JP4530287B2 - オキサセフェムの結晶 - Google Patents
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Description
本発明は、抗菌剤として有用なオキサセフェムの結晶に関する。
式：
で示されるフロモキセフは、オキサセフェム系抗菌剤として有用である。そのＮａ塩を含有する凍結乾燥製剤は注射剤として市販されている（販売名：フルマリン，塩野義製薬株式会社）。該凍結乾燥製剤は、フロモキセフを主原料に用いて、塩化ナトリウムおよび安定化剤を配合して製造している（参照：特許文献１）。
フロモキセフの結晶も公知であり、例えば、対応する４位カルボン酸の保護体を塩化メチレンとアニソール中、ルイス酸（ＴｉＣｌ４またはＡｌＣｌ３）で処理した後、酢酸エチル中から結晶化している（参照：特許文献２，実施例３）。また別法として４位カルボン酸および３位末端の水酸基を保護した中間体を、同様にアニソール存在下、ルイス酸（ＳｎＣｌ４）で処理した後、塩化メチレンとアセトン中から結晶化する方法が公知である（非特許文献１）。これらの結晶形態については、詳細には記載されていない。しかし、本発明者らによる追試検討によれば、当該文献の方法では、塩化メチレン含有結晶が得られる。
フロモキセフの結晶も公知であり、例えば、対応する４位カルボン酸の保護体を塩化メチレンとアニソール中、ルイス酸（ＴｉＣｌ４またはＡｌＣｌ３）で処理した後、酢酸エチル中から結晶化している（参照：特許文献２，実施例３）。また別法として４位カルボン酸および３位末端の水酸基を保護した中間体を、同様にアニソール存在下、ルイス酸（ＳｎＣｌ４）で処理した後、塩化メチレンとアセトン中から結晶化する方法が公知である（非特許文献１）。これらの結晶形態については、詳細には記載されていない。しかし、本発明者らによる追試検討によれば、当該文献の方法では、塩化メチレン含有結晶が得られる。
フロモキセフの塩化メチレン含有結晶は、通常の乾燥法では、塩化メチレンを脱気するのは容易ではない。これまで実生産における製剤化手段としては特許文献１に記載のように無菌化も兼ねて凍結乾燥を行い、塩化メチレンを含有しないＮａ塩を得ている。しかし、凍結乾燥法は一般に製造コストが高くつき、また設備維持の面でも負担が大きいのが実情である。よって、より効率的な注射用無菌製剤の工業的製法として、最近は、できれば凍結乾燥法以外の方法を採用することが望まれている。また塩化メチレンを含有しないフロモキセフであれば、それ自体を医薬活性成分として利用できる可能性もある。よってフロモキセフに関して、塩化メチレンを含有せず、製剤化にさらに有利な新規結晶が求められていた。
本発明らは上記課題に鑑み鋭意検討した結果、フロモキセフの新規な溶媒和物含有結晶を見出し、以下に示す本発明を完成した。
（１）式：
で示される化合物（Ｉ）の水和物または水和物結晶。
（２）１水和物である、上記１記載の水和物または水和物結晶。
（３）粉末Ｘ線回折パターンにおいて、面間隔ｄ＝８．３１，７．００，６．１１，５．４３，４．４７，４．３５，４．１９，４．１５，３．９５，３．８１，３．５０，３．３２，２．９６（単位：オングストローム）に主なピークを有する上記１または２記載の水和物結晶。
（１）式：
（２）１水和物である、上記１記載の水和物または水和物結晶。
（３）粉末Ｘ線回折パターンにおいて、面間隔ｄ＝８．３１，７．００，６．１１，５．４３，４．４７，４．３５，４．１９，４．１５，３．９５，３．８１，３．５０，３．３２，２．９６（単位：オングストローム）に主なピークを有する上記１または２記載の水和物結晶。
（４）式：
で示される化合物（Ｉ）の酢酸メチル和物または酢酸メチル和物結晶。
（５）０．５酢酸メチル和物である、上記４記載の酢酸メチル和物または酢酸メチル和物結晶。
（６）粉末Ｘ線回折パターンにおいて、面間隔ｄ＝１０．４２，６．３２，４．９６，４．６２，４．５６，４．３６，４．２３，３．９７，３．９３，３．７９，３．４７，２．７９（単位：オングストローム）に主なピークを有する上記４または５記載の酢酸メチル和物結晶。
（５）０．５酢酸メチル和物である、上記４記載の酢酸メチル和物または酢酸メチル和物結晶。
（６）粉末Ｘ線回折パターンにおいて、面間隔ｄ＝１０．４２，６．３２，４．９６，４．６２，４．５６，４．３６，４．２３，３．９７，３．９３，３．７９，３．４７，２．７９（単位：オングストローム）に主なピークを有する上記４または５記載の酢酸メチル和物結晶。
