JP2004253086A - 2層記録層型光記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(1)基板上に、樹脂中間層を介して2組の記録層構成体を積層し、レーザ光を照射して2組の記録層構成体にそれぞれ記録、再生を行う光記録媒体であって、第1及び第2記録層構成体は何れも色素層と半透明層の積層体であり、少なくとも最初にレーザ光が入射する第1記録層構成体は、レーザ光入射側からみて色素層と半透明層がこの順に積層されている2層記録層型光記録媒体。
(2)第1及び第2記録層構成体の半透明層の少なくとも一方をAg又はAg合金層に変えるか、或いは、第1及び第2記録層構成体の少なくとも一方の色素層と半透明層の間にAg又はAg合金層を設けた(1)記載の2層記録層型光記録媒体。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ビームを照射することにより、記録材料の透過率、反射率等の光学的な変化を生じさせ、情報の記録、再生を行ない、且つ追記が可能な光記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
レーザ照射により色素層に穴あきや変形等を起させ、記録部分と未記録部分の反射率差を利用して情報の記録再生を行う追記型光記録媒体が知られている。現在実用化されているのは、未記録状態を低反射状態とし、穴あきの記録マーク部分を隣接する高反射金属層により高反射状態にするものが一般的である。
例えば、有機色素薄膜にフタロシアニン化合物を使用したもの(特許文献1など)、シアニン系色素を使用したもの(特許文献2など)、フェナレトレン系色素、ナフトキノン系色素を使用したものなどが知られている。
更に、基板上に有機色素、金属反射層、UV樹脂保護層を順次積層した追記型コンパクトディスク(CD−R)は、CD規格を満足させるために高い反射率を必要とすることから、再生波長域(770〜830nm)に高い屈折率を有し、且つ安定性の高い有機色素の開発が必要である(DVDの追記型ディスクのDVD±Rは再生波長630〜680nm)。これまでにCD−R及びDVD±Rとして、シアニン色素/金属反射層、フタロシアニン色素/金属反射層、アゾ金属キレート色素/金属反射層などを用いた数多くの提案がなされている。例えば、シアニン色素/金属反射層を用いたものには、特許文献3〜6等が、フタロシアニン色素を用いたものには、特許文献7〜15等が、アゾ金属キレート色素を用いたものには、特許文献16〜19等がある。
【0003】
一方、1枚の光ディスクの記憶容量を増加するため、複数データ層システムが提案されている。2枚又はそれ以上のデータ層を有する光ディスクでは、レンズの焦点を変更することによって様々な層にアクセスすることができる。
例えば特許文献20(IBM)には複数データ層光ディスク・ドライブ・システムが記載されているが、その光ディスクは、それぞれがエア・ギャップで間隔を設けたデータ層を備えた複数の基板か、又は固体構造の複数のデータ層の何れかを含む。特許文献21(U.S.Philips社)では複数のデータ層を備えた固体構造を使用し、それぞれのデータ層はCDタイプのデータ層である。
また、特許文献22〜23には色素層又は相変化膜のみからなる記録層を有する光記録媒体が開示されているが、反射率やDVD等との互換性を考慮した層構成ではない。即ち、実施形態1として、記録薄膜層と誘電体層を接して設けることにより、繰返し記録時の薄膜の劣化を防止し、記録情報の光学的な変化を大きく設定できることが記載されているが、色素層を2層設けることは全く考慮されていない。
また、特許文献24〜25は無機材料からなる記録層を2層設けたものである。
【0004】
以上のように多数の公知技術はあるが、実際には実用化に至らなかったものや、反射率等の互換性を考慮していないものばかりである。
例えば、基板上に有機色素層、金属反射層、UV樹脂保護層を順次積層した従来の層構成では、金属反射層のAgの膜厚が100nm程度であり、赤色LD波長(630〜800nm)又は青色LD波長(360〜430nm)では光が殆ど透過せず、記録層を2層構成にすることは不可能である。
