JP4525647B2 - 多層光記録媒体 - Google Patents

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Description

本発明は３層以上の記録層を備える多層光記録媒体に関する。
情報記録媒体としてＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ Ｄｉｓｃ）、ＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｃ）等の光記録媒体が広く利用されている。更に、近年、照射光として青色又は青紫色のレーザ光を用いることで、従来よりも大容量の情報を記録可能とした光記録媒体が注目されている。
又、光記録媒体は、データの追記や書き換えができないＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）型、データの書き換えができるＲＷ（Ｒｅｗｒｉｔａｂｌｅ）型、データを１回だけ追記できるＲ（Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ）型に大別される。
Ｒ型の光記録媒体及びＲＷ型の光記録媒体は、記録層にレーザ光が照射されて周囲のスペース部と反射率が異なる記録マークが形成されることでデータが記録される。一般的に光記録媒体は、記録層にレーザ光が照射されて記録マークの反射率とスペース部の反射率との差がフォトディテクタで検出されることでデータが再生される。
このような光記録媒体は複数の記録層を備えることで、それだけ記録容量を高めることが可能である。複数の記録層を備えるＲ型の光記録媒体又はＲＷ型の光記録媒体にデータを記録する場合、記録用のレーザ光の焦点を記録対象の記録層に合うように調整することで記録対象の記録層に選択的にデータを記録することができる。又、再生用のレーザ光の焦点を再生対象の記録層に合うように調整することで、選択的に再生対象の記録層のデータを再生することができる。さらに、３層以上の記録層を有する多層記録媒体では、透過率と記録感度の観点からもっとも奥側の記録層であるためレーザ光の透過が必要にならないＬ０層を除く各記録層における記録膜の、使用されるレーザ光における消衰係数は０．５以下であることが好ましい。
このような複数の記録層を備えるＲ型の光記録媒体及びＲＷ型の光記録媒体は、各記録層の記録感度が実質的に同等であり、これによりそれぞれの記録層に情報を記録するときのレーザ光の最適記録パワーが実質的に同等であることが好ましい。
しかしながら、レーザ光の入射面に対して奥（遠い）側に配置された記録層にレーザ光が照射されるときには、該記録層よりもレーザ光の入射面側の記録層による吸収や反射があるため、該記録層に到達するレーザ光の光量はそれだけ減少することとなり、奥側の記録層ほど記録感度は悪くなる。従って、奥側に配置された記録層、特にレーザ光の入射面から最も遠い側に配置された記録層に対して情報を記録するためには、該記録層よりもレーザ光の入射面側の記録層に対して情報を記録するときに照射されるレーザ光の記録パワーよりも高い記録パワーのレーザ光を照射することが必要となってしまう。この問題は、複数の層、特に記録層の数が３層以上になると顕著になる。
本発明の目的は、大容量化のために光記録媒体を多層にした場合でも、各記録層の記録感度が実質的に同等であるようにすること、また、これにより各記録層に対するレーザ光の最適記録パワーが実質的に同等であるようにし、レーザ光の入射面に対して奥側に配置された記録層、特にレーザ光の入射面から最も遠い側に配置された記録層に情報を記録するときに必要なレーザ光の記録パワーが過大とならないようにすることにある。