本発明のフロモキセフの新規溶媒和物は、好ましくは結晶であり、安定性、取り扱い性等がよく、製剤化にも有利である。特に水和物結晶は、塩化メチレン等の有機溶媒を含有しないので、そのまま粉末充填法により注射剤として製剤化できる可能性がある。また酢酸メチル和物結晶は、塩化メチレンを含有する結晶に比べて、安全性や環境面等の点で有利であり、フロモキセフを工業的に効率よく製造することができる。すなわちこれらの結晶は、医薬活性成分またはその製造中間体として利用できる。
本発明の各溶媒和物およびその結晶について説明する。
（１）水和物
フロモキセフの水和物は、フロモキセフ１分子に対して水を好ましくは１分子含有する。該水和物は好ましくは結晶である。該結晶は好ましくは、粉末Ｘ線回折パターンにおいて、面間隔ｄ＝８．３１，７．００，６．１１，５．４３，４．４７，４．３５，４．１９，４．１５，３．９５，３．８１，３．５０，３．３２，２．９６（単位：オングストローム）等に主ピークを有し、より詳しくは、後記表１や図１に示すパターを示す。（Ｘ線回折測定条件：管球ＣｕＫα線、管電圧４０Ｋｖ、管電流３０ｍＡ、ｄｓｉｎθ＝ｎλ（ｎは整数、θは回折角））
なお本明細書において、面間隔ｄ値は、Ｘ線ピークのうち便宜的に主ピークとして、相対強度の強いピークを選択したものであるが、結晶構造は必ずしもこれらの値だけによって限定されるものではない。即ち、これら以外のピークが含まれていてもよい。また一般に結晶をＸ線解析により測定した場合、そのピークは、測定機器、測定条件、付着溶媒の存在等により、多少の測定誤差を生じることもある。よって、結晶構造の同定に当たっては多少の誤差も考慮されるべきであり、実質的に上記と同様のＸ線パターンによって特徴付けられる結晶はすべて本発明の範囲内である。
上記水和物は、例えば、特開昭５９−１３９３８５やＴｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ（Ａｐｒ．Ｐ４６６−４７６，１９８５）記載の方法に準じて得られるフロモキセフまたはその塩化メチレン和物を、少量の可溶性溶媒に室温又は加温（好ましくは約２０〜４０℃）にて溶解後、可溶性溶媒よりも多量の水を室温下または氷冷下で投入した後、０℃〜室温程度、好ましくは約５〜２５℃にて数時間〜１日、攪拌又は静置することにより得られる。可溶性溶媒の使用量は、フロモキセフ１ｇ当り、好ましくは０．１〜１０ｍＬ、好ましくは０．５〜５ｍＬ、より好ましくは１〜３ｍＬである。水の使用量は、フロモキセフ１ｇ当り、好ましくは１〜１００ｍＬ、好ましくは５〜５０ｍＬ、より好ましくは１０〜３０ｍＬである。
可溶性溶媒としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、２−メトキシエタノール、エチレングリコール、メトキシエタノール、グリセリン、プロピレングリコールなどのアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエチレングルコールジメチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、メチルフォルメート、エチルフォルメート、プロピルフォルメート、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピルアセテート、ブチルアセテート、メチルプロピオネート、エチルプロピオネートなどのエステル類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどの有機ハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、キノリン、ピリジン類、トリエチルアミンなどを用いることができる。これらの溶媒は単独でも、２種以上を混合して使用してもよい。
このようにして得られる結晶は、次いで、通常の分離手段（例：濾過、遠心分離等）により溶媒から分離し、通常の精製手段（例：洗浄、風乾、減圧乾燥）に付すことにより単離することができる。
また上記水和物は、フロモキセフ中間体を脱保護した反応液から得られる、フロモキセフまたはその有機溶媒和物を含有する抽出残査を水に加温溶解させた後、０〜１０℃にて数時間〜数日間攪拌することにより得ることもできる。
（１）水和物
フロモキセフの水和物は、フロモキセフ１分子に対して水を好ましくは１分子含有する。該水和物は好ましくは結晶である。該結晶は好ましくは、粉末Ｘ線回折パターンにおいて、面間隔ｄ＝８．３１，７．００，６．１１，５．４３，４．４７，４．３５，４．１９，４．１５，３．９５，３．８１，３．５０，３．３２，２．９６（単位：オングストローム）等に主ピークを有し、より詳しくは、後記表１や図１に示すパターを示す。（Ｘ線回折測定条件：管球ＣｕＫα線、管電圧４０Ｋｖ、管電流３０ｍＡ、ｄｓｉｎθ＝ｎλ（ｎは整数、θは回折角））
