JP4505670B2 - 透過型光学素子の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1実施形態に係る透過型光学素子の製造方法を実施するための反射防止層製造装置の構造を説明する概念図である。
以下、第2実施形態に係る透過型光学素子の製造方法について説明する。第2実施形態の製造方法は、第1施形態の製造方法を部分的に変更したものであり、ここでは主に変更点について説明する。
以下、本発明の第3実施形態である投影露光装置について、図面に参照しつつ説明する。
Claims (8)
- 透過型光学素子の母材としての基板を準備する工程と、
所定のエッチガスを用いてランダムに配置された無数の点状微細エリア以外をドライエッチすることによって、前記基板の表面上に反射防止層として機能する微細針状構造を形成する工程と、
を備える透過型光学素子の製造方法であって、
前記基板の表面に当該基板よりもエッチング速度の低い所定のマスク材料からなる微細粒子をランダムに被着させる工程をさらに備え、
前記微細粒子を被着させる工程は、前記基板の周辺に前記所定のマスク材料に対応するスパッタ部材を配置した状態で、前記基板とともに当該スパッタ部材をスパッタすることで、前記基板のドライエッチと前記スパッタ部材のスパッタによるマスク形成とを並行して進行させることを特徴とする透過型光学素子の製造方法。 - 前記スパッタ部材は、前記基板を支持する支持台の少なくとも一部を構成することを特徴とする請求項1記載の透過型光学素子の製造方法。
- 前記所定のマスク材料は、Al、Al2O3、CrO2、Cr、及びNiのうち少なくとも一種を含むことを特徴とする請求項1及び請求項2のいずれか一項記載の透過型光学素子の製造方法。
- 前記基板は、Si及びCaのうち少なくとも一方を10%以上含む組成の材料で形成されることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項記載の透過型光学素子の製造方法。
- 前記基板は、石英ガラス、及び蛍石の少なくとも一方であり、前記所定のエッチガスは、Ar/CF4、CHF3、及びSF6のうち少なくとも一種のガスを含むことを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか一項記載の透過型光学素子の製造方法。
- 前記ドライエッチは、IRE、ICP、及びRIBEのうち少なくとも一種の方法であることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれか一項記載の透過型光学素子の製造方法。
- 前記微細針状構造を形成する工程の後に、フッ化水素酸を含むエッチャントで前記基板をウエットエッチングする工程をさらに備えることを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれか一項記載の透過型光学素子の製造方法。
- 前記エッチャントは、希釈緩衝フッ酸又は希釈フッ酸であることを特徴とする請求項7記載の透過型光学素子の製造方法。
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