本発明者は、鋭意研究の結果、３層以上の多層光記録媒体の全ての隣接する記録層において、レーザ光の入射面から遠い側の記録層の記録膜の記録反応の温度が、レーザ光の入射面に近い側の記録層の記録膜の記録反応の温度以下となるようにそれぞれの記録層に用いられる記録膜材料を選択し、かつ、レーザ光の入射面から最も遠い側に配置された記録層の記録膜の記録反応の温度が、レーザ光の入射面に最も近い側に配置された記録層の記録膜の記録反応の温度よりも低くなるように、それぞれの記録層に用いられる記録膜材料を選択することにより、それぞれの記録層の記録感度を同等にし、これによりレーザ光の入射面に対して奥側に配置された記録層、特にレーザ光の入射面に最も遠い側に配置された記録層に情報を記録するときに必要な最適記録パワーが過大とならないようにできることを見出した。
また、全ての隣接する記録層において、レーザ光の入射面から遠い側の記録層の、非積層状態での記録波長のレーザ光に対する吸収率が、レーザ光の入射面に近い側の記録層の、非積層状態での記録波長のレーザ光に対する吸収率以上となるようにそれぞれの記録層の膜構造を形成し、かつ、レーザ光の入射面から最も遠い側に配置された記録層の、非積層状態での記録波長のレーザ光に対する吸収率が、レーザ光の入射面に最も近い側に配置された記録層の、非積層状態での記録波長のレーザ光に対する吸収率よりも高くなるようにそれぞれの記録層の膜構造を形成することにより、それぞれの記録層の記録感度を同等にし、これによりレーザ光の入射面に対して奥側に配置された記録層、特にレーザ光の入射面に最も遠い側に配置された記録層に情報を記録するときに必要な最適記録パワーが過大とならないようにできることを見出した。
即ち、以下の実施例により上記課題を解決することができる。
（１）レーザ光の入射面から最も遠い側から、前記レーザ光の入射面に最も近い側に向かって、Ｌ０層、Ｌ１層、・・・、Ｌｎ−１層の３層以上の記録層及び各記録層間に厚さ５μｍ以上のスペーサ層を有し、それぞれの記録層にレーザ光が照射され、記録マークが形成されることにより情報が記録される多層光記録媒体であって、それぞれの記録層における記録膜の記録反応の温度Ｔ０、Ｔ１、・・・、Ｔｎ−１が、Ｔ０≦Ｔ１≦・・・≦Ｔｎ―１かつＴ０＜Ｔｎ−１であることを特徴とする多層光記録媒体。
（２）前記Ｌ０層を除くそれぞれの記録層における記録膜の、前記レーザ光における消衰係数が０．５以下であることを特徴とする（１）に記載の多層光記録媒体。
（３）それぞれの記録層に対するレーザ光の最適記録パワーＰ０、Ｐ１、・・・、Ｐｎ−１のうち、最大値と最小値の差が前記最大値の２０％以内であることを特徴とする（１）又は（２）に記載の多層光記録媒体。
なお、本出願において、「レーザ光の最適記録パワーが実質的に同等」とは、各記録層に対するレーザ光の最適記録パワーのうち、最大値と最小値の差が最大値の２０％以内であることを意味し、各記録層に対するレーザ光の最適記録パワーが完全に一致する場合に限定されない。
本発明によれば、３層以上の記録層を備え、それぞれの記録層の記録感度が同等であり、これにより、それぞれの記録層に記録をする際の、レーザ光の最適記録パワーが実質的に同等である多層光記録媒体を実現することができる。
最良の形態に係る多層光記録媒体は、レーザ光の入射面から最も遠い側から、前記レーザ光の入射面に最も近い側に向かって、Ｌ０層、Ｌ１層、・・・、Ｌｎ−１層の３層以上の記録層を有し、それぞれの記録層にレーザ光が照射され、記録マークが形成されることにより情報が記録され、それぞれの記録層における記録膜の記録反応の温度Ｔ０、Ｔ１、・・・、Ｔｎ−１が、Ｔ０≦Ｔ１≦・・・≦Ｔｎ―１かつＴ０＜Ｔｎ−１である。
また、他の最良の形態に係る多層光記録媒体は、レーザ光の入射面から最も遠い側から、前記レーザ光の入射面に最も近い側に向かって、Ｌ０層、Ｌ１層、・・・、Ｌｎ−１層の３層以上の記録層を有し、それぞれの記録層にレーザ光が照射され、記録マークが形成されることにより情報が記録され、それぞれの記録層の、非積層状態における、前記レーザ光に対する吸収率Ａ０、Ａ１、・・・、Ａｎ−１が、Ａ０≧Ａ１≧・・・≧Ａｎ―１かつＡ０＞Ａｎ−１である。
次に、図１を参照して、本発明の実施例１に係る多層光記録媒体１０について詳細に説明する。
