JPH07128026A - パターン検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】パターンの設計情報を判定条件に加えることに
より、誤判定を排除して判定精度の向上を図ること。 【構成】二値化画像からパターンの形状を特定する形状
情報を生成する形状情報生成手段、様々な形状の良品パ
ターンを類似形毎に分類して分類形毎の基準情報を保持
する第一辞書、プリント基板のパターン設計情報のうち
パターンの形成位置を示す位置情報と当該パターンの形
状がどの分類形に属するかを示す形情報とを関連付けて
保持する第二辞書、座標信号を発生する座標信号発生手
段、形状情報生成手段からの情報と第一辞書から読み出
された基準情報とを照合してパターン形状の良否を判定
する良否判定手段を備え、座標信号に従って第二辞書の
位置情報を参照し座標信号と一致する位置情報に関連す
る形情報を読出して第一辞書の読出しアドレスとして使
用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、パターン検査装置に関
し、特に、プリント基板上に形成された様々な形状のパ
ターンを検査する装置に関する。近年、各種電子機器の
高性能化に伴って、当該電子機器に実装されるプリント
基板には一段と精密化したパターンが形成されつつあ
り、かかるプリント基板のパターン検査に用いて好適な
検査装置が求められている。

【０００２】

【従来の技術】本出願人は先に「外観検査装置」（特願
平４−２８７９６３号 平成４年１０月２６日）を提案
している。この先願の技術は、図１２にその原理構成を
示すように、プリント基板１のパターン形成面を光学的
に撮影して二値化画像２（例えばパターン形成部分で
“１”、非形成部分で“０”）を生成する撮像手段３
と、二値化画像中“１”の画素が集まっている部分、す
なわちプリント基板１のパターン形成部分の形状を表わ
すコード情報を生成する形状情報生成手段４と、プリン
ト基板１に形成され得る全てのパターン形状の基準コー
ド情報を保持する辞書５と、形状情報生成手段４からの
コード情報と辞書５に格納されている基準コード情報と
を比較してパターン形状の良否を判定する良否判定手段
６とを基本的に備える。

【０００３】ここで、形状情報生成手段４は、例えば特
開昭６２−２６３４０４号公報に記載されたラジアル測
長センサであり、この測長センサは、二値化画像中の注
目画素（但し“１”の画素）を中心として放射方向（例
えば１６方向）に“１”が連続する画素数を計数し、さ
らに、方向が１８０度異なる計数値を加算して、その加
算値（１６方向であれば８個の加算値）からパターン形
状を表わすコード情報を生成するもので、例えば８個の
加算値が全て等値の場合には、パターン形状が円形であ
ることが分かり、且つ、各加算値からパターン形状の大
きさ（円形の場合には直径）が分かる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
先願の技術にあっては、パターン形状を表わす情報と基
準パターン形状を表わす情報とを比較して、両者が一致
した場合に良、一致しない場合に否を判定する構成とな
っていたため、以下の場合に、欠陥を判定できないとい
う致命的な欠点があった。 『場合１』パターン非形成部分に意図しないパターンが
形成された場合で、そのパターン形状が辞書内に格納さ
れた任意の形状と一致する場合。正しくは否であるが良
と誤判定される。 『場合２』あるべきパターンが欠落していた場合。そも
そも対応するパターン画像が得られないため、始めから
判定の対象となり得ない。正しくは否であるが良／否何
れも判定されない。 『場合３』正常なパターンが過剰に形成されている場
合。全ての過剰パターンに対して良と誤判定されてしま
う。 ［目的］そこで、本発明の目的は、パターンの設計情報
を判定条件に加えることにより、誤判定を排除して判定
精度の向上を図ることにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためその原理図を図１に示すように、プリント基
板１０のパターン形成面をＸ−Ｙ走査して二値化画像を
生成する撮像手段１１と、二値化画像からパターンの形
状を特定する形状情報を生成する形状情報生成手段１２
と、様々な形状の良品パターンを類似形毎に分類して分
類形毎の基準情報を保持する第一辞書１３と、プリント
基板１０のパターン設計情報のうち、パターンの形成位
置を示す位置情報と当該パターンの形状がどの分類形に
属するかを示す形情報とを関連付けて保持する第二辞書
１４と、前記Ｘ−Ｙ走査に同期して座標信号を発生する
座標信号発生手段１５と、形状情報生成手段１２からの
情報と第一辞書１３から読み出された基準情報とを照合
してパターン形状の良否を判定する良否判定手段１６と
を備え、前記座標信号に従って第二辞書１４の位置情報
を参照し、座標信号と一致する位置情報に関連する形情
報を読出して前記第一辞書１３の読出しアドレスとして
使用することを特徴とする。