また、色素材料はCD世代から使用されているが、使用レーザ波長で吸収させるように設計されているため、レーザを透過させると同時に吸収させる必要があり、色素材料を多層化させる技術は技術的困難性が高く、まだ開発が完了していない。
【0005】
【特許文献1】
特開昭58−183296号公報
【特許文献2】
特開昭57−82093号公報
【特許文献3】
特開平1−159842号公報
【特許文献4】
特開平2−42652号公報
【特許文献5】
特開平2−13656号公報
【特許文献6】
特開平2−168446号公報
【特許文献7】
特開平1−176585号公報
【特許文献8】
特開平3−215466号公報
【特許文献9】
特開平4−113886号公報
【特許文献10】
特開平4−226390号公報
【特許文献11】
特開平5−1272号公報
【特許文献12】
特開平5−171052号公報
【特許文献13】
特開平5−116456号公報
【特許文献14】
特開平5−69860号公報
【特許文献15】
特開平5−139044号公報
【特許文献16】
特開平4−46186号公報
【特許文献17】
特開平4−141489号公報
【特許文献18】
特開平4−361088号公報
【特許文献19】
特開平5−279580号公報
【特許文献20】
米国特許第5202875号明細書
【特許文献21】
米国特許第4450553号明細書
【特許文献22】
国際公開00/016320号パンフレット
【特許文献23】
国際公開00/023990号パンフレット
【特許文献24】
特開2001−084643号公報
【特許文献25】
特開2001−10709号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
従来の色素を用いた追記型光記録媒体においては、反射率を高くするため及び小さい記録マークを記録するため色素層に隣接して金属層を設ける関係上、2層以上の記録層を有する多層記録層型光記録媒体は実現されていない。
本発明は、従来技術における記録層の多層化、特に2層化の問題を解決し、光記録媒体の冷却能の向上を図り、記録容量を従来の2倍とすることができる光透過形の2層記録層型光記録媒体、更には、赤色レーザのみならず、青色レーザなど短波長の低出力光に対しても、ジッタなどのノイズが発生せず、アーカイバル特性も良好で高密度記録可能な2層記録層型光記録媒体の提供を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、次の1)〜8)の発明(以下、本発明1〜8という)によって解決される。
1) 基板上に、樹脂中間層を介して2組の記録層構成体を積層し、レーザ光を照射して2組の記録層構成体にそれぞれ記録、再生を行う光記録媒体であって、第1及び第2記録層構成体は何れも色素層と半透明層の積層体であり、少なくとも最初にレーザ光が入射する第1記録層構成体は、レーザ光入射側からみて色素層と半透明層がこの順に積層されていることを特徴とする2層記録層型光記録媒体。
2) 第2記録層構成体と樹脂中間層の間に保護層を形成したことを特徴とする1)記載の2層記録層型光記録媒体。
3) 半透明層が、In2O3、ZnO、ZrO、Ti2O3、SnO、SnO2、Al2O3、SiO2の中から選ばれた少なくとも1種を含むことを特徴とする1)又は2)記載の2層記録層型光記録媒体。
4) 第1及び第2記録層構成体の半透明層のうち少なくとも一方をAg又はAg合金層に変えたことを特徴とする1)〜3)の何れかに記載の2層記録層型光記録媒体。
5) 第1及び第2記録層構成体の少なくとも一方の色素層と半透明層の間にAg又はAg合金層を設けたことを特徴とする1)〜4)の何れかに記載の2層記録層型光記録媒体。
6) 第1記録層構成体のAg又はAg合金層の膜厚が5〜20nmであることを特徴とする4)又は5)記載の2層記録層型光記録媒体。
7) 反射率が15〜30%であることを特徴とする1)〜6)の何れかに記載の2層記録層型光記録媒体。
8) DPD信号が0.3以上であることを特徴とする1)〜7)の何れかに記載の2層記録層型光記録媒体。
【0008】
以下、上記本発明について詳しく説明する。
