JP4453515B2 - 半導体発光素子 - Google Patents
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Description
請求項1の発明は、透光性基板と、この透光性基板の上に積層された半導体層とを有し、n電極とp電極とが前記透光性基板に対して前記半導体層側に形成され、発光した光を前記透光性基板側から放射するフリップチップ型の半導体発光素子において、半導体層の最上層であるコンタクト層と、該コンタクト層上に形成された光に対して透明なインジウム錫酸化物(ITO)から成る透明導電膜と、透明導電膜上に形成された、屈折率の異なる誘電体から成る層が周期的に積層された多重反射膜と、多重反射膜上に形成された、光に対して高反射率を有するアルミニウム、銀、アルミニウム合金、又は銀合金のうち少なくとも1つの金属から成る反射膜と、透明導電膜の一部と接合するように形成されたn電極とp電極のうちの一方の第1電極となる電極層とを有し、透明導電膜は一部に多重反射膜が形成されていない第2露出部を有し、その第2露出部に電極層が接合していることを特徴とする半導体発光素子である。
誘電体から成る多重反射膜は、金属酸化物や金属窒化物やガラスが挙げられるが、代表的には、酸化硅素(SiO、SiO2 、Six Oy など)、窒化硅素(SiN、Si2 N3 、Six Ny など)、酸化チタン(TiO、TiO2 、Tix Oy など)、窒化チタン(TiN、TiN2 、Tix Ny など)、酸化タンタル(TaO、TaO2 、Tax Oy )、窒化タンタル(TaN、TaN2 、Tax Ny )、酸化アルミニウ(Al2 O3 、Alx Oy )(以上、x、yは任意整数)または、これらを複合させた組成物から選択された複数種類の物質を周期的に積層した膜である。望ましくは、屈折率差が大きい2種類の物質を交互に積層した膜である。各膜の厚さは、反射させるべき光の誘電体内波長の1/4の整数倍に設定される。この多重反射膜はDBR(distributed bragg reflector) でもある。
反射膜は、発光した光に対する反射率が高い金属であれば任意である。望ましくは、銀(Ag)、アルミニウム(Al)、銀合金、アルミニウム合金、銀とアルミニウムを主成分に含む合金などである。
電極層の材料は任意ではあるが、金、金とチタンの多層膜、又は、金とチタンの合金も用いることができる。
また、反射膜は、側面と上面とを絶縁性保護膜で覆っても良い。この絶縁性保護膜は、任意の絶縁性誘電体を用いることができる。上記した多重反射膜を構成する物質の単層膜を用いることも可能である。この構成を採用すると、反射膜は多重反射膜と絶縁性保護膜とで、完全に覆われることになる。したがって、反射膜と透明導電膜との界面、反射膜と電極層との界面での反応を完全に抑制することができる。また、反射膜を銀で構成した場合のように、エレクトロマイグレーションが顕著な場合に、これを完全に抑制し、反射率の低下を防止することができる。なお、反射膜の側面には形成せずに、その上面にのみ絶縁性保護膜を形成するものであっても良い。
また、請求項7の発明は、多重反射膜は、アルミナ(Al2O3 )から成る膜と、酸化チタン(TiOx )から成る膜とが、交互に繰り返して積層された膜であることを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか1項に記載の半導体発光素子である。
多重反射膜をこれらの構成とする時、発光した光に対する多重反射膜での反射率を大きくすることができる。
また、多重反射膜により、反射膜と透明導電膜との界面反応が抑制される。このため、透明導電膜の透過率および反射膜の反射率の低下を防止することができる。したがって、透光性基板を通して外部に出力される光の取出し効率が向上する。
半導体発光素子の具体的な層構成については後の実施例で詳しく説明するが、本発明は図1に示すような、フリップチップ型の半導体発光素子1である。透光性基板101の側から光が外部に出力される。透光性基板101の上には、III 族窒化物半導体から成る半導体層が積層されており、最上層がコンタクト層108である。このコンタクト層108の上に、順次、透明導電膜10、誘電体から成る多重反射膜20、金属から成る反射膜30が形成されている。そして、n電極140と対角の位置にある透明導電膜10上の位置には、多重反射膜20と反射膜30とが形成されていない露出部11が設けられており、この露出部11上にp電極である電極層41が形成されている。
また、反射膜30と透明導電膜10との間には、誘電体から成る多重反射膜20が介在しているので、反射膜30と透明導電膜10の界面反応が防止される。したがって、透明導電膜10は透明度が低下することがなく、反射膜30の反射率が低下することがない。よって、透光性基板101側に反射される光を増大させることができる。
なお、電極層41は、厚さ0.01μmのチタン(Ti)と、厚さ0.5μmの金(Au)との2重構造か、それらの合金であっても良い。または、チタン、金の順に形成して、その上を、パンプの形成部を除いて酸化珪素などの保護膜で覆っても良い。
(実験例)
5…第1露出部
10…透明導電膜
11…第2露出部
20…多重反射膜
21…第3露出部
30…反射膜
40…電極層
41…電極層
50…絶縁膜
101…サファイア基板
102…バッファ層
104…n型コンタクト層
105…歪み緩和層
106…発光層
107…p型クラッド層
108…p型コンタクト層
140…n電極
150…p電極
Claims (8)
- 透光性基板と、この透光性基板の上に積層された半導体層とを有し、n電極とp電極とが前記透光性基板に対して前記半導体層側に形成され、発光した光を前記透光性基板側から放射するフリップチップ型の半導体発光素子において、
前記半導体層の最上層であるコンタクト層と、
該コンタクト層上に形成された前記光に対して透明なインジウム錫酸化物(ITO)から成る透明導電膜と、
該透明導電膜上に形成された、屈折率の異なる誘電体から成る層が周期的に積層された多重反射膜と、
前記多重反射膜上に形成された、前記光に対して高反射率を有するアルミニウム、銀、アルミニウム合金、又は銀合金のうち少なくとも1つの金属から成る反射膜と、
前記透明導電膜の一部と接合するように形成された前記n電極と前記p電極のうちの一方の第1電極となる電極層とを有し、
前記透明導電膜は一部に前記多重反射膜が形成されていない第2露出部を有し、その第2露出部に前記電極層が接合している
ことを特徴とする半導体発光素子。 - 前記反射膜の側面と上面を覆う絶縁膜を有し、前記反射膜は前記多重反射膜と前記絶縁膜とにより、その周囲が完全に覆われていることを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記第2露出部は、前記透明電極の周辺部において環状に形成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体発光素子。
- 前記コンタクト層は、その周辺部において、前記透明導電膜が形成されていない環状の第1露出部を有し、その第1露出部に、前記電極層が接続されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか1項に記載の半導体発光素子。
- 前記第2露出部は、前記透明電極の周辺部であって、前記第1電極とは異なる他方の第2電極に対して、対角位置にL字形状に形成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体発光素子。
- 前記多重反射膜は、二酸化硅素(SiO2 )から成る膜と、窒化硅素(SiN)又は酸化チタン(TiO x )から成る膜とが、交互に繰り返して積層された膜であることを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか1項に記載の半導体発光素子。
- 前記多重反射膜は、アルミナ(Al2O3 )から成る膜と、酸化チタン(TiOx )から成る膜とが、交互に繰り返して積層された膜であることを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか1項に記載の半導体発光素子。
- 前記電極層は、金、金とチタンの多層膜、又は、金とチタンの合金から成ることを特徴とする請求項1乃至請求項7の何れか1項に記載の半導体発光素子。
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