【０００６】又は、前記形状情報生成手段１２の出力と
第二辞書１４の読出し情報とを照合してパターンの欠落
欠陥を判定する欠落欠陥判定手段１７を備えたことを特
徴とする。

【０００７】

【作用】本発明では、撮像手段によって、プリント基板
の設計上のパターン形成位置が走査されると、その位置
に存在すべきパターンの形情報（当該パターンの形状が
どの分類形に属するかを示す情報）が第二辞書から読み
出され、その形情報に対応した基準情報が第一辞書から
読み出される。

【０００８】そして、この基準情報と形状情報生成手段
の出力とが一致した場合にパターン形状の良が判定さ
れ、不一致の場合に否が判定される。ここで、パターン
非形成部分に意図しないパターンが形成された場合（場
合１）には、第二辞書からは何等の情報も読み出されな
い。従って、第一辞書からの基準情報が得られないか
ら、不一致となり、正しく否と判定される。

【０００９】又は、あるべきパターンが欠落していた場
合（場合２）には、第二辞書からそのパターンの形情報
が読み出されるとともに、この形情報に従って第一辞書
からそのパターンの基準情報が読み出されるが、形状情
報生成手段の出力がないので、不一致となり、正しく否
と判定される。若しくは、正常なパターンが過剰に形成
されている場合（場合３）には、全ての過剰パターンに
ついて第二辞書からの情報が得られず、従って、第一辞
書からの基準情報も得られないから、不一致となり、正
しく否と判定される。

【００１０】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図２〜図５は本発明に係るパターン検査装置の第
一実施例を示す図である。まず、構成を説明する。図２
において、２０はプリント基板、２１はプリント基板２
０のパターン形成面２０ａを照明するライン光源、２２
はパターン形成面２０ａからのライン状の反射光を収束
するレンズ、２３はラインセンサである。ラインセンサ
２３は、Ｘ方向に一列に配列された多数の受光素子から
なり、各受光素子を制御回路２４からの信号に同期して
順次に動作させることによって、光学的なＸ方向の主走
査を実現する。

【００１１】また、２５はプリント基板２０を載置する
ステージであり、このステージ２５は、制御回路２４か
らの制御を受けてＹ方向に定速運動が可能であり、ステ
ージ２５のＹ方向への定速運動によって、機械的なＹ方
向の副走査を実現する。従って、ライン光源２１、レン
ズ２２及びラインセンサ２３等の光学系とステージ２５
は、ラインセンサ２３の出力を二値化する二値化回路２
６と共に、プリント基板２０のパターン形成面２０ａを
Ｘ−Ｙ走査して二値化画像を生成する撮像手段２７を構
成する。

【００１２】なお、ステージ２５は、制御回路２４から
の制御を受けて、Ｘ方向へのステップ移動が可能であ
る。１ステップの移動量はラインセンサ２３の長さ（す
なわち主走査長）にほぼ等しく、このステップ移動によ
って、大面積のプリント基板２０に対する領域分割的な
Ｘ−Ｙ走査を可能にしている。３０は形状情報生成手段
として機能する公知のラジアル測長センサ、３１はラジ
アル測長センサ３０の出力（二値化画像から特定された
パターンの形状情報）に基づいてパターンの中心点を検
出する中心検出回路、３２は中心検出回路３１によって
パターンの中心点が検出されたときにラジアル測長セン
サ３０の出力とそのときの第一辞書３３からの読出し情
報とを比較してパターン形状の良否を判定する良否判定
手段として機能する比較回路、３３は様々な形状の良品
パターンを類似形毎に分類して分類形毎の基準情報を保
持する第一辞書、３４はプリント基板２０のパターン設
計情報（例えばＣＡＤデータ）のうち、パターンの形成
位置を示す位置情報と当該パターンの形状がどの分類形
に属するかを示す形情報とを関連付けて保持する第二辞
書、３５は第二辞書３４から何等かの形情報が読み出さ
れ且つ中心検出回路３１で中心点が検出されなかったと
きにパターンの欠落欠陥を判定する欠落欠陥判定手段と
して機能する中心有無検出回路である。