本発明の2層記録層型光記録媒体は、基板上に少なくとも樹脂中間層を介して貼り合せた第1記録層構成体と第2記録層構成体とを有する。各記録層構成体は少なくとも色素層を有し、色素の光吸収により穴あき及び/又は変形による記録が行われ、該記録部の反射率変化を利用して再生が行われる。また、必要に応じて第2記録層構成体と樹脂中間層との間に保護層を設ける。
図1〜図5に具体的層構成例を示すが、何れの例においても第1色素層と第1半透明層は、反射率や透過率の調整などのため基板側からこの順に積層されている必要がある。
これらの層構成において、入射光が透過する第1記録層構成体の第1色素層、第1半透明層或いはAg又はAg合金層の反射率と透過率を調整して、第2記録層構成体に50%程度の光を入射させることにより、2層の記録層への記録が可能となる。
反射率の調整は、例えば赤色LD(レーザダイオード)で記録する場合は、DVD等の2層ROM(リードオンリーメモリー)と同等の15〜30%として、反射率の互換性を保つようにするとよい。
【0009】
また本発明では、色素層に隣接して半透明層或いはAg又はAg合金層を設けることにより記録感度を向上させ、小さいマークを形成し易くして高密度記録への対応を図ることができる。更に、上記各層の材料、膜厚などを選択することにより記録感度の一層の向上を図ることができる。
例えば、Ag及びAg合金aと半透明反射層bの膜厚比a/bを0.2以下にすれば透過率を40%以上とすることができ、かつ熱を逃げ易くできるので小さいマークの記録が可能となる。
本発明によれば、レーザ光の入射方向における記録密度を増大させることができ、光記録媒体全体としての容量を増大させることが可能となる。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
図1は、本発明の2層記録層型光記録媒体の一例を示す層構成断面図(模式図)であり、基板1/第1色素層2/第1半透明層3/樹脂中間層4/第2色素層5/第2半透明層6/基板7という層構成を有している。
図2は、本発明の2層記録層型光記録媒体の他の例を示す層構成断面図(模式図)であり、図1に示す層構成に加えて、第2色素層の反射率調整及び保護のためにZnS・SiO2等からなる透明な保護層8を形成したものである。
図3は、本発明の2層記録層型光記録媒体の更に他の例を示す層構成断面図(模式図)であり、図2に示す層構成に対し、第1色素層と第1半透明層の間にAg又はAg合金層9を形成し、第2半透明層をAg又はAg合金層10に変えたものである。
図4は、本発明の2層記録層型光記録媒体の更に他の例を示す層構成断面図(模式図)であり、図2に示す層構成に対し、第1色素層と第1半透明層の間及び第2色素層と第2半透明層の間にAg又はAg合金層9、10を形成したものである。
図5は、本発明の2層記録層型光記録媒体の更に他の例を示す層構成断面図(模式図)であり、図4に示す層構成における第2色素層と第2半透明層を入れ替えたものである。
【0011】
基板材料としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられるが、光学特性、コストの点でポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂が優れており、中でも、ポリカーボネート樹脂は、CDにおいて広く用いられているなどの実績があること及び安価であることから最も好ましい材料である。
基板1には通常、記録再生光を案内するピッチ0.8μm以下の溝を設けるが、この溝は必ずしも幾何学的に矩形又は台形状の溝である必要はなく、例えばイオン注入などによって、屈折率の異なる導波路のようなものを形成して光学的に溝が形成されていてもよい。
基板の厚さは、評価系のピックアップのNAに応じて色収差を取るために変える必要があるが、通常のピックアップのNAが0.6〜0.65程度の場合には0.6mmとする。NA0.85程度になると0.1mm程度の厚さが要求されるため、シート状であることが好ましい。
透明シートを用いて薄型基板を形成する方法としては、紫外線硬化性樹脂又は透明な両面粘着シートを介して、透明シートを貼りつける方法がある。また、紫外線(UV)硬化性樹脂を保護層上に塗布し、これを硬化させて薄型基板を形成してもよい。
なお、紫外線硬化性樹脂はコストの面で優れているので、樹脂中間層にも好ましく用いられる。
