JP2005339761A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】 ２組の記録構成体を有する光記録媒体において、光入射側からみて奥側の色素記録層を反射層上に設ける際の、反射層材料に対する色素の濡れ性を改善し、記録再生特性のジッタ特性が良くエラーの少ない光記録媒体を提供すること。
【解決手段】 基板上に、第１、第２の２組の記録構成体が中間層を介して積層され、第１の記録構成体側からのレーザ光の照射により、２組の記録構成体にそれぞれ記録・再生が行われる光記録媒体において、第２の記録構成体が、少なくとも反射層、酸化層、第２色素層をこの順に有し、該酸化層が反射層を形成する金属と同じ金属の酸化物からなる光記録媒体。
【選択図】 図１

Description

本発明は、光ビームを照射することにより記録層に透過率、反射率等の光学的な変化を生じさせて情報の記録、再生を行ない且つ追記が可能な光記録媒体に関するものである。

レーザー照射による色素層の変形等に伴う反射率変化を利用した情報の記録には、色素の光吸収による穴あき等を用いる。現在実用化されている追記型光記録媒体は、未記録状態を低反射率状態とし、穴あき部分を高反射率状態の記録マークとすることが一般的である。穴あき部分は隣接する金属反射層が高反射率であることから高反射率状態となる。
これらの有機色素薄膜を記録層とする光記録媒体としては、フタロシアニン系色素、シアニン系色素、フェナントレン系色素、ナフトキノン系色素などを用いたものが多数知られている。
更に、基板上に有機色素、金属反射層、ＵＶ樹脂保護層を順次積層した追記コンパクトディスク型光記録媒体（ＣＤ−Ｒ）は、そのＣＤ規格を満足するのに高い反射率を必要とし、そのため再生波長域（７７０〜８３０ｎｍ）に高い屈折率を有し、且つ安定性の高い有機色素の開発が必要である（ＤＶＤの追記型ディスクのＤＶＤ±Ｒは再生波長６３０〜６８０ｎｍ）。
これまでＣＤ−Ｒ及びＤＶＤ±Ｒは、シアニン色素／金属反射層、フタロシアニン色素／金属反射層又はアゾ金属キレート色素／金属反射層などを記録材料として用いた数多くの提案がなされている（例えばフタロシアニン色素を記録材料として用いたものには特許文献１、アゾ金属キレート色素を記録材料で用いたものには特許文献１〜２等がある。）が、これらは全て色素層が１層で、記録容量が１層分の容量であった。

また、１枚の光ディスクの記憶容量を増加するため、複数データ層システムが提案されている。２層以上のデータ層を有する光ディスクでは、レンズの焦点を変更することによって様々な層にアクセスすることができる。
例えば特許文献３には、複数データ層光ディスク・ドライブ・システムが記載されているが、その光ディスクは、それぞれがエア・ギャップで間隔を設けたデータ層を備えた複数の基板か、又は固体構造の複数のデータ層の何れかを含む。また特許文献４に開示されたディスクは、複数のデータ層を備えた固体構造を使用し、それぞれのデータ層はＣＤタイプのデータ層である。
また特許文献５〜６に開示された媒体は色素層又は相変化膜のみの記録層であり、反射率やＤＶＤ等との互換性を考慮した層構成ではない。実施形態として情報層を少なくとも２層以上の複数層で構成することが記載されてはいるが、色素記録層を２層有する媒体については全く考慮していない。
また特許文献７〜８には無機の記録層を２層有する媒体が開示されている。
以上のように種々の提案はあるが、高分子層だけの層の繰り返しで実用化に至らなかったものや反射率等の互換性を考慮していないものばかりである。

