JP4512950B2 - カラーフィルターの製造方法 - Google Patents

カラーフィルターの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4512950B2
JP4512950B2 JP2006188555A JP2006188555A JP4512950B2 JP 4512950 B2 JP4512950 B2 JP 4512950B2 JP 2006188555 A JP2006188555 A JP 2006188555A JP 2006188555 A JP2006188555 A JP 2006188555A JP 4512950 B2 JP4512950 B2 JP 4512950B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
black matrix
photoresist layer
color filter
transparent substrate
positive photoresist
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006188555A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007017985A (ja
Inventor
景瑜 周
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Original Assignee
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hon Hai Precision Industry Co Ltd filed Critical Hon Hai Precision Industry Co Ltd
Publication of JP2007017985A publication Critical patent/JP2007017985A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4512950B2 publication Critical patent/JP4512950B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/223Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512Light shielding layers, e.g. black matrix
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • G02F1/133516Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Description

本発明は、カラーフィルターに関し、特にカラーフィルターの製造方法に関するものである。
液晶表示装置は、軽く、薄い優れた点を有するから、携帯式コンピューター、携帯電話、テーブル型表示装置及びデジタルカメラなどのいろいろな領域に使われている。液晶表示装置は、カラーの画像を表示することに使われるカラーフィルターを含む。液晶表示装置がカラーの画像を表示するために、各画素は、カラーフィルターの赤、緑、青のカラーの領域に対応する。表示する過程において、要望する表示の画像によって、一個または複数の電極は、電圧を印加される。従って、あらゆる光線、部分の光線またはない光線は、該画素に対応するカラーフィルターの領域を通ることを許される。ユーザーに見える画像は、隣のカラーフィルターの領域を通る光線の色から混合し、形成される。
図1は、従来のカラーフィルターを製造する方法の流れ図である。該方法は、透明の基板に金属材料層を形成し、該金属材料層に第一フォトレジスト層を形成する工程と、フォトマスクを利用して、該第一フォトレジスト層に露光を行う工程と、パターニングされたフォトレジストマトリックスを形成するように、第一フォトレジスト層に現像を行う工程と、ブラックマトリックスを形成するように、該金属材料層にエッチングを行い、且つ残した第一フォトレジスト層を除去する工程と、該ブラックマトリックスに該ブラックマトリックスを覆う第二フォトレジスト層を形成する工程と、第二フォトレジスト層に露光をするために、該透明の基板の第二フォトレジスト層から離れる表面にエネルギーを照射する工程と、ブラックマトリックスに配置された複数の隔壁を形成するように、第二フォトレジスト層に露光をする工程と、インクジェット装置を利用して、インクを隔壁とブラックマトリックスで区画された複数の領域に吐出させる工程と、該インクを固化させる工程と、を含む。
図2〜図9を参照して、該カラーフィルターの製造方法を詳しく説明する。
図2に示すように、透明の基板100を提供し、透明の基板100に順次に金属材料層102と第一フォトレジスト層104を形成する。金属材料層102は、一般的に、真空蒸着(evaporation)またはスパッタリング(sputtering)方式によって形成したクロムまたはクロム合金の薄膜層である。