【0012】
樹脂中間層は構造的には2組の記録層を熱的及び光学的に分離するものである。故に記録ビームが2組の記録層の一方にいるとき、他方の記録層に熱が伝わり難い断熱性の材料が望ましい。光学的には、光が透過しなくてはならないので透過性に優れていて、光学定数における吸収係数が小さいことが望ましい。
膜厚は30〜60μm程度にするので容易に厚く形成できる樹脂を用いる必要があり、例えば、紫外線(UV)硬化樹脂や変性アクリル樹脂(両面粘着材)等が挙げられる。UV硬化樹脂ならば樹脂の粘度を調整することで容易に上記膜厚とすることができるし、光学的にも吸収の少ない材料が殆どである。変性アクリル樹脂の場合も透過率の高いものを使えば問題ない。また収縮率の少ない材料を選定すれば0.6mm厚の基板同士を貼り合せても、記録膜への影響が少なくてすむ。
DVD(波長660nm程度)の2層構造ならば、樹脂中間層の膜厚のROM規格は55μm±15μmであるからスピンコートで形成するUV樹脂の場合でも上記膜厚範囲に収めることができる。青色LD(405nm程度)を使用した場合は波長が短くなった分だけ薄くなり、25〜35μm程度が適切となる。
しかし、上記膜厚に変動があると、特に光入射側からみて奥側は、手前の記録層構成体と樹脂中間層の両方の膜厚変動の影響を受けるので、樹脂中間層の膜厚変動をなるべく少なくし、より均一な膜厚にすることが望ましい。
【0013】
本発明に用いる色素材料としては、シアニン色素、フタロシアニン色素、アゾ金属キレート色素等の色素が好ましい。これらの色素を用いると小さいマークを形成し易く、高密度記録に対応し易くなる。
第1色素層及び第2色素層は色素型の記録層であり、その厚さは一般的に30〜150nmの範囲が好ましい。30nmよりも薄いと十分なコントラストを得難く、モジュレーションが小さくなる傾向がある。一方、150nmよりも厚いと小さい記録マークが書き難くなる。
また、最短マーク長が0.5μm以下となるような高密度記録では、その厚さは50〜100nmが好ましい。50nmよりも薄いと反射率が低くなり過ぎ、また色素層の膜厚の不均一が現れ易いので好ましくない。一方、100nmよりも厚いと熱容量が大きくなり記録感度が悪くなる他、熱伝導率の不均一により、エッジが乱れジッタが高くなる傾向にある。
上記色素層は通常スピンコートで形成する。スピンコート後の膜厚はほぼ均一であるが、記録後は、レーザにより色素層の変形及び又は穴あきを生じ、場合によっては基板変形も加わって記録マークが形成される。再生は反射率の変化により行う。通常、記録前後の反射率差は5%より大きい。
【0014】
本発明の保護層は、第2色素層と樹脂中間層との反応を防止すると共に、光入射側から見て奥側の層の反射率を調整するという機能を併せ持つ。また、記録時の高温による樹脂中間層の表面の変形を防止するのにも有効である。
保護層の材料は、屈折率、熱伝導率、化学的安定性、機械的強度、密着性等に留意して決定される。材料としては熱伝導特性の低いものが望ましいが、その目安は1×10−3pJ/(μm・N・nsec)である。しかし、このような低熱伝導率材料の薄膜状態の熱伝導率を直接測定するのは困難であるため、直接測定に代えて、熱シミュレーションと実際の記録感度の測定結果から目安を得る。
【0015】
好ましい低熱伝導率の保護層材料としては、ZnS、ZnO、TaS2、希土類硫化物のうちの少なくとも一種を50〜90モル%含み、透明性が高く、かつ融点又は分解点が1000℃以上の耐熱性化合物を含む複合誘電体が望ましい。中でもZnS、ZnOを70〜90モル%含む複合誘電体、或いは、La、Ce、Nd、Y等の希土類の硫化物を60〜90モル%含む複合誘電体が望ましい。
融点又は分解点が1000℃以上の耐熱化合物材料としては、Mg、Ca、Sr、Y、La、Ce、Ho、Er、Yb、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Zn、Al、Si、Ge、Pb等の酸化物、窒化物、炭化物やCa、Mg、Li等のフッ化物を用いることができる。
なお、上記酸化物、硫化物、窒化物、炭化物、フッ化物は必ずしも化学量論的組成をとる必要はなく、屈折率等の制御のために組成を制御したり、混合したりして用いることも有効である。
