JP4488528B2 - キシリレンジアミン(xda)の製造法 - Google Patents
キシリレンジアミン(xda)の製造法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4488528B2 JP4488528B2 JP2006525727A JP2006525727A JP4488528B2 JP 4488528 B2 JP4488528 B2 JP 4488528B2 JP 2006525727 A JP2006525727 A JP 2006525727A JP 2006525727 A JP2006525727 A JP 2006525727A JP 4488528 B2 JP4488528 B2 JP 4488528B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nmp
- quench
- boiling
- isophthalonitrile
- hydrogenation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/44—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers
- C07C209/48—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reduction of carboxylic acids or esters thereof in presence of ammonia or amines, or by reduction of nitriles, carboxylic acid amides, imines or imino-ethers by reduction of nitriles
Description
キシレンをフタロニトリルへとアンモ酸化する工程、その際、前記アンモ酸化工程の蒸気状の生成物を液体の有機溶剤と直接接触させる(クエンチ)、
フタロニトリルよりも高い沸点を有する生成物(高沸点成分)を得られたクエンチ溶液又はクエンチ懸濁液から除去する工程、及び
フタロニトリルを水素化する工程
を含むキシリレンジアミンの製造法に関する。
キシレンをフタロニトリルへとアンモ酸化する工程、その際、前記アンモ酸化工程の蒸気状の生成物を液体の有機溶剤と直接接触させる(クエンチ)、
フタロニトリルよりも高い沸点を有する生成物(高沸点成分)を得られたクエンチ溶液又はクエンチ懸濁液から除去する工程、及び
フタロニトリルを水素化する工程
を含むキシリレンジアミンの製造法において、
クエンチのために使用する有機溶剤がN−メチル−2−ピロリドン(NMP)であり、高沸点成分の除去後でかつ水素化の前に、NMP及び/又はフタロニトリルよりも低い沸点を有する生成物(低沸点成分)の部分的又は完全な除去を行い、かつ
フタロニトリルを水素化工程のために有機溶剤中又は液体アンモニア中に溶解又は懸濁させることを特徴とするキシリレンジアミンの製造法によって前記課題が達成されることを見い出した。
アンモ酸化工程:
キシレン(o−キシレン、m−キシレン又はp−キシレン)から相応するフタロニトリル(オルト−キシレン→o−フタロニトリル;メタ−キシレン→イソフタロニトリル;パラ−キシレン→テレフタロニトリル)へのアンモ酸化を、一般に当業者に公知の方法により実施する。
アンモ酸化の際に生じた、有用な生成物であるフタロニトリルを含有する蒸気は、液体の有機溶剤であるN−メチル−2−ピロリドン(NMP)と直接接触される(クエンチ液体、クエンチ剤としてのNMPを用いたクエンチ)。
得られたクエンチ溶液又はクエンチ懸濁液からの高沸点成分の除去は有利に蒸留により行われる。
クエンチ工程における温度が低い程、液体のクエンチ排出物中での水及び(同一の圧力で)PNよりも低い沸点を有する副成分(例えばベンゾニトリル、トルニトリル)の割合は高くなる。
得られたクエンチ溶液又はクエンチ懸濁液からの、塔底を介した高沸点成分の除去、及びNMP及び/又は低沸点成分の塔頂を介した除去は、特に有利に、側留塔として構成された単一の塔内で行われる。
フタロニトリルから相応するキシリレンジアミン(o−キシリレンジアミン、m−キシリレンジアミン又はp−キシリレンジアミン)への水素化のために、上記の工程によって得られるPNを場合により有機溶剤中又は液体のアンモニア中に溶解又は懸濁させる。
水素化の後、使用した全ての溶剤及び使用した全てのアンモニアを留去する。
実施例1:
m−キシレンのアンモ酸化、引き続く溶剤としてのNMPを用いた反応ガスのクエンチ、及びアンモ酸化工程で生じるIPNの水素化(図1の処理スキームを参照のこと)。
純粋な成分から混合したIPN27質量%とNMP73質量%とから成る混合物を、連続運転式の70mlの撹拌型反応器中で非担持コバルト触媒上で80℃でかつ190バールで水素化した。触媒に、毎時、IPN溶液70g及びアンモニア90gを導通した。MXDAの収率は使用したIPNに対して96%であった。
純粋な成分から混合したIPN27質量%とNMP73質量%とから成る混合物を、連続運転式の70mlの撹拌型反応器中で非担持コバルト触媒上で80℃でかつ190バールで水素化した。触媒に、毎時、IPN溶液70g及びアンモニア54gを導通した。同一の体積流量を溶剤として再循環させる。MXDAの収率は使用したIPNに対して95.5%であった。
純粋な成分から混合したIPN15質量%とNMP85質量%とから成る混合物を、連続運転式の70mlの撹拌型反応器中で非担持コバルト触媒上で80℃でかつ190バールで水素化した。触媒に、毎時、IPN溶液140g及びアンモニア72gを導通した。MXDAの収率は使用したIPNに対して96%であった。