図3に示すように、フォトマスク(図示せず)を利用して、第一フォトレジスト層104に露光した後、現像を行い、パターニングされたフォトレジストマトリックス1041を形成する。従って、フォトマスのパターンは、該パターニングされたフォトレジストマトリックス1041に移転される。
図4に示すように、透明の基板100に配置されるブラックマトリックス1021を形成するように、該金属材料層102をエッチングする。パターニングされたフォトレジストマトリックス1041を除去する。従って、パターニングされたフォトレジスト層のパターンは、ブラックマトリックス1021に移転される。
図5に示すように、透明の基板100にブラックマトリックス1021を覆う第二フォトレジスト層106を形成する。第二フォトレジスト層106に露光をするために、紫外光源112から出射した紫外線を、該透明の基板100の第二フォトレジスト層106から離れる表面に照射させる。
図6に示すように、ブラックマトリックス1021に配置された複数の隔壁1061を形成するように、第二フォトレジスト層106に現像をする。隔壁1061とブラックマトリックス1021で区画された複数の領域を形成する。
図7と図8に示すように、特定の色のマイクロメーターオーダーのインクの微流体108を隔壁1061及びブラックマトリックス1021で区画された複数の領域に吐出させて、インクの微流体108は、該領域にインク110を形成する。
図9に示すように、加熱装置または発光装置などの固化装置を利用して、該インク110を乾燥または架橋し、平らな赤い着色層114を形成する。ほかの青い着色層と緑の着色層は、それぞれ該赤い着色層114の両側に形成される。
従来技術に記載されるカラーフィルターの製造方法において、フォトマスクのパターンをブラックマトリックス1021に移転させるために、まず、フォトマスクのパターンを、第一フォトレジスト層に移転させ、パターニングされたフォトレジスト層1041を形成した。それから、パターニングされたフォトレジスト層1041のパターンを、金属材料層102に移転させ、ブラックマトリックス1021を形成する。二回のパターンの移転をするから、ブラックマトリックス1021の精度が低くなる。従って、隔壁1061と着色層などのパターンの精度も低くなる。且つクロムは、環境に良くない影響を与える。
従って、本発明は、高精度のブラックマトリックスのパターンを持つカラーフィルターの製造方法を提供する。
本発明のカラーフィルターの製造方法は、透明の基板上に有機ブラックマトリックスのフォトレジスト層を形成する工程と、フォトマスクを利用して、該有機ブラックマトリックスのフォトレジスト層に露光を行う工程と、前記透明の基板上に有機ブラックマトリックスを形成するように、前記有機ブラックマトリックスのフォトレジスト層に現像を行う工程と、前記透明の基板上に前記有機ブラックマトリックスを覆うポジ型フォトレジスト層を形成する工程と、該ポジ型フォトレジスト層に露光を行うために、前記透明の基板のポジ型フォトレジスト層から離れる表面に照射する工程と、前記ブラックマトリックスに複数の隔壁を形成するように、該ポジ型フォトレジスト層に現像を行う工程と、インクジェット装置を利用して、インクを複数の隔壁と有機ブラックマトリックスで区画された複数の領域に吐出させる工程と、該インクを固化させる工程と、を含む。
本発明のカラーフィルターの製造方法は、透明の基板の表面に複数の凹槽を形成する工程と、有機ブラックマトリックスを形成するように、前記複数の凹槽に有機ブラック材料を配置する工程と、前記透明の基板上に該有機ブラックマトリックスを覆うポジ型フォトレジスト層を形成する工程と、該ポジ型フォトレジスト層に露光を行うために、前記透明の基板のポジ型フォトレジスト層から離れる表面に照射する工程と、前記ブラックマトリックスに複数の隔壁を形成するように、該ポジ型フォトレジスト層に現像を行う工程と、インクジェット装置を利用して、インクを複数の隔壁と有機ブラックマトリックスで区画された複数の領域に吐出させる工程と、該インクを固化させる工程と、を含む。
本発明のカラーフィルターの製造方法は、表面に複数の凹槽を有する透明の基板を提供する工程と、有機ブラックマトリックスを形成するように、前記複数の凹槽に有機ブラック材料を配置する工程と、前記透明の基板上に前記有機ブラックマトリックスを覆うポジ型フォトレジスト層を形成する工程と、該ポジ型フォトレジスト層に露光を行うために、前記透明の基板のポジ型フォトレジスト層から離れる表面に照射する工程と、前記ブラックマトリックスに複数の隔壁を形成するように、前記ポジ型フォトレジスト層に現像を行う工程と、インクジェット装置を利用して、インクを複数の隔壁と有機ブラックマトリックスで区画された複数の領域に吐出させる工程と、該インクを固化させる工程と、を含む。
従来技術と比べて、本発明に係るカラーフィルターの製造方法において、有機ブラックマトリックスが直接的にフォトマスクによって形成されるから、該ブラックマトリックスのパターンの精度は、高くなる。且つブラックマトリックスの材料が有機樹脂を採用するから、環境に良くない影響を与えない。
次に、本発明の参考例としてカラーフィルターの製造方法を詳しく説明する。