本発明の保護層材料としては、上記留意点及び第1色素層及び第2色素層の材料との整合性を考慮すると、ZnSとSiO2との混合系組成が最も好ましい。保護層として樹脂中間層側に透過率が高く熱伝導率も高い層を設ける構成を用いると記録感度に関して有利になる。言い換えれば透過率が高いだけの材料は記録感度の点で不利である。材料としては第1半透明層及び第2半透明層と同じ材料を用いることができる。
保護層の厚さは、記録レーザ光波長が600〜700nmでは40〜120nmが好ましく、同波長が350〜600nmでは30〜100nmが好ましく、より好ましくは40〜80nmである。
【0016】
色素層に前記のような材料を用いると、最短マーク長0.3μm以下の高密度記録において低ジッタを実現できるが、本発明者らの検討によれば高密度記録を実現するために短波長のレーザダイオード(例えば、波長410nm以下)を用いる場合には、急冷構造とするための層構成についても一層の留意が必要になる。特に、波長が500nm以下、開口数NAが0.55以上の小さな集束光ビームを用いた1ビームオーバーライト特性の検討においては、隣接するトラックへの影響からマーク幅方向の温度分布を平坦化することが重要である。この傾向は、波長350〜420nm、NA=0.85前後の光学系を用いたDVD対応の光学系においても同様である。
そこで、これらの要求に適合するように2層記録層型光記録媒体の適切な層構成を検討した結果、光透過性があると共に放熱性もあり、かつ高記録感度になるようにするには、本発明1のように色素層に隣接して半透明層を設ければよいこと、更にはAg又はAg合金層を設けるなど本発明2〜8のような構成とすることが好ましいことを見出した。
【0017】
本発明の2層記録層型光記録媒体では、記録時に半透明層或いはAg又はAg合金層で放熱される。その結果、色素層での熱の上昇が抑えられ、ある熱(温度)以上で穴あきや変形を起す色素を選択して用いることにより、小さなマークが形成可能となる。Ag又はAg合金層は半透明層よりも放熱機能が優れているので、半透明層に隣接して設けるか、或いは半透明層に変えて設けることにより、記録感度を向上させることができる。
第1半透明層及び第2半透明層の材料としては、In2O3、ZnO、ZrO、Ti2O3、SnO、SnO2、Al2O3、SiO2の中から選ばれた少なくとも1種を含むものが好ましい。これらの材料は透過率及び熱伝導率が高いので、例えば図1に示す層構成の場合、第1色素層で光吸収されて発生した熱が第1半透明層で放熱されることにより第1色素層に小さいマークが記録される。また第1色素層と第1半透明層では光の半分程度が透過するので、光入射側からみて奥側の層である第2色素層でも同様に記録が可能となる。色素層の透過率及び吸収率の調整は、色素層の材料及び膜厚で調整できる。
【0018】
半透明層の膜厚であるが、膜厚を厚くしていくと、透過率が高くなったり低くなったりすることを繰り返す。あまり厚いと膜にクラックが入るし膜の応力により媒体の機械特性が悪くなるので200nm以上にすることはできない。
透過率は50%以上が望ましいので、第1半透明層の膜厚は、記録層の色素膜厚にもよるが、半透明層の屈折率が2.1〜2.2程度のときは、20〜100nm又は110〜170nmとする。また半透明層の膜厚が厚いほど放熱が良好に行われるため記録再生特性が良い。しかし、薄い膜厚でもDVD評価(660nm、NA=0.65で記録、650nm、NA=0.6で再生)の主要な記録再生特性であるジッタで規格(ジッタ9%以下)を満足する特性は得られる。
より好ましい膜厚範囲は、30〜80nm又は120〜160nmである。
第2半透明層には、第1半透明層と同様の材料が用いられ、第2半透明層を色素層と基板の間に設ける場合は、厚いほど放熱性が良くなるので良好な記録再生特性が得られる。
反射率の点からは、第2半透明層の膜厚は20〜200nmの間であってより反射率の高い領域が好ましい。更に好ましくは60〜160nmである。
【0019】
図2に示す層構成の場合も図1の場合と同様であるが、第2色素層に記録する際に、反射率と透過率を保護層でも調整することができる。
