JP4466195B2 - 描画システム - Google Patents
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- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 123
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 7
- 239000013598 vector Substances 0.000 claims description 6
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims description 2
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 42
- 230000008569 process Effects 0.000 description 13
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000003936 working memory Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
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Description
一連の分割パターンデータを生成するデータ生成手段と、基板の所定方向に関してパターンをスケール変換するため、一連の分割パターンデータをスケール変換可能なスケール変換手段と、スケール変換された一連の分割パターンデータに基づき、複数の光変調素子を有する光変調ユニットを制御する描画手段とを機能させ、一部データが互いに重複するように、それぞれ走査バンド幅を超えるデータバンド幅を有する一連の分割パターンデータを生成するように、データ生成手段を機能させ、スケール変換倍率に従い、一連の分割パターンデータをそれぞれ独立してスケール変換し、スケール変換された一連の分割パターンデータの中で複数の走査バンドの位置に対応するパターンデータを一連の分割パターンデータとして新たに定めるように、スケール変換手段を機能させることを特徴とする。
BW=HP+2×SD ・・・(1)
BWS=BP’×(N−1)+BW’−BP”×(N−1) ・・・・(2)
ただし、
BP’=BP/Smin
BP”=BP/Smax
BW’=BW×Smin=(HP+2×SD)×Smin
14 パターンデータ処理部(データ生成手段)
CR1〜CR3 搬送ローラ(走査手段)
13A〜13H DMD(光変調ユニット)
16A〜16H イメージ生成処理部(スケール変換手段)
Claims (7)
- パターン形成のため光を放射する光源と、
それぞれ複数の光変調素子が規則的に配列され、基板の長手方向に沿って規定される複数の走査バンドに対し、前記複数の光変調素子を制御してパターンに応じた光を前記基板へ投影する複数の光変調ユニットと、
前記複数の光変調ユニットの照射領域である複数の露光エリアを前記基板に対して相対移動させる走査手段と、
前記複数の走査バンドに従い、パターンデータを分割した一連の分割パターンデータを生成するデータ生成手段と、
前記一連の分割パターンデータに基づき、前記複数の光変調ユニットをそれぞれ制御する描画手段と、
前記基板の長手方向に垂直な方向に関してパターンをスケール変換するため、前記一連の分割パターンデータをスケール変換するスケール変換手段とを備え、
前記データ生成手段が、一部データが互いに重複するように、それぞれ走査バンド幅を超えるデータバンド幅を有する前記一連の分割パターンデータを生成し、
前記スケール変換手段が、スケール変換倍率に従い、前記一連の分割パターンデータをそれぞれ独立してスケール変換し、スケール変換された一連の分割パターンデータの中で前記複数の走査バンドの位置に対応するパターンデータを一連の分割パターンデータとして新たに定めることを特徴とする描画システム。 - 前記スケール変換手段が、各分割パターンデータのうち、スケール変換倍率に応じて定められるスケール変換対象エリアのみ抽出し、スケール変換することを特徴とする請求項1に記載の描画システム。
- 前記データ生成手段が、定められた最大スケール変換倍率と最小スケール変換倍率の範囲でスケール変換を可能にするため、以下の式で定められるデータバンド幅に基づいて前記一連の分割パターンデータを生成することを特徴とする請求項1に記載の描画システム。
BWS=BP’×(N−1)+BW’−BP”×(N−1)
ただし、
BP’=BP/Smin
BP”=BP/Smax
BW’=BW×Smin=(HP+2×SD)×Smin
ここで、最小変換倍率(最大縮小率)Sminにおけるデータバンド幅をBW’、スケール変換対象となるバンドピッチをBP’、最大変換倍率(最大拡大率)Smaxにおけるデータバンド幅をBW”、スケール変換対象となるバンドピッチをBP”,データバンド幅をBWS、走査バンド(分割パターンデータ)の数をN、光変調ユニットの配置誤差に基づいて定められる各分割パターンデータの調整幅をSD、露光エリアのバンド幅に応じたデータ幅で表す。 - 前記一連の分割パターンデータがベクタデータであって、
前記描画手段が、
前記一連の分割パターンデータをラスタデータに変換し、
前記ラスタデータに基づいて前記複数の光変調ユニットを制御することを特徴とする請求項1に記載の描画システム。 - 基板の走査方向に沿って規定される複数の走査バンドに従い、パターンデータを分割した一連の分割パターンデータを生成するデータ生成手段と、
前記基板の所定方向に関してパターンをスケール変換するため、前記一連の分割パターンデータをスケール変換可能なスケール変換手段と、
スケール変換された一連の分割パターンデータに基づき、複数の光変調素子を有する光変調ユニットを制御する描画手段とを備え、
前記データ生成手段が、一部データが互いに重複するように、それぞれ走査バンド幅を超えるデータバンド幅を有する前記一連の分割パターンデータを生成し、
前記スケール変換手段が、スケール変換倍率に従い、前記一連の分割パターンデータをそれぞれ独立してスケール変換し、スケール変換された一連の分割パターンデータの中で前記複数の走査バンドの位置に対応するパターンデータを一連の分割パターンデータとして新たに定めることを特徴とするスケール変換描画処理装置。 - 基板の走査方向に沿って規定される複数の走査バンドに従い、パターンデータを分割した一連の分割パターンデータを生成し、
前記基板の所定方向に関してパターンをスケール変換するため、前記一連の分割パターンデータをスケール変換し、
スケール変換された一連の分割パターンデータに基づき、複数の光変調素子を有する光変調ユニットを制御する方法であって、
一部データが互いに重複するように、それぞれ走査バンド幅を超えるデータバンド幅を有する前記一連の分割パターンデータを生成し、
スケール変換倍率に従い、前記一連の分割パターンデータをそれぞれ独立してスケール変換し、スケール変換された一連の分割パターンデータの中で前記複数の走査バンドの位置に対応するパターンデータを一連の分割パターンデータとして新たに定めることを特徴とするスケール変換描画処理方法。 - スケール変換可能な描画装置におけるプログラムであって、
一連の分割パターンデータを生成するデータ生成手段と、
前記基板の所定方向に関してパターンをスケール変換するため、前記一連の分割パターンデータをスケール変換可能なスケール変換手段と、
スケール変換された一連の分割パターンデータに基づき、複数の光変調素子を有する光変調ユニットを制御する描画手段とを機能させ、
一部データが互いに重複するように、それぞれ走査バンド幅を超えるデータバンド幅を有する前記一連の分割パターンデータを生成するように、前記データ生成手段を機能させ、
スケール変換倍率に従い、前記一連の分割パターンデータをそれぞれ独立してスケール変換し、スケール変換された一連の分割パターンデータの中で前記複数の走査バンドの位置に対応するパターンデータを一連の分割パターンデータとして新たに定めるように、前記スケール変換手段を機能させることを特徴とするプログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004150135A JP4466195B2 (ja) | 2004-05-20 | 2004-05-20 | 描画システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004150135A JP4466195B2 (ja) | 2004-05-20 | 2004-05-20 | 描画システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005332987A JP2005332987A (ja) | 2005-12-02 |
JP4466195B2 true JP4466195B2 (ja) | 2010-05-26 |
Family
ID=35487425
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004150135A Active JP4466195B2 (ja) | 2004-05-20 | 2004-05-20 | 描画システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4466195B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006019478A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Pentax Corp | 描画システム |
US8654307B2 (en) | 2006-03-20 | 2014-02-18 | Nikon Corporation | Scanning type exposure apparatus, method of manufacturing micro-apparatus, mask, projection optical apparatus, and method of manufacturing mask |
JP4952182B2 (ja) * | 2006-03-20 | 2012-06-13 | 株式会社ニコン | 走査型露光装置、マイクロデバイスの製造方法、走査露光方法、及びマスク |
JP7455265B1 (ja) | 2023-08-24 | 2024-03-25 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置および露光方法 |
JP7422263B1 (ja) | 2023-08-24 | 2024-01-25 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置および露光方法 |
-
2004
- 2004-05-20 JP JP2004150135A patent/JP4466195B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005332987A (ja) | 2005-12-02 |
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Date | Code | Title | Description |
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