また、色素材料はＣＤ世代から使用されており、使用波長で光吸収させるように設計されているが、多層化するには光透過と光吸収を両立させる必要があり、技術的に困難なため、色素材料を多層化させる技術はまだ開発が完了していない。
即ち、基板上に有機色素層、金属反射層、ＵＶ樹脂保護層を順次積層した従来の構成では金属反射層に用いるＡｇの厚みが１００ｎｍ程度であり、赤色ＬＤ（レーザーダイオード）波長（６３０〜８００ｎｍ）や青色ＬＤ波長（３６０〜４３０ｎｍ）では光が殆ど透過しないため、記録層を２層とすることは不可能である。
特許文献９には、支持体上に光学的に情報の記録及び／又は再生が可能な光官能記録層を少なくとも２つ以上有し、該２つ以上の光官能記録層の間に厚さ０．０５〜０．２μｍの中間層を少なくとも１つ有する多層光学的情報記録媒体が開示されているが、光入射側からみて奥側の色素層をＡｇ及びＡｇ合金層上に直接塗布しているため、塗りむらや塗り欠けなどがあり、記録再生特性であるジッタ特性が悪くエラーも生じ易いという課題が生じている。また奥側の層の放熱性が悪いため、奥側の反射層のダメージが大きく、変形により溝信号の劣化が大きくなり、高記録パワー側でトラッキングが外れるという課題が生じている。
特許文献１０には、図４に示すような２層の光吸収層（色素層）を有する光記録媒体が開示されている。この発明は、第１、第２の２層の光吸収層１２、１６を設けた点と、該光吸収層と中間層１４の間に第１バリア層１３と第２バリア層１５を設けた点に特徴がある。しかしこの層構成では色素の濡れ性が悪く記録再生特性が良くないことや、反射層だけでは放熱性が良くないため反射層が変形しトラッキング不良等が発生するという課題がある。

特開平４−２２６３９０号公報 特開平４−４６１８６号公報 米国特許第５２０２８７５号明細書 米国特許第４４５０５５３号明細書 国際公開００／０１６３２０号パンフレット 国際公開００／０２３９９０号パンフレット 特開２００１−０８４６４３号公報 特開２００１−１０７０９号公報 特開２００３−３３１４７３号公報 特開２０００−３１１３８４号公報

本発明は、２組の記録構成体を有する光記録媒体において、光入射側からみて奥側の色素記録層を反射層上に設ける際の、反射層材料に対する色素の濡れ性を改善し、記録再生特性のジッタ特性が良くエラーの少ない光記録媒体の提供を目的とする。

上記課題は、次の１）〜１３）の発明（以下、本発明１〜１３という）によって解決される。
１） 基板上に、第１、第２の２組の記録構成体が中間層を介して積層され、第１の記録構成体側からのレーザ光の照射により、２組の記録構成体にそれぞれ記録・再生が行われる光記録媒体において、第２の記録構成体が、少なくとも反射層、酸化層、第２色素層をこの順に有し、該酸化層が反射層を形成する金属と同じ金属の酸化物からなることを特徴とする光記録媒体。
２） 酸化層の膜厚が０．５〜２０ｎｍであることを特徴とする１）記載の光記録媒体。
３） 第1の記録構成体が、少なくとも第１色素層及び半透明反射層を有し、第２の記録構成体が、少なくとも反射層、酸化層、第２色素層及び保護層をこの順に有することを特徴とする１）又は２）記載の光記録媒体。
４） 保護層が第１保護層、第２保護層の２層からなることを特徴とする３）記載の光記録媒体。
５） 第１保護層が、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＺｒＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、ＳｎＯ、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３から選ばれた少なくとも１種を含み、第２保護層がＺｎＳを含むことを特徴とする４）記載の光記録媒体。
６） 反射層又は半透明反射層が、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕ、又はこれらの金属の合金から選ばれた少なくとも１種を含むことを特徴とする１）〜５）の何れかに記載の光記録媒体。
７） 反射層がＡｇ又はＡｇ合金からなり、その膜厚が１００〜３００ｎｍであることを特徴とする１）〜６）の何れかに記載の光記録媒体。
８） 半透明反射層がＡｇ又はＡｇ合金からなり、その膜厚が５〜２０ｎｍであることを特徴とする１）〜７）の何れかに記載の光記録媒体。
９） 第２の記録構成体が反射層に隣接して酸化層と反対側に耐熱層を有することを特徴とする１）〜８）の何れかに記載の光記録媒体。
１０） 耐熱層が、Ｗ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｖ、Ｓｉ、又はこれらの金属の酸化物、炭化物、窒化物から選ばれた少なくとも１種の材料からなることを特徴とする１）〜９）の何れかに記載の光記録媒体。
１１） 光入射側の基板表面に反射率低減層を有することを特徴とする１）〜１０）の何れかに記載の光記録媒体。
１２） 反射率低減層が、ＭｇＦ、ＳｉＯ_２、フッ素樹脂から選ばれた少なくとも１種を含むことを特徴とする１）〜１３）の何れかに記載の光記録媒体。
１３） 第１記録構成体及び第２記録構成体の反射率が１５〜３０％であることを特徴とする１）〜１２）の何れかに記載の光記録媒体。