図3に示す層構成の場合は、第1色素層と第1半透明層の間にAg又はAg合金層を設けており、これにより一層熱が逃げ易くなり、小さいマークを記録することができる。また、第2半透明層をAg又はAg合金層に変えることにより、第2記録層の記録感度を向上させることができる。
図4に示す層構成の場合は、第2色素層と第2半透明層の間にもAg又はAg合金層を設けることにより、第2記録層の記録感度を向上させることができる。
図5に示す層構成は、図4に示す層構成における第2色素層と第2半透明層を入れ替えたもので、これにより色素層が変形し易くなり、第2記録層の記録感度が更に向上する。
【0020】
Ag又はAg合金層を用いる場合、光を透過させなければならないので膜厚を薄くする必要がある。そこで、製膜時のデポレートを遅くして膜厚不均一性をなくして製膜する。膜厚は5〜20nmが望ましい。5nm未満ではデポレートを遅くしても不均一になる。20nmを超えると透過率が悪くなるので好ましくない。また第1記録層構成体にAg又はAg合金層を設ける場合には、膜厚を10nm程度にすれば、記録、再生波長である赤色、青紫色波長の両方で透過率を50%以上とすることができる。
Ag合金の例としては、Agに、Cu、Ti、V、Ta、Nb、W、Co、Cr、Si、Ge、Sn、Sc、Hf、Pd、Rh、Au、Pt、Mg、Zr、Mo、Mnの中から選ばれた少なくとも1種を0.2〜5原子%含む合金が挙げられる。また、経時安定性をより重視する場合にはTi、Mgを添加することが好ましい。
【0021】
また、本発明者らは、Ag合金層では添加元素濃度に比例して体積抵抗率が増加することを確認した。一方、不純物の添加は一般的に結晶粒径を小さくし粒界の電子散乱を増加させて熱伝導率を低下させると考えられる。添加不純物量を調節することは、結晶粒径を大きくして材料本来の高熱伝導率を得るために必要である。
本発明の2層記録層型光記録媒体は、反射率が15〜30%であれば、DVD再生装置で読み出し可能である。これまで2層の色素記録層を有する光記録媒体は、基板変形を考慮すると技術的に困難であるとされ、容易に実現できないとされていた。これに対し本発明では、色素層と半透明層を設けることにより、15%以上の反射率を持つ、色素を用いた2層記録層型光記録媒体を実現できた。
【0022】
Ag又はAg合金層は通常スパッタ法や真空蒸着法で形成されるが、ターゲットや蒸着材料そのものの不純物量は勿論、成膜時に混入する水分や酸素量も含めて全不純物量を2原子%以下とする必要がある。このためにプロセスチャンバの到達真空度は1×10−3Pa以下とすることが望ましい。また、10−4Paより悪い到達真空度で成膜する場合には、成膜レートを1nm/秒以上、好ましくは10nm/秒以上として不純物が取り込まれるのを防ぐことが望ましい。或いは、意図的な添加元素を1原子%より多く含む場合は、成膜レートを10nm/秒以上として付加的な不純物混入を極力防ぐことが望ましい。
良好な特性を示す高熱伝導率のAg又はAg合金層を選択するために、それぞれの熱伝導率を直接測定することも可能であるが、熱伝導の良否を電気抵抗を利用して見積もることもできる。これは、金属膜のように電子が熱又は電気伝導を主として司る材料においては、熱伝導率と電気伝導率の間に良好な比例関係があることによる。薄膜の電気抵抗は、その膜厚や測定領域の面積で規格化された抵抗率値で表す。体積抵抗率と面積抵抗率は、通常の4探針法で測定でき、JISN 7194によって規定されている。この方法により、薄膜の熱伝導率そのものを実測するよりも遥かに簡便に再現性の良いデータが得られる。
【0023】
Ag又はAg合金層は、体積抵抗率が20〜150nΩ・mであることが好ましく、より好ましくは20〜100nΩ・mである。20nΩ・m未満の材料は薄膜状態では得難い。体積抵抗率が150nΩ・mより大きい場合でも、例えば300nmを超える厚膜とすれば面積抵抗率を下げることはできるが、本発明者らの検討によれば、このような高体積抵抗率材料を用いて面積抵抗率のみを下げても十分な放熱効果は得られなかった。厚膜では単位面積当たりの熱容量が増大してしまうためと考えられる。また、このような厚膜では成膜に時間がかかり、材料費も増えるため製造コストの観点から好ましくないばかりでなく、膜表面の微視的な平坦性も悪くなってしまう。従って、膜厚300nm以下で面積抵抗率0.2〜0.9Ω/□が得られるような低体積抵抗率材料を用いるのが好ましく、0.5Ω/□程度の材料が最も好ましい。