なお本明細書において、面間隔ｄ値は、Ｘ線ピークのうち便宜的に主ピークとして、相対強度の強いピークを選択したものであるが、結晶構造は必ずしもこれらの値だけによって限定されるものではない。即ち、これら以外のピークが含まれていてもよい。また一般に結晶をＸ線解析により測定した場合、そのピークは、測定機器、測定条件、付着溶媒の存在等により、多少の測定誤差を生じることもある。よって、結晶構造の同定に当たっては多少の誤差も考慮されるべきであり、実質的に上記と同様のＸ線パターンによって特徴付けられる結晶はすべて本発明の範囲内である。
上記水和物は、例えば、特開昭５９−１３９３８５やＴｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ（Ａｐｒ．Ｐ４６６−４７６，１９８５）記載の方法に準じて得られるフロモキセフまたはその塩化メチレン和物を、少量の可溶性溶媒に室温又は加温（好ましくは約２０〜４０℃）にて溶解後、可溶性溶媒よりも多量の水を室温下または氷冷下で投入した後、０℃〜室温程度、好ましくは約５〜２５℃にて数時間〜１日、攪拌又は静置することにより得られる。可溶性溶媒の使用量は、フロモキセフ１ｇ当り、好ましくは０．１〜１０ｍＬ、好ましくは０．５〜５ｍＬ、より好ましくは１〜３ｍＬである。水の使用量は、フロモキセフ１ｇ当り、好ましくは１〜１００ｍＬ、好ましくは５〜５０ｍＬ、より好ましくは１０〜３０ｍＬである。
可溶性溶媒としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、２−メトキシエタノール、エチレングリコール、メトキシエタノール、グリセリン、プロピレングリコールなどのアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエチレングルコールジメチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、メチルフォルメート、エチルフォルメート、プロピルフォルメート、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピルアセテート、ブチルアセテート、メチルプロピオネート、エチルプロピオネートなどのエステル類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどの有機ハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、キノリン、ピリジン類、トリエチルアミンなどを用いることができる。これらの溶媒は単独でも、２種以上を混合して使用してもよい。
このようにして得られる結晶は、次いで、通常の分離手段（例：濾過、遠心分離等）により溶媒から分離し、通常の精製手段（例：洗浄、風乾、減圧乾燥）に付すことにより単離することができる。
また上記水和物は、フロモキセフ中間体を脱保護した反応液から得られる、フロモキセフまたはその有機溶媒和物を含有する抽出残査を水に加温溶解させた後、０〜１０℃にて数時間〜数日間攪拌することにより得ることもできる。
（２）酢酸メチル和物
フロモキセフの酢酸メチル和物は、フロモキセフ１分子に対して好ましくは酢酸メチルを０．５〜１．０分子、より好ましくは０．５分子含有する。該酢酸メチル和物は好ましくは結晶である。該結晶は好ましくは、粉末Ｘ線回折パターンにおいて、面間隔ｄ＝１０．４２，６．３２，４．９６，４．６２，４．５６，４．３６，４．２３，３．９７，３．９３，３．７９，３．４７，２．７９（単位：オングストローム）等に主ピークを有し、より詳しくは、後記表３または図２に示すパターを示す。
上記酢酸メチル和物は、例えば以下のようにして得られる。フロモキセフまたはその塩化メチレン和物を、酢酸メチルに加温溶解（好ましくは約２０〜４０℃）させた後、溶媒を留去する。残査を酢酸メチルに加温溶解（好ましくは約２０〜４０℃）後、０℃〜室温にて数時間〜数日、攪拌する。析出結晶を濾過し、好ましくは冷酢酸メチルで洗浄し、風乾することにより得られる。１回目および２回目の酢酸メチルの使用量は共に、フロモキセフ１ｇ当り、好ましくは０．１〜２０ｍＬ、好ましくは０．５〜１５ｍＬ、より好ましくは１〜１０ｍＬである。水の使用量は、フロモキセフ１ｇ当り、好ましくは１〜１００ｍＬ、好ましくは５〜５０ｍＬ、より好ましくは１０〜３０ｍＬである。
また上記酢酸メチル和物は、フロモキセフの中間体を脱保護した反応液の抽出残査を原料に用いて、上記と同様にして得ることもできる。
上記水和物または酢酸メチル和物は、所望により別の溶媒和物や結晶に変換することも可能である。また単独または所望によりｐＨ調整剤、安定化剤などと一緒に、凍結乾燥法、粉末充填法等によって製剤化することもできる。特に水和物は、好ましくは粉末充填法によって製剤化され得るので、製剤化に有利である。