図10 は、本発明の参考例が提供するカラーフィルターの製造方法の流れ図である。該方法は、透明の基板上に有機ブラックマトリックスのフォトレジスト層を形成する工程と、フォトマスクを利用して、該有機ブラックマトリックスのフォトレジスト層に露光を行う工程と、前記透明の基板上に有機ブラックマトリックスを形成するように、該有機ブラックマトリックスのフォトレジスト層に現像を行う工程と、前記透明の基板上に該有機ブラックマトリックスを覆うポジ型フォトレジスト層を形成する工程と、前記ポジ型フォトレジスト層に露光を行うために、前記透明の基板のポジ型フォトレジスト層から離れる表面に照射する工程と、前記ブラックマトリックスに複数の隔壁を形成するように、該ポジ型フォトレジスト層に現像を行う工程と、インクジェット装置を利用して、インクを複数の隔壁と有機ブラックマトリックスで区画された複数の領域に吐出させる工程と、該インクを固化させる工程と、を含む。
次に、図11〜図15を参照して、該カラーフィルターの製造方法を詳しく説明する。
図11に示すように、ガラスの基板などの透明の基板300を提供して、該透明の基板300上に有機ブラックマトリックスのフォトレジスト層304を形成する。該有機ブラックマトリックスのフォトレジスト層304の材料は、一般的に、有機樹脂であり、該有機樹脂はカーボンブラックを含む。
図12に示すように、フォトマスク(図示せず)を利用して、有機ブラックマトリックスのフォトレジスト層304に露光及び現像をした後、該透明の基板300上に有機ブラックマトリックス3041を形成する。従って、フォトマスクのパターンは、有機ブラックマトリックス3041に転移される。
図13に示すように、透明の基板300上に該有機ブラックマトリックス3041を覆うポジ型フォトレジスト層306を形成する。ポジ型フォトレジスト層306に露光を行うように、該透明の基板300のポジ型フォトレジスト層306から離れる表面に、紫外光源312を照射させる。有機ブラックマトリックス3041は、ポジ型フォトレジスト層306にとって、フォトマスクの機能を発揮する。
図14に示すように、ポジ型フォトレジスト層306に現像をした後、ブラックマトリックス3041に複数の隔壁3061を形成し、隔壁3061と有機ブラックマトリックス3041で区画された複数の領域を形成する。
図15に示すように、例えば、熱式または圧電式のインクジェット装置などを利用して、特定の色のインクを隔壁3061と有機ブラックマトリックス3041で区画された複数の領域に吐出させる。加熱装置または発光装置などの固化装置を利用して、該インクを乾燥または架橋し、例えば赤い着色層310を形成する。ほかの青い着色層と緑の着色層は、それぞれ該赤い着色層310の両側に形成される。
従来技術と比べて、本発明の参考例に係るカラーフィルターの製造方法において、有機ブラックマトリックスのフォトレジスト層304が直接的にフォトマスクと対応し、有機ブラックマトリックス3041を形成するから、該有機ブラックマトリックス3041のパターンの精度を高めることができる。且つ有機ブラックマトリックス3041の材料が有機樹脂を採用し、有害な金属のクロムを使っていないから、本参考例が提供するカラーフィルターは、環境保護に有利である。
図16は、本発明の第実施例が提供するカラーフィルターの製造方法の流れ図である。該方法は、透明の基板の表面に複数の凹槽を形成する工程と、有機ブラックマトリックスを形成するように、該複数の凹槽に有機ブラック材料を配置する工程と、前記透明の基板上に該有機ブラックマトリックスを覆うポジ型フォトレジスト層を形成する工程と、該ポジ型フォトレジスト層に露光を行うために、前記透明の基板のポジ型フォトレジスト層から離れる表面に照射する工程と、該ブラックマトリックスに複数の隔壁を形成するように、該ポジ型フォトレジスト層に現像を行う工程と、インクジェット装置を利用して、インクを複数の隔壁と有機ブラックマトリックスで区画された複数の領域に吐出させる工程と、該インクを固化させる工程と、を含む。
次に、図17〜図21を参照して、該カラーフィルターの製造方法を詳しく説明する。
図17に示すように、ガラスの基板などの透明の基板500を提供する。フォトマスクを利用して、レーザ、サンドブラスト及びエッチングを行い、あるいは、位置決め装置を利用して、レーザ、サンドブラストを行うことによって、該透明の基板500の上表面にパターニングされた複数の凹槽504を形成する。
図18に示すように、熱式または圧電式のインクジェット装置などを利用して、カーボンブラック樹脂などの有機材料を複数の凹槽504に吐出させ、該有機材料は、該凹槽504に有機ブラックマトリックス5041を形成する。
図19に示すように、透明の基板500の上に該有機ブラックマトリックス5041を覆うポジ型フォトレジスト層506を形成する。ポジ型フォトレジスト層506に露光を行うように、該透明の基板500のポジ型フォトレジスト層506から離れる表面に、紫外光源512を照射させ、有機ブラックマトリックス5041は、ポジ型フォトレジスト層506にとって、フォトマスクの機能を発揮する。
図20に示すように、ポジ型フォトレジスト層506に現像をした後、有機ブラックマトリックス5041に複数の隔壁5061を形成し、隔壁5061と有機ブラックマトリックス5041で区画された複数の領域を形成する。該隔壁5061は、可視光線にとって、不透明であることが好ましい。