IPN30g並びにラネーニッケル5gを初めに撹拌型オートクレーブ中に装入した。アンモニア66gを添加した後、水素50バールを注入し、オートクレーブを100℃に加熱した。水素を更に注入することにより、全圧100バールを5時間保持した。IPNの変換は定量的であり、その際、使用したIPNに対して94%の収率が得られた。
アンモ酸化、クエンチ並びに高沸点成分の除去を実施例1の通りに実施した。但し、溶剤除去の方法は、塔底を介して126℃でNMP中のIPNを除去することである(IPN35質量%、NMP62質量%、トルニトリル約3%)。塔頂を介して、溶剤及び低沸点副成分の残分を除去する。
実施例7:
種々の溶剤中でのIPNの溶解度の試験
NMP中でのIPNの溶解度は60℃で約26質量%であり、かつ90℃で約41質量%である。
m−キシレンのアンモ酸化、引き続く、溶剤としてのNMPを用いた反応ガスのクエンチ
ステアタイト上の組成V4Sb3K0.4Ba0.2の触媒を固定床として管型反応器中に組み込んだ。装置を外部から415℃に加熱した。反応器に、蒸発されたm−キシレン、ガス状のアンモニア及び空気を供給した(NH3/m−キシレン=14モル/1モル;O2/m−キシレン=4モル/1モル)。反応器の半分の一方の触媒をステアタイト球70質量%で希釈し、反応器の半分の他方の触媒をステアタイト球40質量%で希釈した。反応器中では、0.02バールのわずかな過圧であった。ホットスポット温度は430℃に達した。88質量%のm−キシレンの変換率で、71%のIPNへの選択率が得られた。
実施例9:
m−キシレン0.44g、水1.7g、ベンゾニトリル0.88g、トルニトリル3.1g、IPN24g及びNMP58gから成るクエンチ出口で算出された組成に相応する溶液を、純粋な成分から混合し、水素化に供給した。水素化のために、混合物に液体のNH3を計量供給した(NH3/IPN=14モル/1モル)。水素化をH2及びラネーニッケル触媒5gの存在下に100℃で圧力100バールで撹拌型オートクレーブ中で行った。IPNの変換は定量的であり、使用したIPNに対して92%のMXDAの収率が得られた。
Claims (14)
- 以下の工程:
メタ−キシレンをイソフタロニトリルへとアンモ酸化する工程、その際、前記アンモ酸化工程の蒸気状の生成物を液体の有機溶剤と直接接触させる(クエンチ)、
イソフタロニトリルよりも高い沸点を有する生成物(高沸点成分)を得られたクエンチ溶液又はクエンチ懸濁液から除去する工程、及び
イソフタロニトリルを水素化する工程
を含むメタ−キシリレンジアミンの製造法において、
クエンチのために使用する有機溶剤がN−メチル−2−ピロリドン(NMP)であり、高沸点成分の除去後でかつ水素化の前に、NMP及び/又はイソフタロニトリルよりも低い沸点を有する生成物(低沸点成分)の部分的又は完全な除去を行い、かつ
イソフタロニトリルを水素化工程のために有機溶剤中又は液体アンモニア中に溶解又は懸濁させることを特徴とする、メタ−キシリレンジアミンの製造法。 - 得られたクエンチ溶液又はクエンチ懸濁液から高沸点成分を蒸留により塔底を介して除去し、一方でイソフタロニトリルをNMP溶剤及び低沸点成分と一緒に塔頂を介して除去する、請求項1記載の方法。
- 高沸点成分の除去後に、NMPを部分的又は完全に及び/又は低沸点成分を蒸留により塔頂を介して除去する、請求項1又は2記載の方法。
- 得られたクエンチ溶液又はクエンチ懸濁液から高沸点成分、低沸点成分及びNMP及びイソフタロニトリルへの側留塔中での分離を、高沸点成分を塔底を介して除去し、NMP及び/又は低沸点成分を塔頂を介して除去し、かつイソフタロニトリルを側留を介して除去するというように行う、請求項1記載の方法。
- 得られたクエンチ溶液又はクエンチ懸濁液から高沸点成分、低沸点成分及びNMP及びイソフタロニトリルへの隔壁塔中での分離を、高沸点成分を塔底を介して除去し、NMP及び/又は低沸点成分を塔頂を介して除去し、かつイソフタロニトリルを塔の隔壁領域内の側留を介して除去するというように行う、請求項1記載の方法。
- イソフタロニトリルを水素化工程のためにNMP、メタ−キシレン、ベンジルアミン、トリルアミン及び/又はメタ−キシリレンジアミン中に溶解又は懸濁させる、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- 水素化をアンモニアの存在下に実施する、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
- アンモ酸化を、300〜500℃の温度で、非担持触媒としてか又は不活性支持体上でV、Sb及び/又はCrを含む触媒上で実施する、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
- NMPを用いたクエンチの際のクエンチ排出物の温度が40〜180℃である、請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。
- 水素化を、40〜150℃の温度で、非担持触媒としてか又は不活性支持体上でコバルト及び/又はニッケル及び/又は鉄を含む触媒上で実施する、請求項1から9までのいずれか1項記載の方法。
- 水素化の後に、メタ−キシリレンジアミンの精製を、使用した全ての溶剤及びアンモニア並びに比較的低沸点である全ての副生成物の塔頂を介した留去、及び、比較的高沸点である不純物の塔底を介した蒸留による除去により行う、請求項1から10までのいずれか1項記載の方法。
- 水素化の後に、使用した全ての溶剤及びアンモニア並びに全ての低沸点副生成物を留去し、その後、メタ−キシリレンジアミンを蒸留により高沸点不純物から除去する、請求項1から11までのいずれか1項記載の方法。