フロモキセフの酢酸メチル和物は、フロモキセフ１分子に対して好ましくは酢酸メチルを０．５〜１．０分子、より好ましくは０．５分子含有する。該酢酸メチル和物は好ましくは結晶である。該結晶は好ましくは、粉末Ｘ線回折パターンにおいて、面間隔ｄ＝１０．４２，６．３２，４．９６，４．６２，４．５６，４．３６，４．２３，３．９７，３．９３，３．７９，３．４７，２．７９（単位：オングストローム）等に主ピークを有し、より詳しくは、後記表３または図２に示すパターを示す。
上記酢酸メチル和物は、例えば以下のようにして得られる。フロモキセフまたはその塩化メチレン和物を、酢酸メチルに加温溶解（好ましくは約２０〜４０℃）させた後、溶媒を留去する。残査を酢酸メチルに加温溶解（好ましくは約２０〜４０℃）後、０℃〜室温にて数時間〜数日、攪拌する。析出結晶を濾過し、好ましくは冷酢酸メチルで洗浄し、風乾することにより得られる。１回目および２回目の酢酸メチルの使用量は共に、フロモキセフ１ｇ当り、好ましくは０．１〜２０ｍＬ、好ましくは０．５〜１５ｍＬ、より好ましくは１〜１０ｍＬである。水の使用量は、フロモキセフ１ｇ当り、好ましくは１〜１００ｍＬ、好ましくは５〜５０ｍＬ、より好ましくは１０〜３０ｍＬである。
また上記酢酸メチル和物は、フロモキセフの中間体を脱保護した反応液の抽出残査を原料に用いて、上記と同様にして得ることもできる。
上記水和物または酢酸メチル和物は、所望により別の溶媒和物や結晶に変換することも可能である。また単独または所望によりｐＨ調整剤、安定化剤などと一緒に、凍結乾燥法、粉末充填法等によって製剤化することもできる。特に水和物は、好ましくは粉末充填法によって製剤化され得るので、製剤化に有利である。
参考例１
（式中、Ｍｅ＝メチル；ＢＨ＝ベンズヒドリル）
前記非特許文献１（Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ（Ａｐｒ．Ｐ４６６−４７６，１９８５））に記載のフロモキセフの中間体（フロモキセフの４位がベンズヒドリル、３位テトラゾール上のヒドロキシがｐ−メチルベンジルオキシカルボニルで保護された化合物）（４０５ｍｇ）、メチレンクロライド（２．５ｍｌ）およびニトロメタン（０．５ｍｌ）の混合物を−３０℃に冷却し、アニソール（０．１１ｍｌ）とＳｎＣｌ４（０．１７ｍｌ）を含むメチレンクロライド（２ｍｌ）溶液を加え、攪拌後、３時間半かけて−１０℃まで徐々に昇温した。該反応液を１Ｎ塩酸、酢酸エチルおよびメチルエチルケトンの混合液中に注いだ後、分離した有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液と混合し、水層を濃塩酸で酸性にし、酢酸エチルとメチルエチルケトンの混合液で抽出した。抽出物を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧乾燥して、フロモキセフの塩化メチレン和物を含有する泡状の反応抽出残査を得た。
前記非特許文献１（Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ（Ａｐｒ．Ｐ４６６−４７６，１９８５））に記載のフロモキセフの中間体（フロモキセフの４位がベンズヒドリル、３位テトラゾール上のヒドロキシがｐ−メチルベンジルオキシカルボニルで保護された化合物）（４０５ｍｇ）、メチレンクロライド（２．５ｍｌ）およびニトロメタン（０．５ｍｌ）の混合物を−３０℃に冷却し、アニソール（０．１１ｍｌ）とＳｎＣｌ４（０．１７ｍｌ）を含むメチレンクロライド（２ｍｌ）溶液を加え、攪拌後、３時間半かけて−１０℃まで徐々に昇温した。該反応液を１Ｎ塩酸、酢酸エチルおよびメチルエチルケトンの混合液中に注いだ後、分離した有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液と混合し、水層を濃塩酸で酸性にし、酢酸エチルとメチルエチルケトンの混合液で抽出した。抽出物を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧乾燥して、フロモキセフの塩化メチレン和物を含有する泡状の反応抽出残査を得た。
参考例１で得られる反応抽出残渣１０００ｍｇを水２０ｍＬに加温溶解させた後、５℃にて１日間攪拌した。析出結晶を濾過、冷水１０ｍＬで洗浄した。風乾、減圧乾燥（条件：５０Ｐａ，５〜１０時間）し、フロモキセフの１水和物結晶８０３ｍｇ（７７％）得た。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３５３９，３１９８，２９２４，２８５４，１７７６，１７１１，１６８５，１６４５，１５３４，１４５０，１３８７，１２６７，１１３０，１０６２，１０３９，９９７，８６１，６６５ｃｍ−１