図21に示すように、熱式または圧電式のインクジェット装置などを利用して、特定の色のインクを隔壁5061と有機ブラックマトリックス5041で区画された複数の領域に吐出させ、加熱装置または発光装置などの固化装置を利用して、該インクを乾燥または架橋し、例えば赤い着色層510を形成する。ほかの青い着色層と緑の着色層は、それぞれ該赤い着色層510の両側に形成される。
本実施例が提供するカラーフィルターの製造方法は、前記参考例が提供するカラーフィルターの製造方法と同様の優れた点がある。且つ隔壁5061と有機ブラックマトリックス5041で区画された複数の領域が完全に隔壁5061に仕切られるから、有機ブラックマトリックス5041に穴があっても、複数の領域に吐出したインクは、混色を生じる恐れはない。
図22は、本発明の第実施例が提供するカラーフィルターの製造方法の流れ図である。該方法は、表面に複数の凹槽を有する透明の基板を提供する工程と、有機ブラックマトリックスを形成するように、該複数の凹槽に有機ブラック材料を配置する工程と、前記透明の基板上に該有機ブラックマトリックスを覆うポジ型フォトレジスト層を形成する工程と、ポジ型フォトレジスト層に露光を行うために、該透明の基板のポジ型フォトレジスト層から離れる表面に照射する工程と、前記ブラックマトリックスに複数の隔壁を形成するように、該ポジ型フォトレジスト層に現像を行う工程と、インクジェット装置を利用して、インクを複数の隔壁と有機ブラックマトリックスで区画された複数の領域に吐出させる工程と、該インクを固化させる工程と、を含む。
実施例が提供するカラーフィルターの製造方法は、前記第実施例が提供するカラーフィルターの製造方法と類似するステップと長所がある。本分野の技術者は、前記第実施例が提供するカラーフィルターの製造方法を参考し、該実施例を実現できる。
従来のカラーフィルターを製造する方法の流れ図である。 従来のカラーフィルターを製造する方法において、透明の基板に順次に金属材料層と第一フォトレジスト層を形成することを示す図である。 従来のカラーフィルターを製造する方法において、金属材料層にパターニングされたフォトレジストマトリックスを形成することを示す図である。 従来のカラーフィルターを製造する方法において、透明の基板にブラックマトリックスを形成することを示す図である。 従来のカラーフィルターを製造する方法において、透明の基板とブラックマトリックスに第二フォトレジスト層を形成することを示す図である。 従来のカラーフィルターを製造する方法において、ブラックマトリックスに複数の隔壁を形成することを示す図である。 従来のカラーフィルターを製造する方法において、インクの微流体を隔壁及びブラックマトリックスで区画された複数の領域に吐出させることを示す図である。 従来のカラーフィルターを製造する方法において、インクは、隔壁及びブラックマトリックスで区画された複数の領域に収容されることを示す図である。 従来のカラーフィルターを製造する方法において、インクは、隔壁及びブラックマトリックスで区画された複数の領域に固化されることを示す図である。 本発明の参考例が提供するカラーフィルターの製造方法の流れ図である。 本発明の参考例が提供するカラーフィルターの製造方法において、透明の基板上に有機ブラックマトリックスのフォトレジスト層を形成することを示す図である。 本発明の参考例が提供するカラーフィルターの製造方法において、透明の基板上に有機ブラックマトリックスを形成することを示す図である。 本発明の参考例が提供するカラーフィルターの製造方法において、透明の基板上にポジ型フォトレジスト層を形成することを示す図である。 本発明の参考例が提供するカラーフィルターの製造方法において、ブラックマトリックスに複数の隔壁を形成することを示す図である。 本発明の参考例が提供するカラーフィルターの製造方法において、インクは、複数の隔壁と有機ブラックマトリックスで区画された複数の領域に固化されることを示す図である。 本発明の第実施例が提供するカラーフィルターの製造方法の流れ図である。 本発明の第実施例が提供するカラーフィルターの製造方法において、透明の基板上に複数の凹槽を形成することを示す図である。 本発明の第実施例が提供するカラーフィルターの製造方法において、凹槽内に有機ブラックマトリックスを形成することを示す図である。 本発明の第実施例が提供するカラーフィルターの製造方法において、透明の基板上にポジ型フォトレジスト層を形成することを示す図である。 本発明の第実施例が提供するカラーフィルターの製造方法において、ブラックマトリックスに複数の隔壁を形成することを示す図である。 本発明の第実施例が提供するカラーフィルターの製造方法において、インクは、複数の隔壁と有機ブラックマトリックスで区画された複数の領域に固化されることを示す図である。 本発明の本発明の第実施例が提供するカラーフィルターの製造方法の流れ図である。
符号の説明
100、300、500 透明の基板
102 金属材料層
104 第一フォトレジスト層
106 第二フォトレジスト層
108 インクの微流体
110 インク
112、312、512 紫外光源
114、310、510 着色層
304 有機ブラックマトリックスのフォトレジスト層
306、506 ポジ型フォトレジスト層
504 凹槽
1021、3041、5041 ブラックマトリックス
1041 フォトレジストマトリックス
1061、3061、5061 隔壁