以下、上記本発明について詳しく説明する。
本発明は、第１、第２の２組の記録構成体を有する光記録媒体において、光入射側からみて奥側の第２の記録構成体の反射層と色素記録層の間に、反射層上に色素を塗布する際の濡れ性を良くするための酸化層を設け、色素記録層の塗布状態を改善した点に特徴がある。
本発明の光記録媒体は色素型光記録媒体であって、光照射により色素記録層に穴あきや変形などを生じて情報が記録され、これに伴う反射率変化により情報の再生が行われる。
また、光入射側の第１の記録構成体の反射層を半透明とすることにより反射率と透過率を調整する。赤色ＬＤで記録する場合は、ＤＶＤ等の２層ＲＯＭ（リードオンリーメモリー）と同等の反射率（１５〜３０％）として互換性を保ち、透過率を５０％程度として奥側の第２の記録構成体へ光を透過させ、２組の記録構成体の両方に記録できるようにする。そして互換性を確保するために、第２の記録構成体の反射率も１５〜３０％とする。
２組の記録構成体は案内溝を形成した中間層を介して積層する。中間層は、レーザー波長４００〜７９０ｎｍの範囲で光透過率が８０％以上あり且つ熱的に安定であれば特に材料は限定されない。通常は、コストの面で優れているＵＶ硬化樹脂やアクリル系樹脂などで形成する。アクリル系樹脂などの粘着シートを用いてもよい。

酸化層は、反射層を形成した後、酸素を多く含む環境下（酸素雰囲気又は空気中など）に置き、反射層表面を酸化することにより形成する。酸化層を設けることにより、第２の記録構成体の色素層を塗布する際の濡れ性が良好になる。
反射層形成直後に色素層を形成すると、色素の濡れ性が悪く、塗りむらが発生するし、反射層の熱がまだ安定しないうちに色素を塗ると機械特性が悪くなったり記録再生特性までも悪くなったりすることがある。
酸化層の膜厚は、０．５〜２０ｎｍの範囲が好ましい。より好ましくは１〜１０ｎｍである。０．５ｎｍ未満では濡れ性の改善効果が少なく、記録再生特性のジッタ特性があまり良くならない。また２０ｎｍより厚くなると、奥側の記録構成体の反射率を１５％以上にすることが難しくなり、ＤＶＤ再生プレーヤーにかかり難くなる。
実際に基板上に反射層を形成した直後に色素層を形成した場合と、反射層を形成した後、酸素雰囲気中に１時間置いて酸化層を形成した後で色素層を形成した場合（後述する実施例１に相当）を比べたところ、反射層を形成した直後に色素層を形成すると、全面に均一に塗布できず、トラッキングができないため、記録再生特性が測定できなかった。

以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について説明する。
図１は、本発明の光記録媒体の層構成の一例を示す模式的断面図であり、基板１／第１色素層２／半透明反射層３／中間層４／保護層５／第２色素層６／酸化層７／反射層８／カバー基板９を有している。第１の記録構成体１００が第１色素層２と半透明反射層３からなり、第２の記録構成体２００が保護層５、第２色素層６、酸化層７、反射層８からなる。
図２は、他の層構成例であり、図１における保護層５を、第１保護層５１、第２保護層５２の２層構成としたものである。
図３は、更に他の層構成例であり、図２の層構成に加えて、反射層とカバー基板の間に耐熱層１０を形成したものである。

基板及びカバー基板の材料としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂、透明ガラスなどが挙げられるが、光学特性、コストの点で優れるポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
基板及びカバー基板には、通常、記録再生光を案内するピッチ０．８μｍ以下の溝を設けるが、この溝は必ずしも幾何学的に矩形又は台形状の溝である必要はなく、例えばイオン注入などによって、屈折率の異なる導波路のようなものを形成して光学的に溝が形成されていてもよい。
基板及びカバー基板の厚さは、評価系のピックアップのＮＡに応じて色収差を取るために変化させる。通常ＮＡが０．６〜０．６５程度では０．６ｍｍ、ＮＡ＝０．８５程度では０．１ｍｍ程度の厚さが要求されるため、シート状であることが好ましい。
透明シートを用いて薄型基板を形成する方法としては、紫外線硬化性樹脂或いは透明な両面粘着シートを介して、透明シートを貼りつける方法が挙げられる。また、紫外線硬化性樹脂を保護層上に塗布し硬化させて薄型基板を形成してもよい。

本発明の記録層に用いる色素材料としては、シアニン色素、フタロシアニン色素、アゾ金属キレート色素、スクアリリウム等が挙げられる。これらの色素を含有させることにより小さいマークを形成し易くして、高密度記録への対応を図る。
第１及び第２色素層の膜厚は、通常、３０ｎｍ〜１５０ｎｍとする。３０ｎｍ未満では十分なコントラストを得難く、モジュレーションが小さくなる傾向がある。一方、１５０ｎｍを越えると小さい記録マークが書き難くなる。
また、最短マーク長が０．５μｍ以下となるような高密度記録では、５０〜１００ｎｍの膜厚とすることが好ましい。５０ｎｍ未満では反射率が低くなり過ぎ、また膜厚が不均一になり易いので好ましくない。一方、１００ｎｍより厚いと熱容量が大きくなり記録感度が悪くなるし、熱伝導率の不均一によりエッジが乱れジッタが高くなる傾向にある。

第１及び第２色素層は、通常、スピンコート法で形成する。スピンコート後の色素層はほぼ均一な状態であるが、記録により、色素層の変形や穴あき及び基板変形を生じ、その部分の反射率変化から記録マークを判断することができる。通常、記録前後の反射率差は５％より大きい。
従来のように記録層が１層の場合の色素層の塗布は、樹脂であるポリカーボネート基板上に行うので塗布状態は良好であった。しかし、本発明のように色素層が２層になると、光入射側からみて奥側の第２色素層は、金属からなる反射層の上に塗布することになる。このように色素を金属上に直接塗布すると塗りむらが発生し易い。
そこで、反射層上に、反射層を形成する金属と同じ金属の酸化物からなる酸化層を形成し、その上に色素層を形成するようにすれば塗布状態が良好になりジッタが良好になる。

保護層は第２色素層と中間層との反応を防止し、奥側の第２の記録構成層の反射率を調整するという機能を併せ持つ。また、記録時の高温による中間層の表面の変形を防止するのにも有効である。
保護層（後述する２層構成の保護層の場合は第２保護層）の材料は、屈折率、熱伝導率、化学的安定性、機械的強度、密着性等に留意して決定される。材料の物性としては熱伝導率が低い方が望ましいが、その目安は１×１０^−３ｐＪ／（μｍ・Ｎ・ｎｓｅｃ）である。なお、このような低熱伝導率材料の薄膜状態の熱伝導率を直接測定するのは困難であり、直接測定に代るものとして熱シミュレーションと実際の記録感度の測定結果から目安を得ることができる。

低熱伝導率の材料としては、ＺｎＳ、ＺｎＯ、ＴａＳ_２、希土類硫化物のうちの少なくとも一種を５０〜９０モル％含み、且つ透明性が高く融点又は分解点が１０００℃以上の耐熱性化合物を含む複合誘電体が望ましい。特に、ＺｎＳ、ＺｎＯを７０〜９０モル％含むか、或いはＬａ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｙ等の希土類の硫化物を６０〜９０モル％含む複合誘電体が望ましい。
透明性が高く融点又は分解点が１０００℃以上の耐熱化合物材料としては、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｙｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｐｂ等の酸化物、窒化物、炭化物や、Ｃａ、Ｍｇ、Ｌｉ等のフッ化物が挙げられる。なお、これら酸化物、硫化物、窒化物、炭化物、フッ化物は必ずしも化学量論的組成をとる必要はなく、屈折率等の制御のために組成を制御したり、混合して用いることもできる。
上記留意点並びに第１及び第２色素層を構成する材料との整合性を考慮すると、保護層材料としては、ＺｎＳとＳｉＯ_２との混合系組成が最も好ましい。

保護層の膜厚は、記録レーザー光の波長が６００〜７００ｎｍで保護層材料の屈折率が１．９〜２．４の範囲では４０〜１６０ｎｍが好ましく、より好ましくは１００〜１４０ｎｍである。また波長が３５０〜６００ｎｍで保護層材料の屈折率が１．９〜２．４の範囲では３０〜１００ｎｍが好ましく、より好ましくは４０〜８０ｎｍである。
後述する２層構成の保護層の場合も、屈折率が同じであれば２層併せた膜厚を上記の範囲とするのが適切である。
基本的には、屈折率ｎと膜厚ｄの積が同等であれば良い。つまり屈折率を小さくすると膜厚は元の屈折率の時の膜厚よりも厚くする必要がある。これは反射率を同等にする必要があること、光路長差（２×ｎ×ｄ）が位相差であるから、あまり薄い膜厚では位相差つまり、モジュレーションが取り難いことによる。

本発明によれば、最短マーク長０．３μｍ以下の高密度記録において低ジッタを実現できるが、更なる高密度記録を実現するために、より短波長のレーザーダイオード（例えば波長４１０ｎｍ以下）を用いる場合には、急冷構造について一層の配慮が必要となる。
例えば、保護層を２層構造とし、中間層側の第１保護層に透過率が高く熱伝導率の良い材料を用いることにより、第２色素層に記録する際の熱が反射層側に逃げると同時に、第１保護層へも熱伝導率と膜厚に比例して拡散するため、第２の記録構成体の放熱性を一層良好にしジッタを良くすることが可能となるし、反射層の変形をより少なくできる。
第１保護層の材料としては、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＺｒＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、ＳｎＯ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２などが挙げられる。
また、第１保護層と第２保護層を同じ材料にすると製造上のコスト低減の面から有利である。

次に反射及び放熱機能を担う半透明反射層及び反射層について説明する。
半透明反射層及び反射層の材料としては金属を用いるが、中でもＡｇ、Ａｌ、Ｃｕ、又それらの金属の合金が好ましく、特に急冷構造を実現し高密度記録を可能とするため、熱伝導率の高いＡｇ又はＡｇ合金層が好ましい。
半透明反射層については光を透過させるため膜厚を薄くする必要があり膜厚が不均一になり易いので、製膜時のデポレートを遅くして膜厚の不均一をなくすようにする。膜厚は５〜２０ｎｍが望ましく、５ｎｍ未満ではデポレートを遅くしても膜厚が不均一になる。Ａｇ又はＡｇ合金を半透明反射層に用いる場合、膜厚が１０ｎｍ程度であれば、記録、再生波長が赤色波長、青紫色波長の何れでも透過率が５０％以上となる。
また反射層の膜厚は１００〜３００ｎｍが好ましく、１３０ｎｍ以上が更に好ましい。奥側の第２の記録構成体の放熱性を良くするためには厚い方が好ましいが、３００ｎｍを超えると、成膜に時間がかかり材料費も増えるため製造コストの観点から好ましくなく、しかも膜表面の微視的な平坦性も悪くなってしまう。

Ａｇ合金としては、添加成分として、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｖ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｗ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｓｃ、Ｈｆ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｍｎから選ばれた少なくとも１種を０．２〜５原子％含むものが挙げられる。経時安定性をより重視する場合には添加成分としてＴｉ、Ｍｇが好ましい。
本発明者らは、Ａｇ合金は、その添加元素濃度に比例して体積抵抗率が増加することを確認している。一方、不純物の添加は一般的に結晶粒径を小さくし、粒界の電子散乱を増加させて熱伝導率を低下させると考えられる。従って、結晶粒径を大きくして材料本来の高熱伝導率を得るために添加不純物量を調節する必要がある。
なお、Ａｇ又はＡｇ合金層は通常スパッタ法や真空蒸着法で形成されるが、ターゲットや蒸着材料そのものの不純物量もさることながら、成膜時に混入する水分や酸素量も含めて全不純物量を２原子％以下とする必要がある。そのためプロセスチャンバの到達真空度を１×１０^−３Ｐａ以下とすることが望ましい。また、１０^−４Ｐａより悪い到達真空度で成膜する場合には、成膜レートを１ｎｍ／秒以上、好ましくは１０ｎｍ／秒以上として不純物が取り込まれるのを防ぐことが望ましい。更に、意図的な添加元素を１原子％より多く含む場合には、成膜レートを１０ｎｍ／秒以上として付加的な不純物混入を極力防ぐことが望ましい。

本発明において良好な特性を示す高熱伝導率のＡｇ又はＡｇ合金層を規定するために、熱伝導率を直接測定することも可能であるが、その電気抵抗を利用して熱伝導の良否を見積もることができる。金属膜のように主として電子が熱伝導又は電気伝導を司る材料においては、熱伝導率と電気伝導率の間に良好な比例関係があるためである。薄膜の電気抵抗は、その膜厚や測定領域の面積で規格化された抵抗率値で表す。体積抵抗率と面積抵抗率は通常の４探針法で測定でき、ＪＩＳ Ｎ ７１９４によって規定されている。本法により、薄膜の熱伝導率そのものを実測するよりも遥かに簡便に再現性の良いデータが得られる。
Ａｇ又はＡｇ合金層の体積抵抗率は２０〜１５０ｎΩ・ｍの範囲が好ましく、より好ましくは２０〜１００ｎΩ・ｍである。体積抵抗率が２０ｎΩ・ｍ未満の薄膜は実質的に得にくい。また体積抵抗率が１５０ｎΩ・ｍより大きい場合でも、例えば３００ｎｍを超える厚膜とすれば面積抵抗率は下げることができるが、本発明者らの検討によれば、このような高体積抵抗率材料において面積抵抗率のみを下げても十分な放熱効果は得られなかった。厚膜では単位面積当りの熱容量が増大してしまうためと考えられる。
従って、膜厚３００ｎｍ以下で面積抵抗率０．２〜０．９Ω／□が得られるような低体積抵抗率材料を用いることが好ましく、０．５Ω／□程度が最も好ましい。

反射層は多層化することもできる。多層化は、高体積抵抗率材料と低体積抵抗率材料を組み合わせて所望の膜厚で所望の面積抵抗率を得る場合にも有効である。合金化による体積抵抗率の調節は、合金ターゲットを用いるのでスパッタ工程を簡素化できるが、ターゲット製造コスト、ひいては媒体の原材料比を上昇させる要因にもなる。従って、純Ａｌや純Ａｇの薄膜と上記添加元素そのものの薄膜を多層化して所望の体積抵抗率を得ることも有効である。層数が３層程度までであれば初期の装置コストは増加するものの、個々の媒体コストは却って抑制できる場合がある。反射層を複数の金属膜からなる多層構造とし、全膜厚を１００〜３００ｎｍとし、反射層の膜厚の５０％以上が体積抵抗率２０〜１５０ｎΩ・ｍの金属薄膜層（多層であってもよい）とするのが好ましい。
上記の他に、図面には示さなかったが、中間層と半透明反射層の間に密着性改善などの目的で酸化層を形成することもできる。例えば半透明反射層としてＡｇ_９７Ｉｎ_３を形成した後、酸素雰囲気中に１時間置くことでＡｇ_９７Ｉｎ_２Ｏ_１層を厚さ１ｎｍ形成し、他の構成及び膜厚を後述する実施例１と同じにしたところ、実施例１と同等の記録再生特性を示した。

本発明１〜１３によれば、２組の記録構成体を有する光記録媒体において、光入射側からみて奥側の色素記録層を反射層上に設ける際の、反射層材料に対する色素の濡れ性を改善し、記録再生特性のジッタ特性が良くエラーの少ない光記録媒体を提供できる。
更に本発明３〜７、９〜１０によれば、第２記録層構成体の反射層の変形を抑え、溝信号の乱れを起さない光記録媒体を提供できる。
更に本発明１１〜１３によれば、ＤＶＤ再生プレーヤーで再生可能な光記録媒体を提供できる。

以下、実施例及び比較例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例により限定されるものではない。例えば、記録再生条件をＤＶＤの２．４Ｘとして評価したが、更に高速設計を行えば高速化可能である。また多値記録にも応用可能である。

実施例１〜１６、比較例１〜３
表１に示す材料を用い、表２に示す厚さで、基板上に反射層、第１色素層を順次積層し、一方、カバー基板上に反射層、酸化層、第２色素層、保護層を積層した。なお、比較例１〜３では酸化層を設けず、実施例１４〜１６では、基板表面にＭｇＦ、ＳｉＯ_２、フッ素樹脂からなる反射率低減層を形成し、実施例４〜１６及び比較例２では、保護層を２層構成とし、実施例２〜１６及び比較例３では耐熱層を設けた。無機膜はスパッタで形成し、色素層はスピンコートで形成した。また、酸化層は、反射層を形成した後、酸素雰囲気中に１時間置くことにより作成した。
次いで、第１色素層等を形成した基板と第２色素層等を形成したカバー基板を色素層が内側になるように樹脂中間層（ＤＶＤ５７６）を介して貼り合わせ、図１〜図３に示す層構成（但し、反射率低減層は図示せず）の評価用光記録媒体を作製した。
酸化層の膜厚はＨＲＴＥＭ（Ｈｉｇｈ Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）により測定した。