この多層光記録媒体１０は、外径が１２０ｍｍ、厚さが約１．２ｍｍの円板形状で、基板２２と、この基板２２におけるレーザ光（図１において矢印で示される）の入射面１８側（図１において上側）に設けられた第１の記録層（Ｌ０層）１２と、このＬ０層１２よりもレーザ光の入射面１８側に設けられた第２の記録層（Ｌ１層）１４と、このＬ１層１４よりも更にレーザ光の入射面１８側に設けられた第３の記録層（Ｌ２層）１６と、を有してなり、Ｌ０層１２と、Ｌ１層１４の間、及び、Ｌ１層１４とＬ２層１６の間にはスペーサ層２６が設けられ、また、Ｌ２層１６のレーザ光の入射側には光透過層２４が設けられている。
基板２２は、厚さが約１．１ｍｍで、その光透過層２４側の面にはグルーブを構成する凹凸パターンが形成されている。尚、「グルーブ」という用語は一般的にはデータの記録／再生のために使用される凹部という意味で用いられるが、データの記録／再生のために使用される部位が光透過層２４側に突出する凸部であっても本出願では便宜上「グルーブ」という用語を用いることとする。尚、基板２２の材料としてはポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂やガラス等、あるいは基板をレーザ光が透過する必要がない場合は各種金属を用いることができる。
光透過層２４は、厚さが例えば３０〜１５０μｍである。光透過層２４の材料としては透光性を有するアクリル系紫外線硬化性樹脂、エポキシ系紫外線硬化性樹脂等のエネルギ線硬化性樹脂を用いることができる。ここで、「エネルギ線」という用語は、流動状態の特定の樹脂を硬化させる性質を有する、例えば紫外線、電子線等の電磁波、粒子線の総称という意義で用いることとする。尚、光透過層２４を形成する方法としては、流動性を有する樹脂を基板上に塗布してからエネルギ線を照射して硬化させてもよく、予め作製した透光性のフィルムを基板上に貼り付けてもよい。
スペーサ層２６は、厚さが例えば５〜９０μｍ程度であり、両面が基板２２と同様のグルーブの凹凸パターンとなっている。尚、スペーサ層２６の材料としては光透過層２４と同様に、透光性を有するアクリル系紫外線硬化性樹脂、エポキシ系紫外線硬化性樹脂等のエネルギ線硬化性樹脂を用いることができる。
Ｌ０層１２は、基板２２の凹凸パターンに倣って凹凸パターンで形成されている。又、Ｌ１層１４及びＬ２層１６も、スペーサ層２６の凹凸パターンに倣って凹凸パターンで形成されている。
各記録層の構造を以下に述べる。
Ｌ０層１２は記録膜材料として、Ｓｉ及びＣｕを用い、Ｓｉ層とＣｕ層とを積層した構成とした。尚、Ｃｕ層が基板２２側、Ｓｉ層が光透過層２４側である。
Ｌ０層１２のＳｉ層、Ｃｕ層の厚さはいずれも６ｎｍとした。尚、積層したＳｉ層とＣｕ層の両側には、材料がＺｎＳとＳｉＯ2の混合物（混合比（分子数）ＺｎＳ：ＳｉＯ2＝８０：２０）である誘電体層を設けた。各誘電体層の厚さは、４０ｎｍとした。又、基板２２側の誘電体層と基板２２との間には、材料がＡｇＰｄＣｕ合金である反射層を設けた。反射層の厚さは１００ｎｍとした。
Ｌ１層１４は記録膜材料としてＢｉＯ２．４５を用いた。ＢｉＯ２．４５の層の厚さは、３０ｎｍとし、ＢｉＯ２．４５層の両側には、材料がＴｉＯ2である誘電体層を設けた。この誘電体層の厚さは、それぞれ１３ｎｍとした。
Ｌ２層１６は記録膜材料としてＰｔＯ１．８を用いた。ＰｔＯ１．８層の厚さは４０ｎｍとした。各記録層の記録膜材料はＬ０層：Ｓｉ／Ｃｕ、Ｌ１層：ＢｉＯ２．４５、Ｌ２層：ＰｔＯ１．８であり、これにより、各記録層における記録膜の記録反応の温度Ｔ０、Ｔ１、Ｔ２をそれぞれ、Ｔ０：１５０℃、Ｔ１：３００℃、Ｔ２：５９０℃と設定した。