- メタ−キシリレンジアミンを蒸留の後に後精製のために有機溶剤で抽出する、請求項11又は12記載の方法。
- 抽出のためにシクロヘキサン又はメチルシクロヘキサンを使用する、請求項13記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10341612.9 | 2003-09-10 | ||
DE10341612A DE10341612A1 (de) | 2003-09-10 | 2003-09-10 | Verfahren zur Herstellung von Xylylendiamin |
PCT/EP2004/009883 WO2005026102A1 (de) | 2003-09-10 | 2004-09-04 | Verfahren zur herstellung von xylylendiamin (xda) |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007505066A JP2007505066A (ja) | 2007-03-08 |
JP4488528B2 true JP4488528B2 (ja) | 2010-06-23 |
Family
ID=34305631
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006525727A Expired - Fee Related JP4488528B2 (ja) | 2003-09-10 | 2004-09-04 | キシリレンジアミン(xda)の製造法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7323598B2 (ja) |
EP (1) | EP1663943B1 (ja) |
JP (1) | JP4488528B2 (ja) |
CN (2) | CN100357253C (ja) |
AT (1) | ATE349415T1 (ja) |
DE (2) | DE10341612A1 (ja) |
WO (1) | WO2005026102A1 (ja) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10341614A1 (de) | 2003-09-10 | 2005-04-28 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Xylylendiamin (XDA) |
DE10341613A1 (de) * | 2003-09-10 | 2005-04-14 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Xylylendiamin |
JP4495730B2 (ja) | 2003-09-10 | 2010-07-07 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 液体フタロジニトリルの連続的水素化によるキシリレンジアミンの製造方法 |
DE10341633A1 (de) * | 2003-09-10 | 2005-04-28 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Xylylendiamin |
DE102005003315A1 (de) * | 2005-01-24 | 2006-08-03 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung eines Xylylendiamins |
KR100613404B1 (ko) * | 2005-03-24 | 2006-08-17 | 한국과학기술연구원 | 이미다졸류를 이용한 자일렌다이아민의 제조방법 |
JP2009503018A (ja) | 2005-08-02 | 2009-01-29 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | フタロジニトリルの連続的な水素化によってキシリレンジアミンを製造する方法 |
DE102005045806A1 (de) * | 2005-09-24 | 2007-03-29 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Xylylendiamin |
US20090038701A1 (en) * | 2006-01-17 | 2009-02-12 | Baxter International Inc. | Device, system and method for mixing |
EP1984320B1 (de) | 2006-02-01 | 2013-10-23 | Basf Se | Verfahren zur herstellung von reinem xylylendiamin (xda) |
JP2009544649A (ja) * | 2006-07-25 | 2009-12-17 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 溶剤を含有する水素化搬出物を後処理する方法 |
CN101337893B (zh) * | 2008-08-08 | 2011-07-20 | 德纳(南京)化工有限公司 | 一种连续氢化制备间苯二甲胺的方法 |
US8501997B2 (en) * | 2008-08-25 | 2013-08-06 | Air Products And Chemicals, Inc. | Curing agent for low temperature cure applications |