１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）；δ ３．３６（３Ｈ，ｓ），３．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），３．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），３．７３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），４．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），４．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），４．３１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），４．５２（２Ｈ，ｓ），５．０６（２Ｈ，ｂｒｓ），７．３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５６．４Ｈｚ），９．２５（１Ｈ，ｓ）
元素分析：Ｃ１５Ｈ１８Ｎ６Ｏ７Ｆ２Ｓ２・Ｈ２Ｏについて
理論値：Ｃ３５．０２，Ｈ３．９２，Ｎ１６．３３，Ｆ７．３９，Ｓ１２．４６
実測値：Ｃ３５．０５，Ｈ３．９３，Ｎ１６．３９，Ｆ７．２２，Ｓ１２．３２
含水率
理論値（１水和物）：３．５０％
カールフィッシャー水分計（ＫＦ）測定値：３．５２％
融点：９４℃
粉末Ｘ線回折パターンを表１、図１に示す。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３５３９，３１９８，２９２４，２８５４，１７７６，１７１１，１６８５，１６４５，１５３４，１４５０，１３８７，１２６７，１１３０，１０６２，１０３９，９９７，８６１，６６５ｃｍ−１
１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）；δ ３．３６（３Ｈ，ｓ），３．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），３．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），３．７３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），４．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），４．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），４．３１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），４．５２（２Ｈ，ｓ），５．０６（２Ｈ，ｂｒｓ），７．３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５６．４Ｈｚ），９．２５（１Ｈ，ｓ）
元素分析：Ｃ１５Ｈ１８Ｎ６Ｏ７Ｆ２Ｓ２・Ｈ２Ｏについて
理論値：Ｃ３５．０２，Ｈ３．９２，Ｎ１６．３３，Ｆ７．３９，Ｓ１２．４６
実測値：Ｃ３５．０５，Ｈ３．９３，Ｎ１６．３９，Ｆ７．２２，Ｓ１２．３２
含水率
理論値（１水和物）：３．５０％
カールフィッシャー水分計（ＫＦ）測定値：３．５２％
融点：９４℃
粉末Ｘ線回折パターンを表１、図１に示す。
参考例１で得られる反応抽出残渣を、以下の表２に示す条件で可溶性溶媒に室温又は加温にて溶解後、水を室温下または氷冷下投入した。５〜２５℃にて数時間〜１日攪拌又は静置した。得られた結晶はいずれも、ＮＭＲより有機溶媒は含まず、元素分析より１水和物であることが確認された。また実施例１と同一の粉末Ｘ線回析パターンを示した。
参考例１で得られる反応抽出残渣１０００ｍｇを酢酸メチル５ｍＬに加温溶解させた後、溶媒留去。残渣を酢酸メチル２ｍＬに加温溶解後、５℃にて１日間攪拌した。析出結晶を濾過、冷酢酸メチル２ｍＬで洗浄した。風乾し、０．５酢酸メチル和物の結晶７８４ｍｇ（８２％）得た。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３４９３，３２４９，３０４１，２９２５，２８５３，１７６５，１７３７，１７１１，１６６８，１６４３，１５４３，１４５７，１４４１，１４２０，１３９２，１３７６，１２４８，１２３１，１０８０，１０６２，１０４２，１０３０，８０５，７５１
１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）；δ ３．３６（３Ｈ，ｓ），３．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），３．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），３．７３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），４．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），４．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），４．３１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），４．５１（２Ｈ，ｓ），５．０６（２Ｈ，ｂｒｓ），７．３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５６．４Ｈｚ），９．２５（１Ｈ，ｓ）
ＮＭＲより酢酸メチル０．５分子分のピーク１．９８（３Ｈ，ｓ），３．５５（３Ｈ，ｓ）が観察される。
元素分析：Ｃ１５Ｈ１８Ｎ６Ｏ７Ｆ２Ｓ２・１／２ＡｃＯＭｅについて
理論値：Ｃ３７．１５，Ｈ３．９７，Ｎ１５．７５，Ｆ７．１２，Ｓ１２．０２
実測値：Ｃ３６．９６，Ｈ３．９２，Ｎ１５．５５，Ｆ６．９８，Ｓ１１．９６
融点：７８℃
粉末Ｘ線回折パターンを表３、図２に示す。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）：３４９３，３２４９，３０４１，２９２５，２８５３，１７６５，１７３７，１７１１，１６６８，１６４３，１５４３，１４５７，１４４１，１４２０，１３９２，１３７６，１２４８，１２３１，１０８０，１０６２，１０４２，１０３０，８０５，７５１
１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）；δ ３．３６（３Ｈ，ｓ），３．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），３．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），３．７３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），４．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），４．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），４．３１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），４．５１（２Ｈ，ｓ），５．０６（２Ｈ，ｂｒｓ），７．３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５６．４Ｈｚ），９．２５（１Ｈ，ｓ）
ＮＭＲより酢酸メチル０．５分子分のピーク１．９８（３Ｈ，ｓ），３．５５（３Ｈ，ｓ）が観察される。
元素分析：Ｃ１５Ｈ１８Ｎ６Ｏ７Ｆ２Ｓ２・１／２ＡｃＯＭｅについて
理論値：Ｃ３７．１５，Ｈ３．９７，Ｎ１５．７５，Ｆ７．１２，Ｓ１２．０２
実測値：Ｃ３６．９６，Ｈ３．９２，Ｎ１５．５５，Ｆ６．９８，Ｓ１１．９６
融点：７８℃
粉末Ｘ線回折パターンを表３、図２に示す。
参考例１で得られる反応抽出残渣１０００ｍｇを酢酸メチル５ｍＬに加温溶解させた後、溶媒留去。残渣に酢酸メチル２ｍＬに加温溶解後、５℃にて１日間攪拌した。析出結晶を濾過、冷酢酸メチル２ｍＬで洗浄した。風乾し、実施例３同様、０．５酢酸メチル和物の結晶８３８ｍｇ（７８％）得た。
［図１］実施例１で得られたフロモキセフの１水和物結晶の粉末Ｘ線回折パターンを示す。
［図２］実施例３で得られたフロモキセフの０．５酢酸メチル和物結晶の粉末Ｘ線回折パターンを示す。
［図２］実施例３で得られたフロモキセフの０．５酢酸メチル和物結晶の粉末Ｘ線回折パターンを示す。
Claims (2)
- 粉末Ｘ線回折パターンにおいて、面間隔ｄ＝8.31, 7.00, 6.11, 5.43, 4.47, 4.35, 4.19, 4.15, 3.95, 3.81, 3.50, 3.32, 2.96（単位：オングストローム）に主なピークを有する、式：
- 粉末Ｘ線回折パターンにおいて、面間隔ｄ＝10.42, 6.32, 4.96, 4.62, 4.56, 4.36, 4.23, 3.97, 3.93, 3.79, 3.47, 2.79（単位：オングストローム）に主なピークを有する式：
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