Claims (8)

  1. 透明の基板の表面に複数の凹槽を形成する工程と、
    有機ブラックマトリックスを形成するように、インクジェット装置を利用して、該複数の凹槽に有機ブラック材料を配置する工程と、
    前記透明の基板上に前記有機ブラックマトリックスを覆うポジ型フォトレジスト層を形成する工程と、
    該ポジ型フォトレジスト層に露光を行うために、前記透明の基板のポジ型フォトレジスト層から離れる表面に照射する工程と、
    前記ブラックマトリックスに複数の隔壁を形成するように、該ポジ型フォトレジスト層に現像を行う工程と、
    インクジェット装置を利用して、インクを複数の隔壁と有機ブラックマトリックスで区画された複数の領域に吐出させる工程と、
    該インクを固化させる工程と、
    を含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
  2. 前記凹槽は、フォトマスクを利用して、レーザ、サンドブラストまたはエッチングを行い、或いは、位置決め装置を利用して、レーザまたはサンドブラストを行うことによって、形成することを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルターの製造方法。
  3. 表面に複数の凹槽を有する透明の基板を提供する工程と、
    有機ブラックマトリックスを形成するように、インクジェット装置を利用して、該複数の凹槽に有機ブラック材料を配置する工程と、
    前記透明の基板上に該有機ブラックマトリックスを覆うポジ型フォトレジスト層を形成する工程と、
    該ポジ型フォトレジスト層に露光を行うために、前記透明の基板のポジ型フォトレジスト層から離れる表面に照射する工程と、
    前記ブラックマトリックスに複数の隔壁を形成するように、該ポジ型フォトレジスト層に現像を行う工程と、
    インクジェット装置を利用して、インクを複数の隔壁と有機ブラックマトリックスで区画された複数の領域に吐出させる工程と、
    該インクを固化させる工程と、
    を含むことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
  4. 前記有機ブラック材料は、カーボンブラックを含む有機樹脂であることを特徴とする請求項1または請求項3に記載のカラーフィルターの製造方法。
  5. 前記透明の基板は、ガラスの基板であることを特徴とする請求項1又は請求項3に記載のカラーフィルターの製造方法。
  6. 前記透明の基板のポジ型フォトレジスト層から離れる表面は、紫外線を発射する装置に照射されることを特徴とする請求項1又は請求項3に記載のカラーフィルターの製造方法。
  7. 前記インクジェット装置は、熱式インクジェット装置または圧電式インクジェット装置であることを特徴とする請求項1又は請求項3に記載のカラーフィルターの製造方法。
  8. 前記インクは、加熱装置、加熱装置と減圧乾燥装置または発光装置に固化されることを特徴とする請求項1又は請求項3に記載のカラーフィルターの製造方法。
JP2006188555A 2005-07-08 2006-07-07 カラーフィルターの製造方法 Expired - Fee Related JP4512950B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNB2005100359161A CN100394221C (zh) 2005-07-08 2005-07-08 彩色滤光片制造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007017985A JP2007017985A (ja) 2007-01-25
JP4512950B2 true JP4512950B2 (ja) 2010-07-28