US8512594B2 (en) | 2008-08-25 | 2013-08-20 | Air Products And Chemicals, Inc. | Curing agent of N,N′-dimethyl-meta-xylylenediamine and multifunctional amin(s) |
US8212080B2 (en) * | 2008-12-26 | 2012-07-03 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Production method of xylylenediamine |
US8946467B2 (en) | 2010-09-20 | 2015-02-03 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Process for liquid phase hydrogenation of phthalates |
WO2012105498A1 (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンの製造方法 |
EP2757088B1 (de) * | 2013-01-22 | 2016-08-03 | Covestro Deutschland AG | Verfahren zur Herstellung von aromatischen Aminen |
CN109456200B (zh) * | 2018-11-23 | 2021-07-23 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种间苯二甲胺的制备方法 |
KR20210141451A (ko) * | 2019-03-20 | 2021-11-23 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | 자일릴렌디아민의 제조방법 |
CN110152642B (zh) * | 2019-05-24 | 2022-03-01 | 常州大学 | 一种用于制备间苯二甲胺的催化剂及应用 |
CN112538020B (zh) * | 2020-11-16 | 2023-07-14 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种节能型腈类化合物连续加氢制备胺类化合物的方法 |
CN113336190B (zh) * | 2021-07-16 | 2024-03-26 | 陕西氢易能源科技有限公司 | 基于液态储氢材料的双循环连续加氢系统及加氢生产方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB852972A (en) | 1958-04-02 | 1960-11-02 | Basf Ag | Production of xylylene diamines |
DE1119285B (de) | 1958-04-02 | 1961-12-14 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Xylylendiaminen |
US3069469A (en) | 1958-06-11 | 1962-12-18 | California Research Corp | Hydrogenation of aromatic nitriles |
CA941581A (en) | 1969-08-21 | 1974-02-12 | Chevron Research And Technology Company | Selective sulfide removal process |
JPS517659B1 (ja) | 1970-12-24 | 1976-03-10 | ||
DE2312591C3 (de) | 1973-03-14 | 1982-05-06 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Herstellung von Hexamethylendiamin |
US4482741A (en) * | 1984-01-09 | 1984-11-13 | Uop Inc. | Preparation of xylylenediamine |
DE60129907T2 (de) | 2000-09-21 | 2007-12-06 | Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc. | Verfahren zur Reinigung von Isophthalonitril |
JP4729779B2 (ja) | 2000-09-25 | 2011-07-20 | 三菱瓦斯化学株式会社 | キシリレンジアミンの製造方法 |
JP5017756B2 (ja) * | 2001-07-16 | 2012-09-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 高純度メタキシリレンジアミンの製造方法 |
JP4273704B2 (ja) | 2002-05-10 | 2009-06-03 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 芳香族ジメチルアミンの製造法 |
DE10341613A1 (de) | 2003-09-10 | 2005-04-14 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Xylylendiamin |
