JP4522141B2 - 有機蒸着方法及び有機蒸着装置 - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 138
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 133
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 52
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 50
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 33
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 24
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 claims 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 23
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
図4(a)(b)に示すように、この有機蒸着装置101においては、真空槽102内において直線状の蒸発源103を幅方向へ移動させ、マスク104を介して基板105上に有機蒸発材料を蒸着させるように構成されている。
すなわち、図4(a)(b)に示す従来技術においては、膜厚センサ107の下方に防着部材106が設置されており、熱的な観点でとらえると、蒸発源103がモニタ(防着部材106)の下方に位置する場合とスキャンして基板105の下方に位置する場合では、外乱の影響によって蒸発源103の上部即ち蒸気放出部分の輻射熱損失が変化し、蒸発材料の温度が微妙に変化していることが原因であると考えられる。
また、請求項2記載の発明は、請求項1記載の発明において、前記防着部材が、前記成膜対象物のマスクと同等の輻射率の材料からなるものである。
請求項3記載の発明は、請求項2記載の発明において、前記待機位置における前記蒸発源と前記防着部材との距離が、前記成膜位置における前記蒸発源と前記マスクとの距離に等しいものである。
請求項4記載の発明は、請求項1乃至3のいずれか1項記載の発明において、前記冷却部が、液冷によるものである。
請求項5記載の発明は、請求項1乃至4のいずれか1項記載の発明において、前記防着部材の開口部が、前記蒸発量モニターの直下の位置に設けられたモニター用開口部と、前記成膜位置における前記蒸発源の移動範囲の上方に設けられた成膜用開口部とを有し、前記モニター用開口部と前記成膜用開口部とが同一平面内に設けられ、前記防着部材を静止した状態で前記蒸発源が前記モニター用開口部の下方と前記成膜用開口部の下方との間を移動するように構成されているものである。
請求項6記載の発明は、請求項1乃至5のいずれか1項記載の有機蒸着装置を用いて有機材料の蒸着を行う方法であって、真空中で前記蒸発源内の前記有機蒸発材料を蒸発させ、前記蒸発源を待機させながら当該有機蒸発材料の蒸発レートを測定し、その測定結果に基づいて前記蒸発源における蒸発レートを制御しつつ前記蒸発源を移動させながら成膜対象物に対して蒸着を行う際、前記蒸発源の蒸気放出部分近傍の輻射熱損失が、待機時と成膜時において同等となるようにしたものである。
図1(a)は、本発明に係る有機蒸着装置の好ましい実施の形態の正面側断面図、図1(b)は、同実施の形態の制御系の構成を示すブロック図である。
また、図2は、同実施の形態の防着部材の平面図、図3は、同実施の形態の蒸発源の動作を示す説明図である。
その結果、成膜の際に蒸発源3の蒸気放出部分及び蒸発材料の温度変化を阻止することができるので、蒸発レートの変動を防止して成膜速度の精確な制御が行うことができる。
例えば、上述の実施の形態においては、防着部材7をマスク6とほぼ同じ高さに配置するようにしたが、待機位置における蒸発源3と防着部材7の距離と成膜位置における蒸発源3とマスク6の距離とがほぼ等しくなるようにすれば、防着部材7の位置を変更することも可能である。
Claims (6)
- 所定の成膜対象物が収容される真空槽と、
前記真空槽内において待機位置と成膜位置との間を移動するように構成され、所定の有機蒸発材料を蒸発させるための蒸発源と、
前記待機位置において前記蒸発源から蒸発する蒸気の蒸発レートを測定するための蒸発量モニターとを備え、
前記蒸発量モニターにおいて得られた結果に基づいて前記蒸発源における蒸発レートを制御しつつ、前記有機蒸発材料を前記成膜対象物に蒸着させるように構成された有機蒸着装置であって、
前記蒸発源と前記蒸発量モニターの間に、当該有機蒸発材料を通過させるための開口部を有する板状の防着部材が設置固定されるとともに、
当該防着部材の前記成膜対象物側の面で前記開口部を除く水平面上に冷却部が設けられている有機蒸着装置。 - 前記防着部材が、前記成膜対象物のマスクと同等の輻射率の材料からなる請求項1記載の有機蒸着装置。
- 前記待機位置における前記蒸発源と前記防着部材との距離が、前記成膜位置における前記蒸発源と前記マスクとの距離に等しい請求項2記載の有機蒸着装置。
- 前記冷却部が、液冷によるものである請求項1乃至3のいずれか1項記載の有機蒸着装置。
- 前記防着部材の開口部が、前記蒸発量モニターの直下の位置に設けられたモニター用開口部と、前記成膜位置における前記蒸発源の移動範囲の上方に設けられた成膜用開口部とを有し、前記モニター用開口部と前記成膜用開口部とが同一平面内に設けられ、前記防着部材を静止した状態で前記蒸発源が前記モニター用開口部の下方と前記成膜用開口部の下方との間を移動するように構成されている請求項1乃至4のいずれか1項記載の有機蒸着装置。
- 請求項1乃至5のいずれか1項記載の有機蒸着装置を用いて有機材料の蒸着を行う方法であって、
真空中で前記蒸発源内の前記有機蒸発材料を蒸発させ、前記蒸発源を待機させながら当該有機蒸発材料の蒸発レートを測定し、その測定結果に基づいて前記蒸発源における蒸発レートを制御しつつ前記蒸発源を移動させながら成膜対象物に対して蒸着を行う際、前記蒸発源の蒸気放出部分近傍の輻射熱損失が、待機時と成膜時において同等となるようにした有機蒸着方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004146182A JP4522141B2 (ja) | 2004-05-17 | 2004-05-17 | 有機蒸着方法及び有機蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004146182A JP4522141B2 (ja) | 2004-05-17 | 2004-05-17 | 有機蒸着方法及び有機蒸着装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005325425A JP2005325425A (ja) | 2005-11-24 |
JP4522141B2 true JP4522141B2 (ja) | 2010-08-11 |
Family
ID=35471987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004146182A Expired - Lifetime JP4522141B2 (ja) | 2004-05-17 | 2004-05-17 | 有機蒸着方法及び有機蒸着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4522141B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100729096B1 (ko) | 2006-03-29 | 2007-06-14 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기물 증발 증착방법 및 이를 위한 유기 증발 증착 장치 |
WO2008111398A1 (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-18 | Tokyo Electron Limited | 蒸着装置の制御装置および蒸着装置の制御方法 |
KR101226518B1 (ko) | 2008-09-30 | 2013-01-25 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 증착 장치, 증착 방법 및 프로그램을 기억한 기억 매체 |
JP5395478B2 (ja) * | 2009-03-18 | 2014-01-22 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 製造装置 |
JP5694679B2 (ja) * | 2009-05-04 | 2015-04-01 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 有機物蒸着装置及び蒸着方法 |
US20100279021A1 (en) | 2009-05-04 | 2010-11-04 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Apparatus for depositing organic material and depositing method thereof |
TWI486470B (zh) * | 2011-03-22 | 2015-06-01 | Au Optronics Corp | 蒸鍍設備 |
JP2014055342A (ja) * | 2012-09-14 | 2014-03-27 | Hitachi High-Technologies Corp | 成膜装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004091919A (ja) * | 2002-07-11 | 2004-03-25 | Ulvac Japan Ltd | 薄膜形成装置及び薄膜形成方法 |
JP2004107763A (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Ulvac Japan Ltd | 薄膜形成装置 |
-
2004
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004091919A (ja) * | 2002-07-11 | 2004-03-25 | Ulvac Japan Ltd | 薄膜形成装置及び薄膜形成方法 |
JP2004107763A (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Ulvac Japan Ltd | 薄膜形成装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005325425A (ja) | 2005-11-24 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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