上記実施例及び比較例の評価用光記録媒体を、特性評価装置（パルステック工業社製−ＤＤＵ−１０００）を用いて評価した。記録再生条件は、記録線速：ＤＶＤの２．４Ｘ（２．４×３．４ｍ／ｓ、再生パワー：０．７ｍＷ、ボトムパワー：０．７ｍＷ、記録ストラテジー：マルチパルス〔先頭：０．４Ｔ、マルチパルス０．２Ｔ（ｎ−２）〕とした。
評価結果を表３〜表５に示す。なお、表３は第１の記録構成体、表４、表５は第２の記録構成体の評価結果である。

表３〜表５から分るように、実施例１〜１６の光記録媒体は何れも優れたジッタ特性を示し、反射率も１５％以上であった。またＤＰＤ信号も０．５以上となりＤＶＤプレーヤーで再生可能となった。
これに対し、酸化層が無い比較例１〜３の光記録媒体は、比較例２を除き反射率が１５％未満であり、また、何れも第２の記録構成体のジッタが実施例よりも悪く、更に反射層の変形が大きいため、ＣＮが非常に悪かった。特に比較例１では高パワー（２２ｍＷ）でトラック外れを起した。

本発明の色素型光記録媒体の層構成の一例を示す模式的断面図。 本発明の色素型光記録媒体の層構成の他の例を示す模式的断面図。 本発明の色素型光記録媒体の層構成の他の例を示す模式的断面図。 引用文献１０記載の光記録媒体の層構成を示す断面図。

符号の説明

１１ 基板
１２ 第１光吸収層
１３ 第１バリア層
１４ 中間層
１５ 第２バリア層
１６ 第２光吸収層
１７ 対向基板
１８ 反射層

Claims (13)

1. 基板上に、第１、第２の２組の記録構成体が中間層を介して積層され、第１の記録構成体側からのレーザ光の照射により、２組の記録構成体にそれぞれ記録・再生が行われる光記録媒体において、第２の記録構成体が、少なくとも反射層、酸化層、第２色素層をこの順に有し、該酸化層が反射層を形成する金属と同じ金属の酸化物からなることを特徴とする光記録媒体。
2. 酸化層の膜厚が０．５〜２０ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
3. 第1の記録構成体が、少なくとも第１色素層及び半透明反射層を有し、第２の記録構成体が、少なくとも反射層、酸化層、第２色素層及び保護層をこの順に有することを特徴とする請求項１又は２記載の光記録媒体。
4. 保護層が第１保護層、第２保護層の２層からなることを特徴とする請求項３記載の光記録媒体。
5. 第１保護層が、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＺｒＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、ＳｎＯ、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３から選ばれた少なくとも１種を含み、第２保護層がＺｎＳを含むことを特徴とする請求項４記載の光記録媒体。
6. 反射層又は半透明反射層が、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕ、又はこれらの金属の合金から選ばれた少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の光記録媒体。
7. 反射層がＡｇ又はＡｇ合金からなり、その膜厚が１００〜３００ｎｍであることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載の光記録媒体。
8. 半透明反射層がＡｇ又はＡｇ合金からなり、その膜厚が５〜２０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜７の何れかに記載の光記録媒体。
9. 第２の記録構成体が反射層に隣接して酸化層と反対側に耐熱層を有することを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載の光記録媒体。
10. 耐熱層が、Ｗ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｖ、Ｓｉ、又はこれらの金属の酸化物、炭化物、窒化物から選ばれた少なくとも１種の材料からなることを特徴とする請求項１〜９の何れかに記載の光記録媒体。
11. 光入射側の基板表面に反射率低減層を有することを特徴とする請求項１〜１０の何れかに記載の光記録媒体。
12. 反射率低減層が、ＭｇＦ、ＳｉＯ_２、フッ素樹脂から選ばれた少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項１〜１１の何れかに記載の光記録媒体。
13. 第１の記録構成体及び第２の記録構成体の反射率が１５〜３０％であることを特徴とする請求項１〜１２の何れかに記載の光記録媒体。
    

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