【0024】
高体積抵抗率材料と低体積抵抗率材料を組み合わせて所望の膜厚で所望の面積抵抗率を得るためには、Ag合金層を多層化する方法も有効である。
合金化による体積抵抗率調節は、合金ターゲットの使用によりスパッタ工程を簡素化できるが、ターゲット製造コストひいては媒体の原材料比を上昇させる要因にもなる。従って、純Agの薄膜と上記添加元素そのものの薄膜を多層化して所望の体積抵抗率を得ることも有効である。層数が3層程度までであれば初期の装置コストは増加するものの、個々の媒体コストは却って抑制できる場合がある。放熱層であるAg合金層を複数の金属膜からなる多層放熱層とし、全膜厚を40〜300nmとし、多層放熱層の厚さの50%以上が体積抵抗率20〜150nΩ・mの金属薄膜層(多層であってもよい)とするのが好ましい。
【0025】
【実施例】
以下、実施例及び比較例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
【0026】
実施例1
ポリカーボネート製基板1上に、シアニンからなる第1色素層をスピンコートで形成し、その上にIZO(InOx、ZnOx)からなる第1半透明層をスパッタで形成した。
一方、ポリカーボネート製基板7上にIZOからなる第2半透明層をスパッタで形成し、その上にシアニンからなる第2色素層をスピンコートで形成した。
次いで、第1色素層等を形成した基板と第2色素層等を形成した基板同士を、中間層となるUV硬化樹脂(三菱レーヨン社製、SD318)で貼り合わせ、図1に示す層構成の評価用光記録媒体を作製した。
なお、各層の厚さは、基板1及び基板7:0.6mm、第1色素層:80nm、第1半透明層:80nm、樹脂中間層:38μm、第2色素層:70nm、第2半透明層:100nmである。
【0027】
実施例2
樹脂中間層と第2色素層の間にZnS(80原子%)SiO2(20原子%)からなる厚さ70nmの保護層をスパッタで形成した点以外は、実施例1と全く同様にして図2に示す層構成の評価用光記録媒体を作製した。
【0028】
実施例3
第1色素層と第1半透明層の間に厚さ10nmのAg98Pd1Cu1合金層を設け、第2半透明層を厚さ10nmのAg98Pd1Cu1合金層に変えた点以外は、実施例2と全く同様にして図3に示す層構成の評価用光記録媒体を作製した。
【0029】
実施例4
第1色素層と第1半透明層の間及び第2色素層と第2半透明層の間に厚さ10nmのAg98Pd1Cu1合金層を設けた点以外は、実施例2と全く同様にして図4に示す層構成の評価用光記録媒体を作製した。
【0030】
実施例5
第2色素層と第2半透明層を入れ替えた点以外は、実施例4と全く同様にして図5に示す層構成の評価用光記録媒体を作製した。
【0031】
比較例1
第1、第2半透明層を設けなかった点以外は、実施例1と全く同様にして評価用光記録媒体を作製した。
【0032】
上記実施例1〜5及び比較例1の評価用光記録媒体について、波長660nm、開口数NA0.65の光学系を用いて集束光ビームを照射し、線速:3.5m/s、0.267μm/bitの条件で、初期ジッタ(Jitter)、アーカイバル特性を評価した。なお、アーカイバル特性は、80℃、85%(RH)の環境条件で保存した際に、ジッタ(Jitter)上昇が20%以上となる時間(H)であり、DPD信号は、位相差信号(ディファレンシャル・フェイズ・ディテクション)である。DPD信号はDVD再生装置が採用しているトラッキング方法であり、通常ROMでは、ピットの凹凸から生じる反射率差が位相を変化させて、その差で再生ビーム位置を補正していく方法である。
DVDの書き換え型媒体の場合は、結晶とアモルファスの変化が位相の変化になり、追記型媒体の場合は、ほぼROMと同様の原理でDPD信号が得られる。この信号がROMと同等であればDVD再生装置で読み出すことができ互換性の良好な媒体を提供できる。
結果を表1に示す。
【0033】
【表1】
【0034】