したがって、本実施例では、各記録層における記録膜の記録反応の温度、Ｔ０、Ｔ１、Ｔ２の関係はＴ０＜Ｔ１＜Ｔ２となる。記録膜の記録反応温度は例えば、Ｓｉやガラスなどからなる耐熱基板に、記録膜材料（本実施例の場合は、Ｓｉ／Ｃｕ、ＢｉＯ２．４５、ＰｔＯ１．８）を含む構造を成膜し、加熱による温度上昇によって反射率あるいは透過率が変化する温度を測定することによって測定することができる。他にも、Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｔｈｅｒｍａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ（ＤＴＡ）やＤｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ（ＤＳＣ）といった各種の熱分析法を用いることもできる．記録膜材料が酸化物である場合は、熱的脱離反応（Ｔｈｅｒｍａｌ Ｄｅｓｏｒｐｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＴＤＳ）によって測定することもできる。
本実施例における各層の最適記録パワーは、Ｌ０層：８．４ｍＷ、Ｌ１層：９．６ｍＷ、Ｌ２層：１０．０ｍＷであった。
なお、本実施例においては、Ｔ０＜Ｔ１＜Ｔ２であるが、Ｔ０＜Ｔ２であればよく、Ｔ０＝Ｔ１＜Ｔ２もしくはＴ０＜Ｔ１＝Ｔ２であってもよい。この場合、等号で結ばれた隣接する記録層に用いられる記録膜材料は同じであるが、次に述べる実施例２のように、異なる膜構造を形成することによって、多層状態での記録感度を同等にすることができる。
次に図２を参照して、本発明の実施例２に係る多層光記録媒体３０について詳細に説明する。
この多層光記録媒体３０は、実施例１に係る多層光記録媒体１０に対し、Ｌ０層３２、Ｌ１層３４、Ｌ２層３６に加えて第４の記録層（Ｌ３層）３８の４層の記録層を備える構成である。他の構成については、実施例１と同一符号を用いることとして説明を適宜省略することとする。
Ｌ０層３２、Ｌ１層３４、Ｌ２層３６及びＬ３層３８は、この順で基板２２からレーザ光の入射面１８の方向に並んで配置されている。Ｌ０層３２、Ｌ１層３４、Ｌ２層３６及びＬ３層３８の間には、それぞれスペーサ層２６が設けられ、また、Ｌ３層３８のレーザ光の入射側には光透過層２４が設けられている。
各記録層の構造を以下に述べる。Ｌ０層３２、Ｌ１層３４、Ｌ２層３６、Ｌ３層３８ともに、記録膜材料としてＢｉＯ２．４５を用いた。
Ｌ０層３２は、ＢｉＯ２．４５層の厚さは、４５ｎｍとし、ＢｉＯ２．４５層の両側には、材料がＴｉＯ2である誘電体層を設けた。この誘電体層の厚さは、それぞれ７ｎｍとした。
Ｌ１層３４は、ＢｉＯ２．４５層の厚さは、３４ｎｍとし、ＢｉＯ２．４５層の両側には、材料がＴｉＯ2である誘電体層を設けた。この誘電体層の厚さは、それぞれ１６ｎｍとした。
Ｌ２層３６は、ＢｉＯ２．４５層の厚さは、２４ｎｍとし、ＢｉＯ２．４５層の両側には、材料がＴｉＯ2である誘電体層を設けた。この誘電体層の厚さは、それぞれ２２ｎｍとした。
Ｌ３層３８は、ＢｉＯ２．４５層の厚さは、２０ｎｍとし、ＢｉＯ２．４５層の両側には、材料がＴｉＯ2である誘電体層を設けた。この誘電体層の厚さは、それぞれ２５ｎｍとした。
これにより、各記録層の、非積層状態での記録波長のレーザ光に対する吸収率Ａ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３をＡ０：２０．０％、Ａ１：１５．６％、Ａ２：１３．１％、Ａ３：１１．０％と設定した。したがって、本実施例では、各記録層の、非積層状態での記録波長のレーザ光に対する吸収率Ａ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の関係は、Ａ０＞Ａ１＞Ａ２＞Ａ３となる。この吸収率は、例えばエリプソメータや分光器などで測定することにより求めることができる。
本実施例における、最適記録パワーは、Ｌ０層：９．８ｍＷ、Ｌ１層：１０．０ｍＷ、Ｌ２層：９．６ｍＷ、Ｌ３層：１０．０ｍＷであった。
なお、本実施例においては、Ａ０＞Ａ１＞Ａ２＞Ａ３であるが、Ａ０＞Ａ３であればよく、Ａ０＝Ａ１＞Ａ２＞Ａ３でも、Ａ０＞Ａ１＝Ａ２＞Ａ３でもよい。この場合、等号で結ばれた隣接する記録層の非積層状態での記録波長のレーザ光に対する吸収率は同じであるが、前記実施例１のように、異なる記録膜材料を選択することによって、多層状態での記録感度を同等にすることができる。
次に図３を参照して、本発明の実施例３に係る多層光記録媒体４０について詳細に説明する。
この多層光記録媒体４０は、実施例２に係る多層光記録媒体３０と同様に、Ｌ０層４２、Ｌ１層４４、Ｌ２層４６及びＬ３層４８の４層の記録層を備える構成である。他の構成については、実施例２と同一符号を用いることとして説明を適宜省略することとする。
Ｌ０層４２、Ｌ１層４４、Ｌ２層４６及びＬ３層４８は、この順で基板２２からレーザ光の入射面１８の方向に並んで配置されている。Ｌ０層４２、Ｌ１層４４、Ｌ２層４６及びＬ３層４８の間には、それぞれスペーサ層２６が設けられ、また、Ｌ３層４８のレーザ光の入射側には光透過層２４が設けられている。
各記録層の構造を以下に述べる。
Ｌ０層４２は記録膜材料として、Ｓｉ及びＣｕを用い、Ｓｉ層とＣｕ層とを積層した構成とした。尚、Ｃｕ層が基板２２側、Ｓｉ層が光透過層２４側である。
Ｌ０層４２のＳｉ層、Ｃｕ層の厚さはいずれも６ｎｍとした。尚、積層したＳｉ層とＣｕ層の両側には、材料がＺｎＳとＳｉＯ2の混合物（混合比（分子数）ＺｎＳ：ＳｉＯ2＝８０：２０）である誘電体層を設けた。各誘電体層の厚さは、４０ｎｍとした。又、基板２２側の誘電体層と基板２２との間には、材料がＡｇＰｄＣｕ合金である反射層を設けた。反射層の厚さは１００ｎｍとした。
Ｌ１層４４及びＬ２層４６は記録膜材料として、ＢｉＯ２．４５を用いた。Ｌ１層４４は、ＢｉＯ２．４５層の厚さは２２ｎｍとし、ＢｉＯ２．４５層の両側には、材料がＴｉＯ2である誘電体層を設けた。この誘電体層の厚さは、それぞれ２４ｎｍとした。
Ｌ２層４６は、ＢｉＯ２．４５層の厚さは２０ｎｍとし、ＢｉＯ２．４５層の両側には、材料がＴｉＯ2である誘電体層を設けた。この誘電体層の厚さは、それぞれ２５ｎｍとした。
Ｌ３層４８は、記録膜材料としてＰｔＯ１．８を用いた。ＰｔＯ１．８層の厚さは４０ｎｍとした。
各記録層の記録膜材料は、Ｌ０層：Ｓｉ／Ｃｕ、Ｌ１層：ＢｉＯ２．４５、Ｌ２層：ＢｉＯ２．４５、Ｌ３層：ＰｔＯ１．８であり、これにより、各記録層における記録膜の記録反応の温度Ｔ０、Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３をそれぞれ、Ｔ０：１５０℃、Ｔ１：３００℃、Ｔ２：３００℃、Ｔ３：５９０℃と設定した。したがって、本実施例では、各記録層における記録膜の記録反応の温度Ｔ０、Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３の関係は、Ｔ０＜Ｔ１＝Ｔ２＜Ｔ３となる。
Ｌ１層とＬ２層の膜構造の、非積層状態でのレーザ光の波長に対する吸収率Ａ１、Ａ ２ はＡ１：１２．０％、Ａ２：１１．０％であり、Ａ１＞Ａ２となる。
本実施例における最適記録パワーは、Ｌ０層：１０．２ｍＷ、Ｌ１層：１０．７ｍＷ、Ｌ２層：１１．２ｍＷ、Ｌ３層：１０．０ｍＷであった。
〔比較例１〕
上記実施例１乃至３に対し、全ての記録層の記録膜の記録反応の温度、及び、全ての記録層の、非積層状態での記録波長のレーザ光に対する吸収率が同一である多層光記録媒体を作製した。
この多層光記録媒体は、Ｌ０層、Ｌ１層、Ｌ２層、Ｌ３層を備える構成である。記録膜材料としてＢｉＯ２．４５を用いた。
各記録層は全て同じ構造とした。その構造を以下に述べる。
ＢｉＯ２．４５層の厚さは３０ｎｍとし、ＢｉＯ２．４５層の両側には、材料がＴｉＯ2である誘電体層を設けた。この誘電体層の厚さは、それぞれ１３ｎｍとした。
最適記録パワーはＬ０層：１５．８ｍＷ、Ｌ１層１３．６ｍＷ、Ｌ２層：１１．７ｍＷ、Ｌ３層：１０．０ｍＷであった。
〔比較例２〕