Family

ID=37597338

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006188555A Expired - Fee Related JP4512950B2 (ja) 2005-07-08 2006-07-07 カラーフィルターの製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP4512950B2 (ja)
KR (1) KR100868398B1 (ja)
CN (1) CN100394221C (ja)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI349117B (en) 2007-01-03 2011-09-21 Au Optronics Corp Color filter and manufacturing method thereof
CN100464224C (zh) * 2007-01-18 2009-02-25 友达光电股份有限公司 彩色滤光片及其制作方法
CN102707353B (zh) * 2011-08-04 2014-05-14 京东方科技集团股份有限公司 彩色滤光片及其制造方法
KR101924997B1 (ko) * 2012-07-03 2018-12-05 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그 제조 방법
CN103646852B (zh) * 2013-12-12 2018-11-23 京东方科技集团股份有限公司 一种基板的制作方法
JP6269467B2 (ja) * 2013-12-27 2018-01-31 富士フイルム株式会社 カラーフィルターの製造方法および固体撮像素子の製造方法
KR20150084566A (ko) 2014-01-14 2015-07-22 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그것의 제조 방법
CN104297978B (zh) * 2014-10-30 2017-06-09 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板的制备方法、显示装置的制备方法
CN105242445A (zh) * 2015-10-30 2016-01-13 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板的制作方法和液晶显示面板
CN105259696A (zh) * 2015-11-16 2016-01-20 深圳市华星光电技术有限公司 彩色滤光基板的制作方法
CN106870451A (zh) * 2015-12-11 2017-06-20 台达电子工业股份有限公司 叶轮及风扇
US11965522B2 (en) 2015-12-11 2024-04-23 Delta Electronics, Inc. Impeller
KR102432785B1 (ko) * 2017-02-15 2022-08-17 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 격벽용 패턴의 형성 방법
CN111149021A (zh) * 2017-09-29 2020-05-12 富士胶片株式会社 滤光器的制造方法
US10802325B2 (en) * 2018-11-05 2020-10-13 Himax Display, Inc. Display panel
CN111432571A (zh) * 2020-02-20 2020-07-17 南昌欧菲光科技有限公司 导电基板的黑化方法及导电基板、电子设备

