JP4530083B2 - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents
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Description
本発明の電気光学装置は、基板上の有効領域には、第1電極と第2電極との間に挟まれた機能層を有する電気光学素子を備えた画素が複数配置されてなり、前記基板上の有効領域の外側には電源線が配置されてなり、前記複数の画素の各々の前記第1電極は、前記電源線に接続されてなり、前記第2電極は、電極用配線と接続されてなり、前記電源線は、前記基板の外周をなす複数の辺のうち第1の辺に沿って延在し、前記電極用配線は、前記第1の辺に沿って延在し、かつ前記第1の辺と前記有効領域との間に配置される第1電極用配線を有し、前記第1電極用配線は、前記第1の辺に沿って前記電源線と平面的に重なることを特徴とする。
また、本発明の電気光学装置は、上記の電気光学装置であって、前記電源線は、前記有効領域に最も近い第1電源線と、前記第1電源線とは異なる第2電源線と、を有し、前記第1電極用配線は、前記第2電源線の少なくとも1部分と平面的に重なることを特徴とする。
また、本発明の電気光学装置は、前記電源線は、前記有効領域に最も近い第1電源線と、前記有効領域から最も離れた第2電源線と、前記第1電源線と前記第2電源線とは異なる第3電源線と、を有し、前記第1電極用配線は、前記第2電源線と前記第3電源線の各々の少なくとも1部分が平面的に重なることを特徴とする。
また、本発明の電気光学装置は、前記電極用配線は、前記第1電極用配線とは異なる第2電極用配線を有し、前記第2電極用配線は、前記第2電源線の少なくとも1部分と平面的に重なることを特徴とする。
また、本発明の電気光学装置は、前記電極用配線は、前記第1電極用配線とは異なる第2電極用配線を有し、前記第2電極用配線は、前記第2電源線と前記第3電源線の各々の少なくとも1部分と平面的に重なることを特徴とする。
また、本発明の電気光学装置は、前記基板上に第1配線層と、前記第1配線層とは層間絶縁膜によって隔てられた第2配線層とを有する能動素子層を備え、前記第1電源線は、前記第1配線層に設けられた導電膜からなり、前記第1電極用配線は、前記第2配線層に設けられた導電膜からなることを特徴とする。
また、本発明の電気光学装置は、前記基板上に第1配線層と、前記第1配線層とは層間絶縁膜によって隔てられた第2配線層とを有する能動素子層を備え、前記第1電源線と前記第2電源線は、前記第1配線層に設けられた導電膜からなり、前記第1電極用配線は、前記第2配線層に設けられた導電膜からなることを特徴とする。
また、本発明の電気光学装置は、前記基板上に第1配線層と、前記第1配線層とは層間絶縁膜によって隔てられた第2配線層とを有する能動素子層を備え、前記第1電源線と前記第2電源線および前記第3電源線は、前記第1配線層に設けられた導電膜からなり、前記第1電極用配線は、前記第2配線層に設けられた導電膜からなることを特徴とする。
また、本発明の電気光学装置は、前記基板上に第1配線層と、前記第1配線層とは層間絶縁膜によって隔てられた第2配線層とを有する能動素子層を備え、前記第1電源線と前記第2電源線は、前記第1配線層に設けられた導電膜からなり、前記第1電極用配線と前記第2電極用配線は、前記第2配線層に設けられた導電膜からなることを特徴とする。
また、本発明の電気光学装置は、前記基板上に第1配線層と、前記第1配線層とは層間絶縁膜によって隔てられた第2配線層とを有する能動素子層を備え、前記第1電源線と前記第2電源線と前記第3電源線は、前記第1配線層に設けられた導電膜からなり、前記第1電極用配線と前記第2電極用配線は、前記第2配線層に設けられた導電膜からなることを特徴とする。
また、本発明の電気光学装置は、前記基板上に第1配線層と、前記第1配線層とは層間絶縁膜によって隔てられた第2配線層とを有する能動素子層を備え、前記電源線と前記第1電極を電気的に接続する接続用配線は、前記第2配線層に設けられた導電膜からなり、前記層間絶縁膜に設けられたコンタクト部を介して前記電源線と電気的に接続されていることを特徴とする。
また、本発明の電気光学装置は、前記基板上に第1配線層と、前記第1配線層とは層間絶縁膜によって隔てられた第2配線層とを有する能動素子層を備え、前記接続用配線は、有効領域に設けられた部分で、前記第2配線層に設けられた導電膜からなることを特徴とする。
このように、前記接続用配線のような同一の配線に線幅が互いに異なる部分を設けることにより、コンタクト部などにおける線幅や材質の差違等に由来する電圧降下や抵抗増加等による供給電流量の変動や不安定化を緩和することができる。
以下、本発明の電気光学装置及び電子機器の実施形態を図1ないし図10を参照して説明する。なお、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。
図1に示すように、本実施形態の表示装置(電気光学装置)1は、複数の走査線101と、走査線101に対して交差する方向に延びる複数のデータ線102と、データ線102に並列に延びる複数の接続用配線99とがそれぞれ配線された構成を有するとともに、走査線101及びデータ線102の交差部に対応して、画素領域Aが設けられている。
次に図4に、表示装置における表示領域の断面構造を拡大した図を示す。この図4には3つの画素領域Aが図示されている。この表示装置1は、基板2上に、TFTなどの回路等が形成された能動素子層14と、機能層110が形成された発光素子部11とが順次積層されて構成されている。
更に、有機物バンク層112bは、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性のある材料から形成されている。この有機物バンク層112bの厚さは、0.1〜3.5μmの範囲が好ましい。有機物バンク層112bの厚さを2μm以上にすれば、データ線102、あるいは走査線101など、信号を供給する信号配線と共通電極12とを十分離間することができるので信号配線と共通電極12との間に生ずる寄生容量を減ずることができるので、信号の遅延、鈍り等の問題を軽減することができる。
接続用配線99R、99G、及び99Bは有効領域2aに向かって略平行に延在しており、接続用配線99R、99G、及び99Bのそれぞれの、少なくとも1部分の幅を異ならせている。これは、安定的に電源電圧を供給するため、接続用配線99R、99G、及び99B、電源線103R、103G、103Bの十分な線幅を確保しておくと同時に、有効領域2aの画素のピッチに適合させて、接続用配線99R、99G、及び99Bのそれぞれの線幅を狭くしているためである。
次に、第2実施形態について述べる。図10に示した第2実施形態にかかる表示装置のレイアウトの、図2に示した第1実施形態のレイアウトとの主な相違点は、共通電極用配線12aの少なくとも1部分が、有効領域2aの周囲に設けられた電源線103R、103G、103Bのうち少なくとも一つの少なくとも1部分と平面視したときに重なる点である。共通電極用配線12aは、フレキシブル基板5が取り付けられた辺の側から、当該辺に対向する辺に向かって延在しており、基板2の外周をなす4辺のうち互いに対向する2辺と有効領域2aとの間に、それぞれ設けられており、一方の共通電極用配線12aは、電源線103Rと重なって配置されており、他方の共通電極用配線12aは、103G及び103Bの少なくとも1部分と重なって配置されている。
Claims (15)
- 基板上の有効領域には、第1電極と第2電極との間に挟まれた機能層を有する電気光学素子を備えた画素が複数配置されてなり、
前記基板上の有効領域の外側には電源線が配置されてなり、
前記複数の画素の各々の前記第1電極は、前記電源線に接続されてなり、
前記第2電極は、電極用配線と接続されてなり、
前記電源線は、前記基板の外周をなす複数の辺のうち第1の辺に沿って延在し、
前記電極用配線は、前記第1の辺に沿って延在し、かつ前記第1の辺と前記有効領域との間に配置される第1電極用配線を有し、
前記第1電極用配線は、前記第1の辺に沿って前記電源線と平面的に重なることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1に記載の電気光学装置において、
前記電源線は、前記有効領域に最も近い第1電源線と、前記第1電源線とは異なる第2電源線と、を有し、
前記第1電極用配線は、前記第2電源線の少なくとも1部分と平面的に重なることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1に記載の電気光学装置において、
前記電源線は、前記有効領域に最も近い第1電源線と、前記有効領域から最も離れた第2電源線と、前記第1電源線と前記第2電源線とは異なる第3電源線と、を有し、
前記第1電極用配線は、前記第2電源線と前記第3電源線の各々の少なくとも1部分が平面的に重なることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項2又は3に記載の電気光学装置において、
前記電極用配線は、前記第1電極用配線とは異なる第2電極用配線を有し、
前記第2電極用配線は、前記第2電源線の少なくとも1部分と平面的に重なることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項3に記載の電気光学装置において、
前記電極用配線は、前記第1電極用配線とは異なる第2電極用配線を有し、
前記第2電極用配線は、前記第2電源線と前記第3電源線の各々の少なくとも1部分と平面的に重なることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1に記載の電気光学装置において、
前記基板上に第1配線層と、前記第1配線層とは層間絶縁膜によって隔てられた第2配線層とを有する能動素子層を備え、
前記第1電源線は、前記第1配線層に設けられた導電膜からなり、
前記第1電極用配線は、前記第2配線層に設けられた導電膜からなることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項2に記載の電気光学装置において、
前記基板上に第1配線層と、前記第1配線層とは層間絶縁膜によって隔てられた第2配線層とを有する能動素子層を備え、
前記第1電源線と前記第2電源線は、前記第1配線層に設けられた導電膜からなり、
前記第1電極用配線は、前記第2配線層に設けられた導電膜からなることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項3に記載の電気光学装置において、
前記基板上に第1配線層と、前記第1配線層とは層間絶縁膜によって隔てられた第2配線層とを有する能動素子層を備え、
前記第1電源線と前記第2電源線および前記第3電源線は、前記第1配線層に設けられた導電膜からなり、
前記第1電極用配線は、前記第2配線層に設けられた導電膜からなることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項4に記載の電気光学装置において、
前記基板上に第1配線層と、前記第1配線層とは層間絶縁膜によって隔てられた第2配線層とを有する能動素子層を備え、
前記第1電源線と前記第2電源線は、前記第1配線層に設けられた導電膜からなり、
前記第1電極用配線と前記第2電極用配線は、前記第2配線層に設けられた導電膜からなることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項5に記載の電気光学装置において、
前記基板上に第1配線層と、前記第1配線層とは層間絶縁膜によって隔てられた第2配線層とを有する能動素子層を備え、
前記第1電源線と前記第2電源線と前記第3電源線は、前記第1配線層に設けられた導電膜からなり、
前記第1電極用配線と前記第2電極用配線は、前記第2配線層に設けられた導電膜からなることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至10に記載の電気光学装置において、
前記基板上に第1配線層と、前記第1配線層とは層間絶縁膜によって隔てられた第2配線層とを有する能動素子層を備え、
前記電源線と前記第1電極を電気的に接続する接続用配線は、前記第2配線層に設けられた導電膜からなり、
前記層間絶縁膜に設けられたコンタクト部を介して前記電源線と電気的に接続されていることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項11に記載の電気光学装置において、
前記基板上に第1配線層と、前記第1配線層とは層間絶縁膜によって隔てられた第2配線層とを有する能動素子層を備え、
前記接続用配線は、有効領域に設けられた部分で、前記第2配線層に設けられた導電膜からなることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至12のいずれかに記載の電気光学装置において、
前記複数の画素の各々は、前記第1電極と前記接続用配線との間に設けられたトランジスタを有しており、
前記トランジスタのゲート電極は、前記第1配線層に設けられた導電膜からなり、
前記トランジスタのソース又はドレイン電極は、前記第2配線層に設けられた導電膜からなることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至13のいずれかに記載の電気光学装置において、
前記機能層は、有機エレクトロルミネッセンス材料から構成されていることを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1乃至14いずれかに記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
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