係るものであり、図19〜図22を参照して説明する。
【0031】
図18に、本実施形態の処理フローを示す。なお、最初に登録された良品パターンは、図19に示すように、欠陥が含まれているものとする。また、図20に設計パターンを示す。
【0032】
図18の処理フローにおいて、まず図20の設計パターンを入力し(ステップ#41)、次に図19の良品パターンと比較して検査を行うと(ステップ#42)、図21に示すような欠陥領域A、Bが検出される(ステップ#43)。次に、これら欠陥領域A、Bについて、図20の設計パターンを良品パターンとする(ステップ#44)。かくして、図22に示すように、適正な良品パターンが得られる。
【0033】
本実施形態によれば、人の判断の介入なしに、良品パターンの修正を行うことができる。
【0034】
(第5の実施形態)
第5の実施形態は最初に登録された良品パターンを設計データを用いて修正して登録する方法に係るものであり、図23〜図30を参照して説明する。
【0035】
図23に、本実施形態の処理フローを示す。なお、最初に登録された良品パターンは、図24に示すように、欠陥が含まれているものとする。また、図25にこの良品パターンの修正に用いる設計データによる設計パターンを示す。
【0036】
図23の処理フローにおいて、まず図24の良品パターンを登録し(ステップ#51)、次に、図26に示すように、良品パターンを小領域に分割し、また設計パターンも、図27に示すように、同様に小領域に分割する。次に、図28に示すように、良品パターンの小領域と設計パターンの小領域とでマッチング等により、最も位置の重なる位置を検出し(ステップ#52)、最も重なる位置において、図29に示すように、良品パターンの小領域を設計パターンの小領域と置き換える(ステップ#53)。この操作を全領域に実施し、良品パターンの全領域を設計パターンに置き換える。かくして、図30に示すように、適正な良品パターンが得られる。
【0037】
本実施形態によれば、設計パターンをそのまま良品パターンとして検査を行うと、入力系の歪みやずれ等のために正確な検査ができないのに対して、小領域毎に設計パターンを良品パターンに位置を重ね、設計パターンと置き換えることにより、最適な良品パターンが得られる。
【0038】
【発明の効果】
本発明の良品パターン登録方法は、以上の説明から明らかなように、予め登録された良品パターンを分割する第1の分割工程と、設計データのパターンである設計パターンを分割する第2の分割工程と、前記第2の分割工程で分割された設計パターンの領域を動かして前記第1の分割工程で分割された良品パターンの領域と最も重なる位置をマッチングによって検出する位置検出工程と、前記最も重なる位置において前記良品パターンの領域に前記設計パターンの領域を置換して前記良品パターンを修正する修正工程と、を有するものであり、予め登録された良品パターンを少ない手間で短時間の処理にて修正して、より適切な良品パターンを得ることができる。
【0039】
修正工程は、前記分割された良品パターンの全領域に実施するものであり、予め登録された良品パターンを少ない手間で短時間の処理にて修正して、より適切な良品パターンを得ることができる。
【0040】
また、本発明の良品パターン登録方法によって登録された良品パターンと検査対象パターンとを比較して検査するものであり、少ない手間で短時間の処理にて最適な良品パターンに修正し、修正して登録された最適な良品パターンを用いてパターン検査をすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の良品パターン登録方法の第1の実施形態の処理フロー図である。
【図2】同実施形態において用いる複数の対象パターンの説明図である。
【図3】同実施形態で登録される良品パターンの説明図である。
【図4】本発明の良品パターン登録方法の第2の実施形態の処理フロー図である。
【図5】同実施形態における良品パターンの説明図である。
【図6】同実施形態における検査の対象パターンの説明図である。
【図7】同実施形態において検出された欠陥領域の説明図である。
【図8】同実施形態における欠陥領域の膨張処理の説明図である。
【図9】同実施形態における欠陥領域の膨張後の収縮処理の説明図である。
【図10】同実施形態における欠陥領域の収縮処理の説明図である。
【図11】同実施形態における欠陥領域の収縮後の膨張処理の説明図である。
【図12】同実施形態で登録される良品パターンの説明図である。
【図13】本発明の良品パターン登録方法の第3の実施形態の処理フロー図である。
【図14】同実施形態における良品パターンの説明図である。
【図15】同実施形態における検査の対象パターンの説明図である。
【図16】同実施形態において検出された欠陥領域の説明図である。
【図17】同実施形態で登録される良品パターンの説明図である。
【図18】本発明の良品パターン登録方法の第4の実施形態の処理フロー図である。
【図19】同実施形態における良品パターンの説明図である。
【図20】同実施形態において用いる設計パターンの説明図である。
【図21】同実施形態において検出された欠陥領域の説明図である。
【図22】同実施形態で登録される良品パターンの説明図である。
【図23】本発明の良品パターン登録方法の第5の実施形態の処理フロー図である。
【図24】同実施形態における良品パターンの説明図である。
【図25】同実施形態において用いる設計パターンの説明図である。
【図26】同実施形態における良品パターンの小領域分割の説明図である。
【図27】同実施形態における設計パターンの小領域分割の説明図である。
【図28】同実施形態における良品パターンの小領域と設計パターンの小領域のマッチングの説明図である。
【図29】同実施形態における良品パターンの小領域を設計パターンの小領域に置き換えた状態の説明図である。
【図30】同実施形態で登録される良品パターンの説明図である。
【符号の説明】
A、B 欠陥領域
Claims (3)
- 予め登録された良品パターンを分割する第1の分割工程と、
設計データのパターンである設計パターンを分割する第2の分割工程と、
前記第2の分割工程で分割された設計パターンの領域を動かして前記第1の分割工程で分割された良品パターンの領域と最も重なる位置をマッチングによって検出する位置検出工程と、
前記最も重なる位置において前記良品パターンの領域に前記設計パターンの領域を置換して前記良品パターンを修正する修正工程と、
を有することを特徴とする良品パターン登録方法。 - 前記修正工程は、前記分割された良品パターンの全領域に実施することを特徴とする請求項1記載の良品パターン登録方法。
- 請求項1または2記載の良品パターン登録方法によって登録された良品パターンと検査対象パターンとを比較して検査することを特徴とするパターン検査方法。
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