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04223402A (ja) * 1990-12-26 1992-08-13 Fujitsu Ltd カラーフィルタの製造方法
JPH10133011A (ja) * 1996-10-31 1998-05-22 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ及びその製造方法
JP2000035511A (ja) * 1998-07-16 2000-02-02 Asahi Glass Co Ltd カラーフィルタの製造方法及びそれを用いた液晶表示素子
JP2005134879A (ja) * 2003-10-30 2005-05-26 Allied Material Technology Corp バンク構造の製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000037972A1 (fr) * 1998-12-21 2000-06-29 Seiko Epson Corporation Filtre colore et son procede de fabrication
WO2001007941A1 (fr) * 1999-07-28 2001-02-01 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Procede de fabrication d'un filtre colore, filtre colore et dispositif a cristaux liquides
WO2002099477A1 (en) * 2001-06-01 2002-12-12 Seiko Epson Corporation Color filter and electro-optical device
TWI247164B (en) * 2003-10-30 2006-01-11 Allied Material Technology Cor Method for forming a bank of color filter
KR101022552B1 (ko) * 2003-12-30 2011-03-16 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
KR20060024939A (ko) * 2004-09-15 2006-03-20 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치용 컬러필터기판 및 그의 제조방법
CN100529877C (zh) * 2005-06-17 2009-08-19 虹创科技股份有限公司 彩色滤光片及其制造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04223402A (ja) * 1990-12-26 1992-08-13 Fujitsu Ltd カラーフィルタの製造方法
JPH10133011A (ja) * 1996-10-31 1998-05-22 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ及びその製造方法
JP2000035511A (ja) * 1998-07-16 2000-02-02 Asahi Glass Co Ltd カラーフィルタの製造方法及びそれを用いた液晶表示素子
JP2005134879A (ja) * 2003-10-30 2005-05-26 Allied Material Technology Corp バンク構造の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20070006624A (ko) 2007-01-11
JP2007017985A (ja) 2007-01-25
CN100394221C (zh) 2008-06-11
CN1892265A (zh) 2007-01-10
KR100868398B1 (ko) 2008-11-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4512950B2 (ja) カラーフィルターの製造方法
JP5890486B2 (ja) 印刷及び表面エネルギ制御によるカラーフィルタ製造方法
KR100638134B1 (ko) 컬러화상 표시장치의 착색층 형성 방법
US7537867B2 (en) Method for manufacturing color filter
JP3965541B2 (ja) マイクロレンズアレイの製造方法
JP7016963B2 (ja) 隔壁の製造方法、画像表示装置およびその製造方法
CN116364817A (zh) 全彩化显示面板的制备方法、显示面板以及显示装置
JP2009258379A (ja) カラーフィルタ形成用基板およびカラーフィルタの製造方法
JP2005134879A (ja) バンク構造の製造方法
TWI247164B (en) Method for forming a bank of color filter
JP2007188086A (ja) カラーフィルター隔壁、その製造方法、及びカラーフィルター
JP4641204B2 (ja) カラーフィルタおよびその製造方法
JP2001272527A (ja) カラーフィルタおよびその製造方法
JP2007289949A (ja) 薄膜パターン層の製造方法
JP2008205417A (ja) 機能パターン用多種レジスト塗布基板及びその基板を用いた機能パターン基板の製造方法
TWI338189B (en) Substrate structure and method of manufacturing thin film pattern layer using the same
JP2008166280A (ja) 隔壁形成用ソフトモールド、隔壁および下部パネルの製造方法、およびプラズマディスプレイパネル
KR100892582B1 (ko) 칼라 필터 기판 및 이의 제조 방법
JP2005093407A (ja) プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法
KR20040103740A (ko) 프린트헤드 노즐 플레이트를 위한 이미지처리가능한 지지매트릭스 및 제조 방법
JP5835651B2 (ja) カラーフィルタの製造方法
KR20070056545A (ko) 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 재료 및 제조방법
JP2010044301A (ja) 吐出液の配置方法、カラーフィルタの製造方法、有機el基板の製造方法
JP2008185904A (ja) 液晶配向制御用突起の形成方法
JP2003344819A (ja) カラー液晶表示装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090707

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091005

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091208

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100201

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100330

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20100401

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100427

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130521

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140521

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees