JP4478431B2 - 流体システム内の圧力脈動を減衰するための装置 - Google Patents
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Description
作業室66の、図2および図3で見て下側の流体範囲64(用語「下側」および「上側」は以降、常に図面で見た場合の表現であり、圧力減衰器自体は原則的に空間中に任意の向きで配置されていてよい)は、据付け区分42に設けられた流入通路43を介して低圧燃料管路16と連通している。作業室66の上側の流体範囲68は通路70を介して、下側の流体範囲64と連通している。作業室66の内部には、両ダイヤフラム54a,54bと環状のスペーサ46とにより仕切られたガス容積58が存在している。このガス容積58は燃料システム10の休止状態では、外部雰囲気に対して軽度の過圧下にある。この過圧により、両ダイヤフラム54a,54bのエンボス区分76とストッパ区分80aもしくは対応面80bとは、少しだけ外側へ向かって前湾曲させられる。
12 燃料タンク
14 燃料ポンプ
16 低圧燃料管路
18 高圧燃料ポンプ
20 圧送室
22 流入弁
24 流出弁
26 燃料集合管路
28 燃料噴射装置
30 燃焼室
32 量制御弁
33 ソレノイドアクチュエータ
34 切換位置
36 圧力減衰器
38 下側部分
40 上側部分
41 中心軸線
42 据付け区分
43 流入通路
44 底区分
46 スペーサ
48,48a,48b 溶接シーム
52 保持区分
54,54a,54b ダイヤフラム
57,57a,57b,57c,57d 溶接シーム
58,58a,58b ガス容積
60 通路
62 ボール
64 流体範囲
66 作業室
68 流体範囲
70 通路
72,72a,72b 保持区分
74 ばね区分
76 エンボス区分
78 エンボス加工部
80a ストッパ区分
80b 対応面
82,84 クランプリング
88 ピストン
90 シリンダ中心軸線
92 シリンダハウジング
94 段部
96 ハウジングスリーブ
100 通路
102 低圧流入部
104 通路
106 放圧溝
108 シリンダ孔
110 ベローズ区分
110a,110b,110c,110d セグメント
112 充填体
118,120,118a,118b,120a,120b ばね区分
122 保持リング
124 開口
Claims (28)
- 流体システム(16)内の圧力脈動を減衰するための装置(36)であって、ハウジング(38,40)と、少なくとも1つの作業室(66)とが設けられていて、該作業室(66)が、少なくとも所定の範囲で流体システム(16)に連通している形式のものにおいて、作業室(66)内に、ダイヤフラム(54)によって密に閉鎖された少なくとも1つのガス容積(58)が設けられており、ガス容積(58)が、少なくとも2つのダイヤフラム(54a,54b)によって仕切られており、該ダイヤフラム(54a,54b)の縁部の範囲が緊締されており、該ダイヤフラム(54a,54b)が全体的にほぼ互いに平行に形成されており、ガス容積(58)が両ダイヤフラム(54a,54b)の間に形成されており、両ダイヤフラム(54a,54b)が、それぞれ少なくとも1つのストッパ面(80a)もしくは対応面(80b)を有しており、該ストッパ面(80a)と該対応面(80b)とが、両ダイヤフラム(54a,54b)の最大変位時に互いに接触するようになっていることを特徴とする、流体システム内の圧力脈動を減衰するための装置。
- ダイヤフラム(54)が金属から成っている、請求項1記載の装置。
- ダイヤフラムが、両端部をガス密に閉鎖された肉薄の金属管(54)によって仕切られている、請求項2記載の装置。
- 作業室の少なくとも1つの外壁が、同じくダイヤフラムとして形成されている、請求項1から3までのいずれか1項記載の装置。
- 封入されたガス容積(58)が、標準の外圧において規定の圧力、有利には過圧を有している、請求項1から4までのいずれか1項記載の装置。
- ガス容積(58)が、閉鎖可能な開口(60)を有しており、該開口(60)を介して圧力が調節され得るようになっている、請求項5記載の装置。
- ダイヤフラム(54)が少なくとも1つのエンボス加工部(78)を有している、請求項1から6までのいずれか1項記載の装置。
- ダイヤフラム(54)が複数のエンボス加工部(78)を有しており、該エンボス加工部(78)が、種々異なる高さおよび/または種々異なる延在長さおよび/または種々異なる横断面を有している、請求項7記載の装置。
- 封入されたガス容積(58)が、充填体または別個のストッパ部分またはハウジング区分により形成される充填範囲(112)により減じられている、請求項1から8までのいずれか1項記載の装置。
- 両ダイヤフラム(54a,54b)の縁部が互いに密に結合されていて、半径方向内側でシールライン(57)によって緊締されている、請求項1から9までのいずれか1項記載の装置。
- 両ダイヤフラム(54a,54b)の縁部を緊締する緊締部(82,84)が、構造弾性(118,120)を備えている、請求項10記載の装置。
- 両ダイヤフラム(54a,54b)が同一に形成されている、請求項1から11までのいずれか1項記載の装置。
- 作業室(66)が両ダイヤフラム(54a,54b)によって2つの範囲(64,68)に分割されており、両範囲(64,68)が流体接続部(70)によって互いに連通している、請求項1から12までのいずれか1項記載の装置。
- 両ダイヤフラム(54a,54b)の間に環状のスペーサ(46)が設けられている、請求項1から13までのいずれか1項記載の装置。
- 前記流体接続部(70)が前記スペーサに形成されている、請求項12から14までのいずれか1項記載の装置。
- 当該装置が、燃料ポンプ(18)のハウジング(92)内に組み込まれている、請求項1から15までのいずれか1項記載の装置。
- 作業室が環状室(66)を有しており、ガス容積(58)が環状に形成されている、請求項1から16までのいずれか1項記載の装置。
- 作業室(66)とガス容積(58)とが、燃料ポンプ(18)に設けられたシリンダ(92)に、シリンダ軸線(90)に対して少なくともほぼ同軸的に配置されている、請求項15または16記載の装置。
- ガス容積(58)が前記環状室(66)内に螺旋体の形で配置されており、該螺旋体と前記環状室(66)とが少なくともほぼ同軸的に形成されている、請求項16または17記載の装置。
- 螺旋状のガス容積(58)が、作業室(66)の外壁に対してプレロードをかけられている、請求項18記載の装置。
- 螺旋状のガス容積(58)が、作業室(66)の軸方向にねじ状に延びている、請求項18または19記載の装置。
- 螺旋状およびねじ状のガス容積(58)が、軸方向で作業室(66)の端部に対してプレロードをかけられている、請求項20記載の装置。
- ガス容積(58)がヘリウムで充填されている、請求項1から22までのいずれか1項記載の装置。
- ダイヤフラム(54)および/またはハウジングの少なくとも所定の範囲が、磁気を有している、請求項1から23までのいずれか1項記載の装置。
- ダイヤフラム(54)が少なくとも部分的に、固有応力を有する帯状材料から製造されている、請求項1から24までのいずれか1項記載の装置。
- ダイヤフラム(54)が少なくとも1つのエンボス区分(76)と、少なくとも1つのベローズ区分(110)とを有している、請求項1から25までのいずれか1項記載の装置。
- ダイヤフラム(54)の半径方向外側の縁部が固定用区分(122)を有しており、該固定用区分(122)が、当該装置(36)の中心軸線(41)に対してほぼ平行に延びていて、ハウジング(40)に固定されている、請求項1から26までのいずれか1項記載の装置。
- 当該装置(36)が、緊締装置(124)を有しており、該緊締装置(124)が前記固定用区分(122)を半径方向でハウジング(40)に対して負荷している、請求項27記載の装置。
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