表1から分るように、実施例1〜5では、比較例1に比べて、ジッタ、アーカイバル特性共に優れている。また、DPD信号も、比較例1が0.3未満であるのに対し、実施例1〜5は0.3以上で、DVDプレーヤーで再生可能である。
【0035】
【発明の効果】
本発明によれば、記録容量が従来の2倍であり、赤色から青色までのレーザ光に対してもジッタなどのノイズが発生せず、アーカイバル特性も良好で高密度記録可能な、DVD再生装置にて読み出せる互換性を有する2層記録層型光記録媒体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の2層記録層型光記録媒体の一例を示す層構成断面図である。
【図2】本発明の2層記録層型光記録媒体の他の例を示す層構成断面図である。
【図3】本発明の2層記録層型光記録媒体の更に他の例を示す層構成断面図である。
【図4】本発明の2層記録層型光記録媒体の更に他の例を示す層構成断面図である。
【図5】本発明の2層記録層型光記録媒体の更に他の例を示す層構成断面図である。
【符号の説明】
1 基板
2 第1色素層
3 第1半透明層
4 樹脂中間層
5 第2色素層
6 第2半透明層
7 基板
8 保護層
9 Ag又はAg合金層
10 Ag又はAg合金層
Claims (8)
- 基板上に、樹脂中間層を介して2組の記録層構成体を積層し、レーザ光を照射して2組の記録層構成体にそれぞれ記録、再生を行う光記録媒体であって、第1及び第2記録層構成体は何れも色素層と半透明層の積層体であり、少なくとも最初にレーザ光が入射する第1記録層構成体は、レーザ光入射側からみて色素層と半透明層がこの順に積層されていることを特徴とする2層記録層型光記録媒体。
- 第2記録層構成体と樹脂中間層の間に保護層を形成したことを特徴とする請求項1記載の2層記録層型光記録媒体。
- 半透明層が、In2O3、ZnO、ZrO、Ti2O3、SnO、SnO2、Al2O3、SiO2の中から選ばれた少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項1又は2記載の2層記録層型光記録媒体。
- 第1及び第2記録層構成体の半透明層のうち少なくとも一方をAg又はAg合金層に変えたことを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の2層記録層型光記録媒体。
- 第1及び第2記録層構成体の少なくとも一方の色素層と半透明層の間にAg又はAg合金層を設けたことを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の2層記録層型光記録媒体。
- 第1記録層構成体のAg又はAg合金層の膜厚が5〜20nmであることを特徴とする請求項4又は5記載の2層記録層型光記録媒体。
- 反射率が15〜30%であることを特徴とする請求項1〜6の何れかに記載の2層記録層型光記録媒体。
- DPD信号が0.3以上であることを特徴とする請求項1〜7の何れかに記載の2層記録層型光記録媒体
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---|---|---|---|
JP2003044266A JP2004253086A (ja) | 2003-02-21 | 2003-02-21 | 2層記録層型光記録媒体 |
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Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
WO2006038618A1 (ja) * | 2004-10-05 | 2006-04-13 | Fujifilm Corporation | 光ディスク |
WO2006098506A1 (en) * | 2005-03-17 | 2006-09-21 | Ricoh Company, Ltd. | Optical recording medium |
-
2003
- 2003-02-21 JP JP2003044266A patent/JP2004253086A/ja active Pending
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