JP4534273B2 - 試料作成装置 - Google Patents

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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006226863A (ja) * 2005-02-18 2006-08-31 Japan Synchrotron Radiation Research Inst １軸回転直線移送型のトランスファーロッドで試料台を直線移送、回転、掴む、押出して放すの動作をおこなう装置
JP4185062B2 (ja) * 2005-03-04 2008-11-19 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 加工用ステージ及び集束ビーム加工装置並びに集束ビーム加工方法
JP3874011B2 (ja) * 2005-04-04 2007-01-31 株式会社日立製作所 微小試料加工観察方法及び装置
JP5126031B2 (ja) * 2008-12-01 2013-01-23 株式会社日立製作所 微小試料加工観察方法及び装置
JP5250470B2 (ja) 2009-04-22 2013-07-31 株式会社日立ハイテクノロジーズ 試料ホールダ，該試料ホールダの使用法、及び荷電粒子装置
JP5403560B2 (ja) 2010-11-17 2014-01-29 コリア ベイシック サイエンス インスティテュート 透過電子顕微鏡の、３方向以上から試片を観察し分析するための３軸駆動が可能な試片ホルダー
JP5316626B2 (ja) * 2011-11-14 2013-10-16 株式会社日立製作所 微小試料加工観察方法及び装置
JP5883658B2 (ja) 2012-01-20 2016-03-15 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線顕微鏡、荷電粒子線顕微鏡用試料ホルダ及び荷電粒子線顕微方法
JP5883678B2 (ja) * 2012-02-23 2016-03-15 株式会社メルビル 試料ホルダー保管装置
JP6009980B2 (ja) * 2013-03-28 2016-10-19 日本電子株式会社 ホルダー、荷電粒子線装置、および真空装置
JP6140298B2 (ja) * 2013-12-05 2017-05-31 株式会社日立製作所 試料ホルダ及び真空分析装置
EP3038131A1 (en) 2014-12-22 2016-06-29 FEI Company Improved specimen holder for a charged particle microscope
NL2020235B1 (en) * 2018-01-05 2019-07-12 Hennyz B V Vacuum transfer assembly
CN109813586B (zh) * 2019-02-27 2024-08-30 南京理工大学 一种轴向旋转装置
CN113075244B (zh) * 2021-04-06 2023-05-26 长安大学 一种电子探针薄片样品台及其使用方法

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4914284Y1 (enExample) * 1969-12-29 1974-04-09
JPS4830860A (enExample) * 1971-08-25 1973-04-23
JPS51124368A (en) * 1975-04-23 1976-10-29 Hitachi Ltd Sample rotating device for corpuscular ray equipment
JPS5952513B2 (ja) * 1977-12-07 1984-12-20 株式会社日立製作所 走査形電子顕微鏡の試料微動装置
JPS593857A (ja) * 1982-06-30 1984-01-10 Hitachi Ltd 粒子線装置の試料回転装置
JPS595868U (ja) * 1982-07-02 1984-01-14 株式会社日立製作所 粒子線装置における試料装置
JPS5916064U (ja) * 1982-07-21 1984-01-31 株式会社日立製作所 粒子線装置における試料回転装置
JPS61107645A (ja) * 1984-10-31 1986-05-26 Internatl Precision Inc 透過型電子顕微鏡の試料保持装置
JPH073773B2 (ja) * 1985-03-01 1995-01-18 株式会社日立製作所 電子顕微鏡等の試料微動装置
JPS6244942A (ja) * 1985-08-23 1987-02-26 Jeol Ltd 回転傾斜試料ホルダ
US4975586A (en) * 1989-02-28 1990-12-04 Eaton Corporation Ion implanter end station
NL8902568A (nl) * 1989-10-17 1991-05-16 Philips Nv Vacuuem systeem voorzien van een evacueerbaar huis, een objecthouder en een losneembaar daarmee gekoppelde objectdrager.
JPH04120437A (ja) * 1990-09-12 1992-04-21 Hitachi Ltd 試料薄片化方法及び装置
JP2691077B2 (ja) * 1991-01-23 1997-12-17 株式会社日立製作所 電子顕微鏡用試料切り換え装置
JP2818981B2 (ja) * 1991-04-26 1998-10-30 株式会社日立製作所 電子顕微鏡
JP3314422B2 (ja) * 1991-10-24 2002-08-12 株式会社日立製作所 電子顕微鏡用試料ホルダ
JPH0887972A (ja) * 1994-09-20 1996-04-02 Hitachi Ltd 試料ホールダ
JPH1064473A (ja) * 1996-06-13 1998-03-06 Hitachi Ltd 試料評価・処理観察システム
WO1999005506A1 (fr) * 1997-07-22 1999-02-04 Hitachi, Ltd. Procede et dispositif de preparation d'echantillons
JP3677968B2 (ja) * 1997-10-01 2005-08-03 株式会社日立製作所 試料解析方法および装置
JPH11108813A (ja) * 1997-10-03 1999-04-23 Hitachi Ltd 試料作製方法および装置
JPH11233054A (ja) * 1998-02-16 1999-08-27 Jeol Ltd 荷電粒子装置における試料回転装置

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