DE102004042947A1 (de) | 2004-09-02 | 2006-03-09 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Xylylendiamin durch kontinuierliche Hydrierung von flüssigem Phthalodinitril |
-
2003
- 2003-09-10 DE DE10341612A patent/DE10341612A1/de not_active Withdrawn
-
2004
- 2004-09-04 US US10/571,615 patent/US7323598B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-04 WO PCT/EP2004/009883 patent/WO2005026102A1/de active IP Right Grant
- 2004-09-04 JP JP2006525727A patent/JP4488528B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-04 CN CNB2004800261129A patent/CN100357253C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-04 EP EP04764834A patent/EP1663943B1/de not_active Not-in-force
- 2004-09-04 AT AT04764834T patent/ATE349415T1/de not_active IP Right Cessation
- 2004-09-04 DE DE502004002487T patent/DE502004002487D1/de active Active
- 2004-09-09 US US10/571,260 patent/US7323597B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-09 CN CNB2004800261307A patent/CN100361959C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE502004002487D1 (de) | 2007-02-08 |
EP1663943B1 (de) | 2006-12-27 |
US7323598B2 (en) | 2008-01-29 |
EP1663943A1 (de) | 2006-06-07 |
ATE349415T1 (de) | 2007-01-15 |
DE10341612A1 (de) | 2005-04-28 |
CN1849292A (zh) | 2006-10-18 |
JP2007505066A (ja) | 2007-03-08 |
US7323597B2 (en) | 2008-01-29 |
CN100361959C (zh) | 2008-01-16 |
CN100357253C (zh) | 2007-12-26 |
US20070088178A1 (en) | 2007-04-19 |
US20070027345A1 (en) | 2007-02-01 |
WO2005026102A1 (de) | 2005-03-24 |
CN1849293A (zh) | 2006-10-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4488528B2 (ja) | キシリレンジアミン(xda)の製造法 | |
JP4488527B2 (ja) | キシリレンジアミン(xda)の製造法 | |
JP4532491B2 (ja) | キシリレンジアミン(xda)の製造法 | |
US7626057B2 (en) | Production of xylylenediamines | |
JP4499723B2 (ja) | キシリレンジアミン(xda)の製造法 | |
JP4406645B2 (ja) | 液体フタロニトリルの連続的水素化による、キシリレンジアミンの製造方法 | |
JP4495730B2 (ja) | 液体フタロジニトリルの連続的水素化によるキシリレンジアミンの製造方法 | |
US7728174B2 (en) | Continuous hydrogenation processes for the preparation of xylylenediamines | |
JP2008031155A (ja) | キシリレンジアミンの製造方法 | |
WO2005026100A1 (de) | Verfahren zur herstellung von xylylendiamin (xda) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091013 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091023 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100115 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100226 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100329 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130409 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |