JP4442054B2

JP4442054B2 - 転写媒体とその製造方法、並びに、磁気記録媒体とその製造方法

Info

Publication number: JP4442054B2
Application number: JP2001157458A
Authority: JP
Inventors: 潔堀江; 厚木島
Original assignee: Toppan Inc
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2001-05-25
Filing date: 2001-05-25
Publication date: 2010-03-31
Anticipated expiration: 2021-05-25
Also published as: JP2002347187A

Description

【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、磁気情報を有する磁気記録カードを構成するための転写媒体（転写箔）に関し、更に詳しくはカード基材上に磁気テープを配し、更にこれを隠蔽し、印刷層、保護層を有するオーバープリントカード、特に顔写真等の個別画像情報を加工することが可能なオーバープリントカードを構成するための転写箔に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、磁気記録媒体であるクレジットカードやキャッシュカードが広く利用されている。これらは、一般的に白色の塩化ビニル樹脂をコア材として用い、この両面もしくは片面に、所定の磁気テープをを所定位置に貼付した透明な塩化ビニル樹脂シートを重ねて加熱加圧プレスしたものを基材として用いたものである。欧州や米国では白色のコア材に印刷を施し、後に透明シートをプレスする構成をとっている。しかし日本国内では、これら諸外国と同様の構成のカードの他に、透明シートをプレス接着した後に、表面にデザイン等の絵柄印刷を施す構成のカードも使用されている。
【０００３】
これは、日本国内のみで通用するＪＩＳ規格の磁気テープがカード表面に付与されているためである。すなわち、諸外国ではカード表面に磁気テープがないため、印刷はシートの内側でかまわないが、日本ではカード表面にＪＩＳ規格磁気テープを使用し、磁気情報の記録消去を行う必要があるため、この磁気テープが基材の最表層付近になければならず、結果として透明シートの外側に磁気テープを設けることになる。したがって、デザイン上でこの磁気テープを隠蔽するための印刷を透明シートの外側に施すことになるのである。
この透明シートの外側に印刷を施すカードをオーバープリントカード（以下、ＯＰカード）と呼ぶことにする。
【０００４】
ＯＰカードの作成手順は次の通りである。白色塩化ビニルコアの両面に、あらかじめ所定位置に磁気テープを貼付した透明塩化ビニルシートを重ね、加熱加圧プレスしてカード基材を得る。その後、磁気テープを隠すための隠蔽層、デザインのための印刷層、印刷面を保護するための保護層が設けられ、表面を平らにするためのプレスを再度行ってカード形状に打ち抜き、必要に応じて設けられるホログラムの箔転写、サインパネル転写及びエンボス工程を経て、ＯＰカードとなる。
また、近年のクレジットカードの偽造・不正使用防止策の一つとして、カードに所有者の顔写真を入れる方法が取られている。これは、一般的に塩ビに染着しやすい昇華（熱移行）性の染料を用い、ＹＭＣの各色に塗り分けた昇華転写リボンをサーマルヘッド等で熱エネルギーを与え、個々の画像情報を記録していくものである。
この様な使用をするＯＰカードにおいては、保護層上に別途受像層を設け、プレス加工を行い表面を平らにして製造されている。
【０００５】
以上のことからわかるとおり、印刷層が透明シートの内側にあって十分に保護されている諸外国のカードとは異なり、日本のＯＰカードの耐性は非常に薄い保護層のみによって保たれているので、保護層の役割は非常に重要である。また、要求される磁気特性を得るため、隠蔽層、印刷層、保護層、場合により設けられる受像層の厚みは必要以上に厚くすることができず、さらに耐久性を増すことは困難になっている。
この保護層を設ける方法としてはいくつか考えられ、グラビア塗工系の方式とスクリーン印刷系の方式、さらにオフセット印刷系の方式がある。しかし、このうちスクリーン印刷系は膜厚制御が困難であるので、磁気出力変動率が大きくなるおそれがある。また、オフセット印刷系の方式では、主に紫外線硬化型のオフセットインキを使用するが、これは様々なものとの密着性が悪い。さらに、耐擦過性を向上させるために滑材成分を添加すると、ほとんどのものが密着不可能である。したがって、後工程となるホログラム箔の転写や受像層の塗工が非常に困難となってしまう。以上のことから、保護層を設ける方法としてグラビア塗工系の方式が用いられてきている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述のグラビア塗工系の方式によって保護層を設ける方法には様々な問題がある。