【００１３】図３、図４は第一辞書３３の内容の概念図
であり、図３はパターンの分類形を円形とした例、ま
た、図４はパターンの分類形を直線とした例である。何
れも、１６方向のラジアル測長センサ３０への適用例を
示している。Ｉ₁ 〜Ｉ₁₆はラジアル測長センサ３０の測
長方向毎の測長線であり、全ての測長線は等長である。
図３及び図４に記載したＬ_LMT はパターン分類のための
許容下限値、Ｈ_LMT はパターン分類のための許容上限値
であり、Ｌ_LMT 〜Ｈ_LMIT の間に入る全ての類似パター
ンに対して１つの基準情報が与えられる。例えば、分類
形が円形の場合には、半径がＬ_LIM からＨ_LMT までの全
ての円形パターンに対して１つの基準情報が与えられ
る。なお、分類形が直線の場合には（図４参照）パター
ンの長手方向（Ｉ₅ 及びＩ₁₃の方向）のＬ_LMT とＨ_LMT
を最大測長値に一致させている。これは、配線パターン
のように最大測長値を越える長さを有する直線パターン
と、最大測長値以下の長さを有する矩形パターンとを区
別するためである。

【００１４】図５は第二辞書３４の内容の一例である。
第二辞書３４は、撮像手段２７のＸ−Ｙ走査（スキャ
ン）の順にアドレスが付与された例えば半導体メモリで
あり、各アドレスには、プリント基板２０のパターン設
計情報のうちのパターン座標（パターン形成位置を示す
位置情報）及び当該パターンの形状に関する登録データ
（当該パターンの形状がどの分類形に属するかを示す形
情報）が格納されている。

【００１５】例えば、図５の設計情報例によれば、プリ
ント基板２０のパターン形成面２０ａの座標（２，２）
に円形パターン（０°リード付）が、また、座標（５，
８）に８角形パターンが、さらに、座標（１０，３０）
に６角形パターン（９０°リード付）が……形成される
はずである。このような構成において、制御回路２４の
制御の下、撮像手段２７によってプリント基板２０のパ
ターン形成面２０ａがＸ−Ｙ走査されると、パターン形
成面２０ａの２値化画像が形成される。但し、２値化画
像は、パターン形成部分で“１”、非形成部分で“０”
となる画素の集まりである。そして、この２値化画像中
のパターン形成部分、すなわち“１”の画素の集合部分
の形状を特定する形状情報がラジアル測長センサ３０で
生成され、この形状情報は、中心検出回路３１と比較回
路３２に送られる。

【００１６】一方、以上の動作に並行して、制御手段２
４から、撮像手段２７のＸ−Ｙ走査（スキャン）に同期
したアドレス信号が出力され、このアドレス信号によっ
て第二辞書３４がアクセスされる。例えば、Ｘ−Ｙ走査
の現在位置がパターン形成面２０ａの座標（２，２）に
あるとき、第二辞書３４のアドレス０番地がアクセスさ
れ、第二辞書３４からは「円形パターン（０°リード
付）」という形情報が読み出される。そして、この形情
報に従って第一辞書３３から「円形パターン（０°リー
ド付）」と類似する形状の基準情報が読み出され、比較
回路３２に与えられる。

【００１７】比較回路３２では、ラジアル測長センサ３
０からの形状情報と第一辞書３３からの基準情報との一
致がとられ、一致した場合にはパターン形状の良が判定
され、不一致の場合には否が判定される。ここで、パタ
ーン形成面２０ａのパターン非形成部分に意図しないパ
ターンが形成された場合（冒頭の場合１）には、第二辞
書３４からは何等の情報も読み出されない。従って、第
一辞書３３からの基準情報が得られないから、不一致と
なり、正しく否と判定される。

【００１８】又は、パターン形成面２０ａにあるべきパ
ターンが欠落していた場合（冒頭の場合２）には、第二
辞書３４からそのパターンの形情報が読み出されるとと
もに、この形情報に従って第一辞書３３からそのパター
ンの基準情報が読み出されるが、この場合には、ラジア
ル測長センサ３０からの出力がないので、不一致とな
り、正しく否と判定される。

【００１９】若しくは、パターン形成面２０ａに正常な
パターンが過剰に形成されている場合（冒頭の場合３）
には、全ての過剰パターンについて第二辞書３４からの
情報が得られず、従って、第一辞書３３からの基準情報
も得られないから、不一致となり、正しく否と判定され
る。なお、本実施例では、中心有無検出回路３５を設け
ているが、これは、パターンの欠落欠陥にも対処できる
ようにして検査精度のより一層の向上を意図した好まし
い構成例であり、過剰パターンや形状異常の欠陥判定を
行うだけであれば不要である。

【００２０】次表１は、従来例と本実施例の判定結果の
比較対象表である。 但し、「登録」のあり／なしは、第二辞書３４に該当す
る形情報が登録されているか否かを意味し、また、「入
力」は、ラジアル測長センサ３０又は中心検出回路３１
から比較回路３２に入力される情報を意味し、「検査規
格」は、期待する正しい検査結果を意味する。

【００２１】従来例では、、及びについて正しい
判定結果が得られない。これに対し、本実施例では、
〜の全てについて期待通りの正しい判定結果が得ら
れ、誤判定を排除して判定精度の向上を図ることができ
る。図６〜図１１は本発明に係るパターン検査装置の第
二実施例を示す図である。図６において、４０は、ステ
ージ、プリント基板、ライン光源、レンズ（以上図示
略）及びラインセンサ４１を含む光学系、４２は光学系
４０からのアナログ画像信号を“１”、“０”の二値化
画像に変換する二値化回路、４３は二値化画像中からノ
イズ成分を除去する等して必要な前処理を行う前処理回
路、４４はラジアル測長センサ（形状情報生成手段）、
４５は中心検出回路、４６は形状比較回路（良否判定手
段）、４７は様々な形状の良品パターンを類似形毎に分
類して分類形毎の基準情報Ｄｉ（ｉは１，２，……，
ｎ）を保持する第一辞書、４８は中心有無検査回路（欠
落欠陥判定手段）、４９は座標信号発生手段、５０は第
二辞書である。

【００２２】座標信号発生手段４９は、光学系４０のＸ
−Ｙ走査（スキャン）に同期した信号（例えばシステム
クロック）をカウントしてパターン形成面（図２の符号
２０ａ参照）におけるスキャン座標に相当する基板アド
レス（Ｘ，Ｙ）を発生する基板アドレスカウンタ４９ａ
と、この基板アドレス（Ｘ，Ｙ）と後述するＣＡＤアド
レスとの一致／不一致を判定する比較器４９ｂと、比較
器４９ｂで一致が判定される度に値をインクリメント
（＋１）するインデックスカウンタ４９ｃとを備える。

【００２３】第二辞書５０は、プリント基板のパターン
設計情報のうち、パターンの形成位置を示す位置情報
（ＣＡＤアドレス）と当該パターンの形状がどの分類形
に属するかを示す形情報（但し、本実施例では、第一辞
書４７のどの基準情報Ｄｉに対応するかを示す識別情報
＃ｉで置き換えている）とを関連付けて保持するデータ
メモリ５０ａと、座標信号発生手段４９の比較器４９ｂ
で一致が判定されたときデータメモリ５０ａから取り出
された形情報＃ｉの通過を許容するゲート回路５０ｂと
を備える。

【００２４】図７はラジアル測長センサ４４の概念図で
ある。ラジアル測長センサ４４は、２次元平面に展開し
た二値化画像の注目画素を中心として放射方向（図では
２２．５°間隔の１６方向）に多数の測長線を延ばし、
各測長線における“１”の画素（パターン形成部分の画
素）の数を計数するとともに、１８０°方向の異なる一
対の測長線の計数値を加算して８個の加算値を得、各加
算値に基づいてパターン形成部分の形状を表わすラジア
ルコード（形状情報）を生成するものであり、その主要
部は、図７（ｂ）に示すように、複数個（図では便宜的
に５個）のシフトレジスタＳＲ１〜ＳＲ５を連結して構
成される。図７（ｂ）において、Ｏは注目画素であり、
Ｙは９０°方向の測長線上の画素、Ｘは０°方向の測長
線上の画素である。各測長線における“１”の画素の計
数処理は、図７（ｃ）に示すような各測長線毎に設けら
れた測長回路４４ａで行われる。すなわち、図示の測長
回路４４ａは０°方向の測長線用のものであり、注目画
素Ｏ及び０°方向の測長線上の全画素Ｘ、Ｘ、……の
“１”を計数してその計数値を０°方向の測長線の測長
値として出力するとともに、注目画素Ｏが“１”の場合
には中心値信号を出力する。

【００２５】図８は中心検出回路４５の構成図である。
中心検出回路４５は、測長線数÷２個（ここでは１６÷
２＝８個）のバランス判定回路６０₁ 〜６０₈ と、ＲＯ
Ｍ（Read Only Memory）を用いた中心条件判別回路６１
とを備える。バランス判定回路６０₁ 〜６０₈ は全て同
一構成であり、代表して図面最上段のバランス判定回路
６０₁ で説明すると、６２は１８０°方向の異なる一対
の測長値ｒ１、ｒ９（但し、ｒ１は０°方向の測長値、
ｒ９は１８０°方向の測長値）の差値を演算する差演算
器、６３は差値が所定のバランスマージン内に収まって
いるとき一対の測長値ｒ１、ｒ９がバランスしているこ
とを表わすバランス信号を出力する比較器である。この
構成によれば、８組の測長値ペア（ｒ１とｒ９、ｒ２と
ｒ１０、……、ｒ８とｒ１６）のそれぞれについてバラ
ンス判定がなされた後、各判定結果の組み合せに従って
中心条件判別回路６１で中心判定がなされる。

【００２６】図９は形状比較回路４６の構成図である。
形状比較回路４６は、測長線数÷２個（ここでは１６÷
２＝８個）の辞書範囲チェック回路６４₁ 〜６４₈ と、
ｍ入力（ｍは測長線数÷２）アンドゲート６５と、中心
検出回路４５からの中心信号に応答してｍ入力アンドゲ
ート６５の出力の通過を許容するゲート回路６６とを備
える。辞書範囲チェック回路６４₁ 〜６４₈ は全て同一
構成であり、代表して図面最上段の辞書範囲チェック回
路６４₁ で説明すると、６７は１８０°方向の異なる一
対の測長値ｒ１、ｒ９の加算値Σ₍₁₎ を演算する加算
器、６８はΣ₍₁₎と０°方向の許容下限値Ｌ_LMT(1)（図
３又は図４の符号Ｌ_LMT 参照）とを比較してΣ₍₁₎ ≧Ｌ
_MIT(1)のときに“１”を出力する下限比較器、６９はΣ
₍₁₎ と０°方向の許容上限値Ｈ_LMT(1)（図３又は図４の
符号Ｈ_LMT 参照）とを比較してΣ_{(1 )} ≦Ｈ_MIT(1)のとき
に“１”を出力する上限比較器、７０は下限比較器６８
及び上限比較器６９の双方から“１”が出力されている
とき（すなわちＬ_LMT(1)≦Σ ₍₁₎ ≧Ｈ_LMT(1)のとき）に
“１”を出力する２入力アンドゲートである。この構成
によれば、８組の測長値ペア（ｒ１とｒ９、ｒ２とｒ１
０、……、ｒ８とｒ１６）毎の加算値Σ_(i) （ｉは１，
２，……，８）が許容下限値Ｌ_LMT(i)と許容上限値Ｈ
_LMT(i)の範囲内に入っているか否かがチェックされ、全
てのペアの加算値が範囲内に入っているときにｍ入力ア
ンドゲート６５の出力が“１”となり、その“１”の信
号が中心検出回路４５からの中心信号に応答してパター
ン形状の良を示す信号となってゲート回路６６から出力
される。

【００２７】以上の構成において、基板アドレスカウン
タ４９ａのカウント値、すなわち基板アドレス（Ｘ，
Ｙ）は、光学系４０によるパターン形成面の画像読み取
り動作に同期して逐次にその値を更新する。この基板ア
ドレス（Ｘ，Ｙ）は、比較器４９ｂにおいてデータメモ
リ５０ａからのＣＡＤアドレスと比較され、両者が一致
したときに、ゲート回路５０ｂが開かれ、データメモリ
５０ａからのデータ（＃ｉ）が第一辞書４７へと出力さ
れる。

【００２８】そして、この通過データ（＃ｉ）によっ
て、第一辞書４７に格納された複数の基準情報Ｄｉの１
つが特定され、その基準情報Ｄｉとラジアル測長センサ
４４の出力とが形状比較回路４６で比較される。従っ
て、形状比較回路４６の２つの入力が一致した場合には
正常が判定され、不一致の場合、すなわちラジアル測長
センサ４４の出力がない場合又は第二辞書５０からの出
力がない場合（若しくは中心信号がない場合）には過剰
パターン又はパターン形状の異常が判定され、従来例で
は不可能であった過剰パターンの判定を行うことができ
る。

【００２９】しかも、中心有無検査回路４８を備えるこ
とにより、第二辞書５０内のＣＡＤアドレスと基板アド
レス（Ｘ，Ｙ）とが一致し、且つ、中心検出回路４５で
中心信号が出力されない場合に、パターンの欠落欠陥を
も判定でき、従来例に比べてはるかに判定精度を向上す
ることができる。なお、基板アドレス（Ｘ，Ｙ）は、パ
ターン形成面の全域の座標をきめ細かく指定できるもの
であってもよいが、一般に、ＣＡＤ等の機械設計による
パターンレイアウトは、図１０に示すような定ピッチの
格子の交点毎に行われるから、各交点毎に基板アドレス
（Ｘ，Ｙ）を発生した方が処理の高速化やシステムの簡
素化の点で好ましい。但し、この場合には各交点を中心
にして所定範囲の領域（図１０の破線の範囲）を設定
し、その領域内を画像処理の対象とする。

【００３０】また、パターン形成面が大面積の場合には
一度の走査で画像を取得できないので、図１１に示すよ
うに、複数の分割走査領域Ａ、Ｂ、Ｃ、……毎に画像を
取得するが、領域の境界部分における整合性をとるため
に、隣り合う領域の間にオーバラップ部分（ハッチング
部分）を設け、且つ、そのオーバラップ部分のデータを
隣り合う領域で２重に持つようにする。

【００３１】

【発明の効果】本発明によれば、パターンの設計情報を
判定条件に加えたので、過剰パターンや欠落欠陥をも判
定できるようになり、誤判定を排除して判定精度の向上
を図ることができ、実用的なパターン検査装置を提供で
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の原理図である。

【図２】第一実施例の全体構成図である。

【図３】第一実施例の第一辞書の概念図（その１）であ
る。

【図４】第一実施例の第一辞書の概念図（その２）であ
る。

【図５】第一実施例の第二辞書の概念図である。

【図６】第二実施例の全体構成図である。

【図７】第二実施例のラジアル測長センサの概念図及び
概略構成図である。

【図８】第二実施例の中心検出回路の構成図である。

【図９】第二実施例の形状比較回路の構成図である。

【図１０】パターン形成面におけるパターンレイアウト
図である。

【図１１】分割走査の場合のオーバラップ部分における
データ登録概念図である。

【図１２】従来例の全体構成図である。

【符号の説明】

１０：プリント基板 １１：撮像手段 １２：形状情報生成手段 １３：第一辞書 １４：第二辞書 １５：座標信号発生手段 １６：良否判定手段 １７：欠落欠陥判定手段

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０６Ｔ 7/00 Ｈ０１Ｌ 21/66 Ｊ 7630−4Ｍ (72)発明者 肥塚 哲男 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 安藤 護俊 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】プリント基板（１０）のパターン形成面を
   Ｘ−Ｙ走査して二値化画像を生成する撮像手段（１１）
   と、 二値化画像からパターンの形状を特定する形状情報を生
   成する形状情報生成手段（１２）と、 様々な形状の良品パターンを類似形毎に分類して分類形
   毎の基準情報を保持する第一辞書（１３）と、 プリント基板（１０）のパターン設計情報のうち、パタ
   ーンの形成位置を示す位置情報と当該パターンの形状が
   どの分類形に属するかを示す形情報とを関連付けて保持
   する第二辞書（１４）と、 前記Ｘ−Ｙ走査に同期して座標信号を発生する座標信号
   発生手段（１５）と、 形状情報生成手段（１２）からの情報と第一辞書（１
   ３）から読み出された基準情報とを照合してパターン形
   状の良否を判定する良否判定手段（１６）とを備え、 前記座標信号に従って第二辞書（１４）の位置情報を参
   照し、 座標信号と一致する位置情報に関連する形情報を読出し
   て前記第一辞書（１３）の読出しアドレスとして使用す
   ることを特徴とするパターン検査装置。
2. 【請求項２】前記形状情報生成手段（１２）の出力と第
   二辞書（１４）の読出し情報とを照合してパターンの欠
   落欠陥を判定する欠落欠陥判定手段（１７）を備えたこ
   とを特徴とする請求項１記載のパターン検査装置。