上記実施例１に対し、記録層の積層の順番を逆にした多層光記録媒体を作製した。本比較例での、各記録層における記録膜の記録反応の温度Ｔ０、Ｔ１、Ｔ２の関係は、Ｔ０＞Ｔ１＞Ｔ２となる。本比較例における最適記録パワーは、Ｌ１層：１０．０ｍＷ、Ｌ２層：４．３ｍＷであった。Ｌ０層は測定機の上限である１６．０ｍＷで記録しても十分な特性が得られなかったため、１６ｍＷより大きい値であると考えられる。
〔比較例３〕
上記実施例２に対し、記録層の積層の順番を逆にした多層光記録媒体を作製した本比較例での、各記録層の非積層状態における記録波長のレーザ光に対する吸収率Ａ０、Ａ１、Ａ２、Ａ３の関係は、Ａ０ ＜Ａ１ ＜Ａ２ ＜Ａ３となる。本比較例における最適記録パワーは、Ｌ１層：１５．０ｍＷ、Ｌ２層：１０．１ｍＷ、Ｌ３層：５．５ｍＷであった。Ｌ０層は測定機の上限である１６．０ｍＷで記録しても十分な特性が得られなかったため、１６ｍＷより大きい値であると考えられる。
以上より、実施例１〜３の多層光記録媒体はいずれも、各記録層に対するレーザ光の最適記録パワーは実質的に同等であり、レーザ光の入射面に対して奥側に配置された記録層、特にレーザ光の入射面から最も遠い側に配置された記録層に情報を記録するときに必要なレーザ光の記録パワーが過大とならないようにすることができた。即ち、実施例１〜３の多層光記録媒体は、各記録層の記録感度が実質的に同等であるようにすることができた。
また、実施例３では、実施例１と実施例２を組み合わせた多層光記録媒体でも、各記録層の記録感度を実質的に同等とすることができた。
これに対し、比較例１〜３の多層光記録媒体はいずれも各記録層に対するレーザ光の最適記録パワーが実質的に同等でなく、レーザ光の入射面から最も遠い側に配置された記録層に対する最適記録パワーが過大である。即ち、比較例１〜３の多層光記録媒体は、各記録層の記録感度が著しく異なる。
以上のように、本発明によれば、３層以上の記録層を有し、それぞれの記録層の記録感度が実質的に同等であり、さらに、それぞれの記録層に記録をする際の、レーザ光の最適記録パワーが実質的に同等である多層光記録媒体を実現することができる。
なお、実施例１〜３において、多層光記録媒体１０、３０、４０は片面のみに記録層を備える片面記録式であるが、本発明は両面に記録層を備える両面記録式の多層光記録媒体に対しても適用可能である。
また、実施例１〜３の多層光記録媒体１０、３０、４０は、Ｒ型の光記録媒体であるが、本発明はＲＷ型の光記録媒体に対しても適用可能である。
本発明の実施例１に係る多層光記録媒体の全体構造を模式的に示す側断面図 本発明の実施例２に係る多層光記録媒体の全体構造を模式的に示す側断面図 本発明の実施例３に係る多層光記録媒体の全体構造を模式的に示す側断面図
符号の説明
１０、３０、４０…多層光記録媒体
１２、３２、４２…第１の記録層（Ｌ０層）
１４、３４、４４…第２の記録層（Ｌ１層）
１６、３６、４６…第３の記録層（Ｌ２層）
１８…入射面
２０…フォトディテクタ
２２…基板
２４…光透過層
２６…スペーサ層
３８、４８…第４の記録層（Ｌ３層）

Claims (3)

  1. レーザ光の入射面から最も遠い側から、前記レーザ光の入射面に最も近い側に向かって、Ｌ０層、Ｌ１層、・・・、Ｌｎ−１層の３層以上の記録層及び各記録層間に厚さ５μｍ以上のスペーサ層を有し、それぞれの記録層にレーザ光が照射され、記録マークが形成されることにより情報が記録される多層光記録媒体であって、
    それぞれの記録層における記録膜の記録反応の温度Ｔ０、Ｔ１、・・・、Ｔｎ−１が、Ｔ０≦Ｔ１≦・・・≦Ｔｎ―１かつＴ０＜Ｔｎ−１であることを特徴とする多層光記録媒体。
  2. 請求項１において、
    前記Ｌ０層を除くそれぞれの記録層における記録膜の、前記レーザ光における消衰係数が０．５以下であることを特徴とする多層光記録媒体。
  3. 請求項１又は２において、
    それぞれの記録層に対するレーザ光の最適記録パワーＰ０、Ｐ１、・・・、Ｐｎ−１のうち、最大値と最小値の差が前記最大値の２０％以内であることを特徴とする多層光記録媒体。
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