まず、強い溶媒を多量に含む保護層の塗液を直接的に上から塗工するため、溶剤の浸透によって基材や印刷の歪みが生じやすい状況となる。また、溶剤が多量に含まれる塗液を塗工するので、塗工後には十分な乾燥が必要であるが、基材の塩化ビニルは熱変形を起こしやすいため、高温かつ長時間の乾燥は無理であり、結果として溶剤が残留し、密着性低下や樹脂の可塑化等の悪影響を及ぼす。
さらには、磁気出力の変動率を安定させるためには塗膜の膜厚を安定させる必要があるが、枚葉のシートへの塗工では膜厚安定性にも限界があり、安定した塗膜は得られにくい上、膜厚の管理も容易でないという問題がある。
【０００７】
また、上述したグラビア塗工系の問題点に加え、以下の問題を有している。
顔写真付きＯＰカードを製造する場合、顔写真等の画像データを入れる場所は顧客の仕様により、まちまちである。よって、受像層を形成する方式としては、印刷エリアの指定が容易であるスクリーン印刷法が採用されている。このスクリーン印刷法の欠点は、上述した膜厚の制御が困難であること以外にも、印刷版上に乗せたインキを印圧により印刷版を通過させ押し出す方式であるため、版乾きの問題を回避する方法として乾きにくい高沸点溶剤が使用される。すなわち、十分な乾燥を行うことが不可能であるカードにおいて、生乾きの印刷を行うことは、後々カード同士のブロッキング等様々な問題を引き起こす。
【０００８】
上記の問題を解決するために、保護層の材料を塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂に変更し、保護層兼受像層とする構成も考えられている。しかしながら、十分な耐摩擦性・印字適性のバランスが取れないだけでなく、カード裏面のサインパネル材とのブロッキングが生じるため、十分に満足のいく構成は得られていない。また、カード表面の耐久性においては、滑剤を多量に添加すれば強い強度を得ることができるのであるが、外観上の曇りと、表面へ滑剤成分が析出し、粉ふきといった現象を起こす。この滑剤成分の析出は、ＡＴＭ等カードリーダー内に蓄積され、内部を汚染し磁気の読みとりエラーや搬送不良を引き起こす。
【０００９】
以上の問題点に鑑みて、本発明が解決しようと課題は、溶剤を用いることに起因するカード基材の変形、歪みを防止し、また膜厚を高いレベルでコントロールすることで磁気記録媒体（磁気カード）の読取／書込の際のエラーを低減ことが可能であり、且つ、外観の優れた磁気記録媒体及びこの作製に使用する転写媒体（転写箔）を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
以上の課題を解決するために、本発明は保護層を直接グラビア法によって塗工するのではなく、別の支持体上に塗工した保護層を基材上に転写する方法により、磁気記録媒体を作製することである。
【００１１】
すなわち、請求項１に記載の発明は、支持体上に、該支持体に対して剥離性を有する第一の保護層兼受像層、第二の保護層兼受像層、および接着層が、少なくともこの順に設けてある転写媒体において、該第一の保護層兼受像層が、少なくとも、融点が９０℃以上の滑剤を、重合度６００〜２０００の範囲にある塩化ビニル樹脂に対して１〜１５重量％含有する組成で形成され、該第二の保護層兼受像層は、樹脂に対する滑剤成分の割合が２０重量％以下であって、且つ、該第一の保護層兼受像層の場合よりも樹脂に対する滑剤成分の割合が多く含有する組成であること、を特徴とする転写媒体である。
【００１２】
また、請求項２に記載の発明は、前記接着層の厚みが乾燥厚みで０．１μｍ以上であり、前記第一の保護層兼受像層と第二の保護層兼受像層との合計厚みが乾燥厚みで０．４μｍ以上あって、しかも、該接着層、第一の保護層兼受像層、および第二の保護層兼受像層の合計厚みが乾燥厚みで０．８〜９μｍであること、を特徴とする請求項１記載の転写媒体である。
【００１３】
また、請求項３に記載の発明は、支持体に対して剥離性を有する第一の保護層兼受像層、第二の保護層兼受像層、および接着層の、少なくとも３層をこの順に該支持体上に設ける転写媒体の製造方法において、該第一の保護層兼受像層は、少なくとも、融点が９０℃以上の滑剤を、重合度６００〜２０００の範囲にある塩化ビニル樹脂に対して１〜１５重量％含有する組成で、塗工により形成し、しかる後に、該第二の保護層兼受像層は、樹脂に対する滑剤成分の割合が２０重量％以下であって、且つ、該第一の保護層兼受像層の場合よりも樹脂に対する滑剤成分の割合が多く含有する組成で、塗工により形成すること、を特徴とする転写媒体の製造方法である。
【００１４】
また、請求項４に記載の発明は、磁気記録層を備えている基材上に、請求項１又は２のいずれかに記載の接着層、第一の保護層兼受像層、および第二の保護層兼受像層の転写媒体の少なくとも３層が、設けてあることを特徴とする磁気記録媒体である。
【００１５】
また、請求項５に記載の発明は、前記磁気記録層上にある非磁性層の厚みが０．８〜９μｍであることを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体である。
【００１６】
また、請求項６に記載の発明は、前記磁気記録層は、目視では視認が不可能か又は困難なように、隠蔽されてあることを特徴とする請求項４又は５のいずれかに記載の磁気記録媒体である。
【００１７】
また、請求項７に記載の発明は、磁気記録層を備えている基材上に、保護層兼受像層を転写により形成する磁気記録媒体の製造方法であって、保護層兼受像層の転写に用いる転写媒体として、支持体上に、該支持体に対して剥離性を有する第一の保護層兼受像層、第二の保護層兼受像層、および接着層が、少なくともこの順に設けてあり、該第一の保護層兼受像層が、少なくとも、融点が９０℃以上の滑剤を、重合度６００〜２０００の範囲にある塩化ビニル樹脂に対して１〜１５重量％含有する組成で形成され、且つ、該第二の保護層兼受像層は、樹脂に対する滑剤成分の割合が２０重量％以下であって、且つ、該第一の保護層兼受像層の場合よりも樹脂に対する滑剤成分の割合が多く含有する組成である転写媒体を使用すること、を特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
【００１８】
また、請求項８に記載の発明は、前記磁気記録層上にある非磁性層厚みが０．８〜９μｍであることを特徴とする請求項７に記載の磁気記録媒体の製造方法である。
【００１９】
【作用】
発明によってなる転写媒体を用いることにより、カード基材及び印刷層上に直接溶剤を多量に含む塗液を塗工する必要がなくなるので、基材や印刷の歪みを防止することができる。また、保護層形成後の乾燥工程が不要となり、残留溶剤による密着性低下や樹脂の可塑化等の悪影響を防ぐことができる。さらに、別途受像層を設ける必要がなく、保護層兼受像層の塗工がロールの状態で加工可能になるため、膜厚管理が容易で高いレベルでの管理が可能となるので、磁気特性の変動を抑制することができ、工程の簡略化を図ることができる。また、最終製品であるカードの外観も曇り無くかつ、高耐性な磁気記録媒体を得ることができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
図面を参照して本発明を詳細に説明する。
図１は本発明の転写媒体（１０）の構成を示す断面図である。転写媒体（１０）は、支持体（１１）上に第一保護層兼受像層（１２）、第二保護層兼受像層（１３）、接着層（１４）の順に各層が形成されている。
【００２１】
図２は本発明の転写媒体（１０）を転写する被転写基材である磁気カード基材（２０）の一実施例を示す断面図である。
磁気カード基材（２０）として白色コア材（２１）の両面に透明オーバーシート材（２２）が積層されている。この透明オーバーシート材（２２）の表面（図の上側）にＪＩＳ磁気テープ（２３Ａ）が埋め込まれ、裏面（図の下側）にＩＳＯ磁気テープ（２３Ｂ）が埋め込まれている。このＪＩＳ磁気テープ（２３Ａ）が埋め込まれた面側に、隠蔽層（２４）、印刷層（２５）が設けられている。
【００２２】
図３は、上記の転写媒体（転写箔）（１０）の接着層（１４）を磁気カード基材（２０）に対向させて転写する際の断面を示している。
この被転写基材である磁気カード基材（２０）上に、転写媒体（１０）上の保護層兼受像層（１２，１３）および接着層（１４）が転写されて構成されたのが図４に示す磁気記録媒体（３０）である。
【００２３】
転写媒体の支持体（１１）としては厚みが安定しており、かつ耐熱性の高いポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用いるのが一般的であるが、これに限るものではない。その他の材料としては、ポリエチレンナフタレート樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム等が耐熱性の高いフィルムとして知られており、同様の目的で使用することが可能である。また、他のフィルム、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、耐熱塩化ビニル等の材料でも、塗液の塗工条件、さらに言えば乾燥条件が許せば使用可能である。
また、転写条件等により保護層兼受像層の剥離が困難である場合には、支持体側に別途従来既知の離形層を設けても良く、剥離が軽すぎる場合には同様に従来既知の易接着処理を行っても良い。また、転写層への影響が無い限りは、帯電防止処理等の加工も何ら問題は無い。
【００２４】
次に、保護層兼受像層（１２、１３）および接着層（１４）の組成について説明する。
第一保護層兼受像層（１２）は、支持体（１１）との密着性が軽度のものであって、転写媒体（１０）の加熱プレス転写後には容易に剥離する材料でなければならない。さらに、転写後は保護層としての役割と昇華転写による受像適性も果たさなければならない。さらには、保護層上へのホログラムの転写および転写後の密着性、あるいはエンボス加工時の適性も考慮される必要がある。
【００２５】
以上のことを全て満たす組成として、発明者らが検討を重ねた結果、保護層兼受像層（１２）の組成としては、
１）重合度が６００から２０００の範囲内にある塩化ビニル樹脂を含有する組成であること、２）融点が９０℃以上の滑材成分を１〜２０重量％含有する組成が好ましいことがわかった。
【００２６】
１）は、昇華（熱移行）性染料による染着が容易であること、サインパネル材とのブロッキング（変形）がしずらく強靱な皮膜であること、劣化がし難いこと、後加工（ホログラム等の転写性）のし易さ、である。昇華（熱移行）性染料による染着が容易である材料としては、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂に代表される塩ビ系材料が知られている。しかし、塩化ビニル樹脂に他成分を共重合する理由としては溶剤への溶解性・柔軟性を付与するためであり、取り扱いが容易になる反面、ＪＩＳＸ６３０１（旧規格）に代表される接着性・粘着性の試験において、４０℃、９０％ＲＨ環境に４８時間、４．９ＫＰａ荷重にてブロッキング試験をした場合、カード裏面のサインパネル材（膜厚１０μｍ程度）の段差が密着跡として変形してしまう。また、塩ビ系の材料を使用する場合、熱や光による劣化の問題が生じる。この劣化現象はポリ塩化ビニルが空気（酸素）に接して、熱や光（紫外線）に曝されると脱塩素を起こし、不安定な共役二重結合のポリエン構造を生じて変色し始める。さらには架橋や分子切断を誘発して分解・劣化を導き、黒変・脆化・発泡等を起こし、使用に耐えなくなる。この劣化現象は、重合度が６００未満の不安定な材料で顕著に現れ、構造的に安定な高分子材料を使用することが望ましい。
【００２７】
また、重合度が２０００を超える場合には各種溶剤への溶解性が乏しくなり、溶液のゲル化等の問題が発生し、加工性の問題を引き起こす。熱溶融押し出し法等で無溶剤による薄膜均一加工が可能である場合には、これに限定されるものでは無い。後加工のし易さについて説明すると、ホログラムの転写箔はカード基材の最表面にある透明塩化ビニルシート上に転写され易い様に設計されているため、塩ビ系の材料を使用するのが望ましい。
以上の理由から重合度６００〜２０００の範囲内にある塩化ビニル樹脂を含有するのが好ましいことがわかった。
【００２８】
２）は、カードとして使用される場合、磁気ヘッドとの擦れが問題になる。一般的に、週に３回の割合で買い物をしてクレジットカードを使用することを考えると、一年当たりで１５０回、有効期限の５年間では７５０回、磁気ヘッドと擦れることになる。しかし、クレジットカードの利用時に通す、いわゆるＣＡＴ端末は、通常人間の手で通すので、カードと磁気ヘッドの当たり具合が均一でないため、さらにマージンを５倍程度見込むと、約４０００回程度のヘッドパス耐性が必要と考えられる。この耐性を満たすため、ステアリン酸（融点７０℃前後）、ステアリン酸メチル（融点４０℃前後）、ステアリン酸エチル（融点３０℃前後）、ステアリン酸亜鉛（融点１２０℃前後）、ステアリン酸ブチル（融点３０℃前後）、ポリエチレンワックス（融点７０〜１４０℃前後）、パラフィンワックス（融点−１０〜７０℃前後）、カルナバワックス（融点８０℃前後）モンタンワックス（融点７０〜１００℃前後）、マイクロクリスタリンワックス（融点６０〜１００℃前後）、セラックワックス（融点６０〜８０℃前後）、サゾールワックス（融点１００℃前後）、キャンデリラワックス（融点７０℃前後）、ライスワックス（融点８０℃前後）、木蝋（融点５０℃前後）、蜜榔（融点６０〜７０℃）、ラノリン（融点４０℃前後）、セレシン（融点５０〜１００℃前後）、ポリテトラフルオロエチレンパウダー（融点３２０℃前後）等から選択される滑材成分を１〜２０重量％含有する組成が好ましいことがわかった。
【００２９】
滑材添加量が１重量％未満では、ヘッド擦れの耐性が低すぎ、２０重量％を超えて添加すると、滑材成分が表面へ激しくブリードしてくるため、カード表面が不均一にマット化されて曇ったた状態になり、見た目の印象が悪くなってしまうだけでなく、ホログラムの転写・密着性が悪くなってしまう等の加工性悪化を引き起こす。しかし、カードの印刷が黒等の濃い色であった場合、滑剤添加量が２０重量％であっても濁った印象を与える場合がある。下層にどのような色の印刷がきても美しい外観を保つには、滑剤添加量を１５重量％以下にすることが好ましい。
【００３０】
次に、昇華転写による画像の形成性であるが、染着性の良い塩ビ系樹脂に上記の滑剤を１５重量％以下の含有率で添加したものを受像層として、画像の形成性を見たところ、滑剤の種類によって昇華リボンの貼り付きが発生した。これは、昇華転写リボンにサーマルヘッドから熱エネルギーを与え、染料を昇華（溶融）させ移行させるものであるため、受像層の樹脂中に含まれる滑剤の影響によって、受像層自体が溶融しやすくなり、リボンのバインダーとの接着性が増し、融着しやすくなったものと考えられる。滑剤の添加量を１５重量％に固定し、滑剤の融点を変えて実験を行ったところ、融点が９０℃を超える滑剤を使用することにより、昇華リボンとの貼り付きが起きなくなることを見いだした。
上記の理由により、耐摩擦性及び昇華転写の受像適性を両方満足させるには、融点が９０℃以上の滑材成分を１〜１５重量％含有することが好ましい。
【００３１】
第二保護層兼受像層（１３）としては、上記の第一保護層兼受像層（１２）よりも滑剤成分が多いこととする。この理由としては、表面が磁気ヘッド等の擦れにより徐々に削れても内部の滑剤により単層の場合よりも二層目の滑剤を多くすることにより削れをくい止める効果があることが筆者らの研究によって判明した。ここで使用できる材料としては、第一の保護層兼受像層の厚みが０．４μｍ未満である場合には、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニルエチレン酢酸ビニル共重合樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、スチレン共重合アクリル樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等の昇華性染料の染着し易い材料に、第一の保護層兼受像層の説明で列挙した滑剤成分を混合して製造される。
【００３２】
第二保護層兼受像層（１３）においては、昇華転写リボンと直接接触しないため、貼り付きの問題は起こらないため滑剤の融点については特に限定されない。また、第一の保護層兼受像層の厚みが０．４μｍ以上である場合にはそこで、染料の受容が十分であるので従来既知の樹脂材料が使用でき特に限定されるものでは無い。
【００３３】
接着層（１４）の組成としては、平均分子量５万以下のアクリル系樹脂を５０重量％以上含む組成として用いることが好ましい。アクリル系樹脂としては、ポリアクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチルアクリレート等のアクリル酸及びそのエステル系樹脂、ポリメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート等のメタクリル酸及びそのエステル系樹脂、あるいはこれらにエチレン、プロピレン、ブタジエン、スチレン等を共重合した樹脂等が挙げられる。
アクリル系樹脂が好ましい理由は、その下層として設けられる印刷層（２５）が主に紫外線硬化型オフセットインキから構成されているためである。紫外線硬化型オフセットインキは、一般にアクリル酸系樹脂のモノマーやプレポリマーと紫外線照射によってラジカルを発生する光開始剤、および色材から構成される。したがって、樹脂の重合過程が樹脂製造時と塗工乾燥時に行われるという差はあるが、その成分は比較的似通ったものであり、密着性は比較的良好であるからである。しかし、単にアクリル系樹脂であれば密着するわけではない。
一般的に、紫外線硬化型樹脂の硬化過程においては、雰囲気中の酸素が重合反応を阻害して、表面のごく近傍１〜１０ｎｍ程度の深さまでは硬化反応が完全には進行しないといわれている。この酸素阻害を防止するために、紫外線ランプ付近に窒素ガスを充填する方法も実際に採られているが、一般の印刷機ではそのような機能は付いていないことが多い。したがって、ほとんどの紫外線硬化型オフセットインキを使用した印刷物の表面は未反応の層が存在している。
したがって、この未反応層の上に転写箔側の接着層（１４）を熱で密着させようとしても、見かけ上は密着したように見えても、未反応層の強度が弱いため、強い力をかけると未反応層が破壊されて剥がれてしまう。そのため、熱で密着させる際には、この未反応層を超えて下層の硬化層まで接着剤が浸透し、十分な密着をとることが必要である。
【００３４】
そこで、本発明においては、アクリル系樹脂のうち、平均分子量が５万以下の樹脂を使用することにより、加熱時の粘度ができるだけ低い状態で樹脂を浸透させることが可能である。したがって、接着層（１４）と印刷層（２５）の密着強度が十分な磁気記録媒体（３０）を得ることが可能となる。
【００３５】
続いて、保護層兼受像層（１２、１３）と接着層（１４）の厚みについて説明する。
ＪＩＳ磁気テープ（２３Ａ）上の厚みを制限する要因は、主にヘッドパス耐性と磁気出力である。発明者らの実験によれば、ヘッドパス耐性は、保護層兼受像層の組成が同じ場合には、厚いほど向上する。逆に、磁気出力はＪＩＳ磁気テープ（２３Ａ）上の非磁性層の厚みが厚いほど低下する。
そこで、市販されている磁気テープのうち高出力のテープを使用して、非磁性層の厚み、すなわち、隠蔽層（２４）、印刷層（２５）、接着層（１４）、保護層兼受像層（１２，１３）の合計厚みを変化させて実験を行ったところ、非磁性層の合計厚みが９μｍ以下で磁気情報の読み取りテストが合格となった。
【００３６】
一方、一般的に、隠蔽層（２４）の厚みは２〜３μｍ、印刷層（２５）の厚みは２〜３μｍであるから、各平均値は２．５μｍ、合計で５μｍと見積もることができる。したがって、接着層（１４）と保護層兼受像層（１２，１３）の合計厚みの上限は４μｍ以下が適当であるという結果が得られた。しかし、ＪＩＳ磁気テープ（２３Ａ）を隠蔽する方法としては、通常の銀ペーストを印刷する方法以外に、ＡｌやＳｎ等の金属や無機化合物を蒸着等の薄膜形成手段により成膜する方法もある。その場合には、実質的に隠蔽層の厚みはほとんど０であるので、この場合は接着層（１４）および保護層兼受像層（１２，１３）の合計厚みを９μｍ以下に設定すればよい。
【００３７】
また、同時に行った実験で、接着層（１４）の厚みを変化させると、０．１μｍ以上の厚みがあれば十分な密着性が得られることがわかった。さらに、０．１μｍの接着層（１４）を用いて保護層兼受像層（１２，１３）の厚みを変化させたところ、合計０．５μｍをきったところでヘッドパス耐性が４０００回もたず、不合格という結果が得られ、保護層兼受像層（１２，１３）の厚みが０．４μｍ以下ではヘッドパス耐性が不合格となり、保護層兼受像層（１２，１３）の厚みが０．４μｍ以上必要であることが示された。しかし、ここで昇華転写の受像適性をみたところ、それぞれ必要な最低厚み、すなわち接着層（１４）が０．１μｍ、剥離保護層（１２，１３）が０．４μｍの組み合わせでは昇華転写リボンの貼り付きが一部発生した。これは下層の印刷層（２５）、隠蔽層（２４）に含まれる顔料や無機フィラー等の熱伝導性が悪いため、蓄熱効果により貼り付きを起こしたためである。
よって、ある程度の距離をとることが必要となり、さらに実験を重ねた結果、保護層兼受像層及び接着層の合計厚みは少なくとも０．８μｍが必要であることが示された。
【００３８】
【実施例】
以下に、実施例を示す。
表１には保護層兼受像層に使用する樹脂組成、
表２には保護層兼受像層に使用する滑剤組成、をそれぞれ示す。
【００３９】
【表１】

【００４０】
【表２】

【００４１】
表３には保護層兼受像層の樹脂組成品の溶解性・耐光性・耐熱性・耐変形性について評価した結果を示す。
【００４２】
【表３】

【００４３】
ここでの評価法は、溶解性については文字通り有機溶剤、テトラハイドロフラン（ＴＨＦ）に塗工可能である１０％以上の濃度にて溶解性（羽根攪拌にて１時間混ぜた後、２４時間放置し状態観察）の確認を行い、ゲル化したものを不可とした。
溶解性以外の項目は、上記作成した溶液を用い、ガラス板上に膜厚約５μｍにて、ワイヤーバーを用いて形成し、カーボンアーク光灯にて５００時間、８０℃オーブン中に３０日間放置し、それぞれ変退色のあったものを不可とした。耐変形性は、上記作成した樹脂層上に、裏面にサインパネル材が転写されたカードを重ね、４０℃、９０％ＲＨ環境に４８時間、４．９ＫＰａ荷重にて試験を行い、密着跡の付いた物を不可とした。
結果として、重合度２０００を超えるものは溶液のゲル化により取り扱いが難しく、重合度６００未満のものは耐光性・耐熱性において安定性に欠けるため使用不可である。また、共重合物は皮膜が柔軟となってしまうため、変形を起こしやすく使用不可である。よって、重合度６００から２０００の範囲内にある塩化ビニル樹脂を使用することが良いと示された。
【００４４】
表４には、保護層兼受像層として［表１］中の組成（１３）及び［表２］組成▲１▼〜▲８▼の滑剤について評価した結果を記す。
【００４５】
【表４】

【００４６】
なお、被転写基材としては、０．５６ｍｍ厚の白色塩化ビニルコア材（２１）の両面に０．１ｍｍ厚の透明塩化ビニルシート材（２２）を重ねて、カード裏面となる側に保磁力２３．７ｋＡ／ｍのＩＳＯ磁気テープ２０を仮止めし、カード表面となる側に保磁力５１．４ｋＡ／ｍ、残留磁束１７ｎＷｂ／ｃｍのＪＩＳ磁気テープ（２３Ａ）を仮止めし、全体を温度１５０℃、圧力３ＭＰａ、時間３０分の条件にて加熱加圧プレスを行い、続いて、隠蔽層（２４）として、市販のアルミペーストスクリーンインキをスクリーン印刷法にて、３μｍ厚で全面に設けた。続いて、印刷層（２５）として、市販の紫外線硬化型オフセットインキのプロセス４色である黄、紅、藍、墨にて絵柄を印刷し、紫外線ランプを照射してオフセットインキを硬化させ、被転写基材（２０）を作製した。
この状態で、ＪＩＳ磁気テープ（２３Ａ）上の非磁性層の厚みは約５μｍであった。
【００４７】
以上のようにして作製した被転写材（２０）上に保護層兼受像層及び接着層を績層した転写媒体（転写箔）を重ね合わせ、温度１００℃、圧力２ＭＰａ、時間１５分の条件にて加熱加圧プレスを行い、評価サンプルを得た。
【００４８】
ここでの評価法は、以下の通りである。
ヘッドパス耐性は、ＬＴＳ１０５ヘッドパス評価機（フォルマントエンジニアリング社製）を使用し、４０００回の往復試験を行い、表面を目視観察した。この際、ＪＩＳ磁気テープが露出しているものを不合格とした。
転写箔密着性は、密着させたニチバン粘着テープを９０度方向に一気に剥離し、剥離が見られたものを不合格とした。
ホログラム密着性は、１５０℃、３００ＭＰａにて転写したホログラム転写箔上にニチバン粘着テープを密着させ、９０度方向に一気に剥離し、剥離が見られたものを不合格とした。
磁気読み取りは、ＪＳＣ１１２ジッタ出力分析装置（フォルマントエンジニアリング社製）を用いて、２１０ＢＰＩ、６０ｍＡの書き込み電流で磁気データを書き込み、これをアンプゲイン１００倍にて読みとった際に、平均出力が６Ｖ未満であったものを不合格とした。
昇華転写による受像適性評価は、市販の昇華転写型カードプリンタ（凸版印刷社製ＣＰ１０００）を用いて、サーマルヘッド電圧１０Ｖにて画像を形成し、昇華転写リボンの貼り付きがあったものを不合格とした。
結果として、滑剤の融点が９０℃未満のものでは、全体の融点が平均して下がるため、サーマルヘッドからの印可時の熱エネルギーにより溶融しやすくなることにより、昇華転写リボンとの貼り付きが発生した。よって滑剤の融点が９０℃以上のもので良好な受像適正が得られると示された。
その他の性能においては、全く問題が無かった。
【００４９】
表５には、保護層兼受像層を［表１］中の組成（１３）及び［表２］組成▲１▼の滑剤に固定し、保護層兼受像層及び接着層の膜厚について評価した結果を記す。
【００５０】
【表５】

【００５１】
ここでの評価法は、上記と同じである。
結果として、保護層兼受像層の厚みが０．４μｍ未満であるとヘッドパス耐性が低下すること、および保護層兼受像層と接着層の合計厚みが４μｍを超えると磁気読み取りが不良となること、さらに接着層の厚みが０．１μｍ未満では転写箔としての密着性低下すること、両層の合計厚みが０．８μｍを下回ると受像適性が低下することが示された。
【００５２】
＜実施例１＞
・被転写基材の作成
上記作製した、被転写基材を使用した。
・転写媒体の作成
支持体（１１）として表面未処理の２５μｍ厚ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、この上に、［表１］中の組成（１３）及び［表２］組成▲１▼を添加量１０重量％にて乾燥後厚み０．５μｍで第一保護層兼受像層（１２）をグラビア法にて設け、その上に［表１］中の組成（４）及び［表２］組成▲３▼を添加量２０重量％にて乾燥後厚み０．５μｍで第二保護層兼受像層（１３）を同様に設け、接着層（１４）を乾燥後厚み０．５μｍで設け、転写媒体（１０）を得た。ここで使用した接着剤は、三菱レイヨン（株）ＢＲ−８７（平均分子量２５，０００）をメチルエチルケトン／トルエン（１／１）溶媒中に固形分２０％で溶解したものを使用した。
・カード化
カード化に関しては、前述した通りである。
【００５３】
＜比較例１＞
・転写媒体の作成
実施例１で作製した転写媒体の第二保護層兼受像層の滑剤を添加量０重量％（滑剤無し）及び１０重量％（第一保護層兼受像層と等量）にてそれぞれ作製した。
その他に関しては、実施例１と同様に作製した。
【００５４】
＜比較例２＞
・転写媒体の作成
ここでは、第一保護層兼受像層（１２）を組成は実施例１と同じものと滑材添加量を２０重量％にしたもので、乾燥後膜厚を、それぞれ１．０μｍにて設けた。第二保護層兼受像層は設けずに、他は全て実施例１と同様に作製した。
【００５５】
＜評価方法＞
それぞれ作成した転写媒体に関し、目視による外観評価及び磁気ヘッドパス試験を４０００回、７５００回、１００００回実施した。目視評価に関しては、表面に粉ふきが見られたものをＮＧとした。
【００５６】
＜評価結果＞
上記の実施例及び比較例１，２の評価結果を表６に示す。
【００５７】
【表６】

【００５８】
実施例１及び比較例１、２の結果により、第一保護層兼受像層よりも滑剤成分の多い第二保護層兼受像層を設けることにより、外観が美しく高耐性な保護層が得られるという結果が得られた。
【００５９】
【発明の効果】
以上詳述したとおり、本発明によってなる転写媒体を用いることにより、カード基材上に直接溶剤を多量に含む塗液を塗工する必要がなくなるので、基材や印刷の歪みを防止することができる。また、保護層形成後の乾燥工程が不要となり、残留溶剤による密着性低下や樹脂の可塑化等の悪影響を防ぐことができる。
さらには、膜厚管理が容易で高いレベルでの管理が可能となるので、磁気特性の変動を抑制することができる上、転写後の安定したヘッドパス耐性及び昇華転写による受像適性を得ることができる。更に、第一保護層兼受像層よりも滑剤成分の多い第二保護層兼受像層を設ける事により、外観が美しく高耐性な保護層を得る事ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の転写媒体（転写箔）の一実施例の構成を示す断面図である。
【図２】被転写媒体である磁気記録基材（磁気カード基材）の一実施例の構成を示す断面図である。
【図３】本発明の転写媒体を用い、これを磁気カード基材に転写する際の一実施例を示す断面図である。
【図４】作製された磁気記録媒体（磁気カード）の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１０…転写媒体（転写箔）
１１…支持体
１２…第一保護層兼受像層
１３…第二保護層兼受像層
１４…接着層
２０…被転写基材（磁気カード基材）
２１…コア材
２２…オーバーシート材
２３…磁気テープ
２３Ａ…ＪＩＳ磁気テープ
２３Ｂ…ＩＳＯ磁気テープ
２４…隠蔽層
２５…印刷層
３０…磁気記録媒体（磁気カード）

Claims

支持体上に、該支持体に対して剥離性を有する第一の保護層兼受像層、第二の保護層兼受像層、および接着層が、少なくともこの順に設けてある転写媒体において、該第一の保護層兼受像層が、少なくとも、融点が９０℃以上の滑剤を、重合度６００〜２０００の範囲にある塩化ビニル樹脂に対して１〜１５重量％含有する組成で形成され、該第二の保護層兼受像層は、樹脂に対する滑剤成分の割合が２０重量％以下であって、且つ、該第一の保護層兼受像層の場合よりも樹脂に対する滑剤成分の割合が多く含有する組成であること、を特徴とする転写媒体。
前記接着層の厚みが乾燥厚みで０．１μｍ以上であり、前記第一の保護層兼受像層と第二の保護層兼受像層との合計厚みが乾燥厚みで０．４μｍ以上あって、しかも、該接着層、第一の保護層兼受像層、および第二の保護層兼受像層の合計厚みが乾燥厚みで０．８〜９μｍであること、を特徴とする請求項１記載の転写媒体。
支持体に対して剥離性を有する第一の保護層兼受像層、第二の保護層兼受像層、および接着層の、少なくとも３層をこの順に該支持体上に設ける転写媒体の製造方法において、該第一の保護層兼受像層は、少なくとも、融点が９０℃以上の滑剤を、重合度６００〜２０００の範囲にある塩化ビニル樹脂に対して１〜１５重量％含有する組成で、塗工により形成し、しかる後に、該第二の保護層兼受像層は、樹脂に対する滑剤成分の割合が２０重量％以下であって、且つ、該第一の保護層兼受像層の場合よりも樹脂に対する滑剤成分の割合が多く含有する組成で、塗工により形成すること、を特徴とする転写媒体の製造方法。
磁気記録層を備えている基材上に、請求項１又は２のいずれかに記載の接着層、第一の保護層兼受像層、および第二の保護層兼受像層の転写媒体の少なくとも３層が、設けてあることを特徴とする磁気記録媒体。
前記磁気記録層上にある非磁性層の厚みが０．８〜９μｍであることを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体。
前記磁気記録層は、目視では視認が不可能か又は困難なように、隠蔽されてあることを特徴とする請求項４又は５のいずれかに記載の磁気記録媒体。
磁気記録層を備えている基材上に、保護層兼受像層を転写により形成する磁気記録媒体の製造方法であって、保護層兼受像層の転写に用いる転写媒体として、支持体上に、該支持体に対して剥離性を有する第一の保護層兼受像層、第二の保護層兼受像層、および接着層が、少なくともこの順に設けてあり、該第一の保護層兼受像層が、少なくとも、融点が９０℃以上の滑剤を、重合度６００〜２０００の範囲にある塩化ビニル樹脂に対して１〜１５重量％含有する組成で形成され、且つ、該第二の保護層兼受像層は、樹脂に対する滑剤成分の割合が２０重量％以下であって、且つ、該第一の保護層兼受像層の場合よりも樹脂に対する滑剤成分の割合が多く含有する組成である転写媒体を使用すること、を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
前記磁気記録層上にある非磁性層厚みが０．８〜９μｍであることを特徴とする請求項７に記載の磁気記録媒体の製造方法。