JP4407333B2 - Strip workpiece exposure system - Google Patents
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Description
本発明は、長尺のフイルム回路基板（帯状ワーク）上に、マスクを介して光を照射し、マスクに形成された回路などのマスクパターンを転写する、帯状ワークの露光装置に関し、特に、帯状ワークの露光装置における、ワークを吸着保持するワークステージに関するものである。 The present invention relates to an exposure apparatus for a strip-shaped workpiece that irradiates light on a long film circuit board (band-shaped workpiece) through a mask and transfers a mask pattern such as a circuit formed on the mask. The present invention relates to a work stage that holds a work by suction in a work exposure apparatus.
液晶等のディスプレイパネル、携帯電話、デジタルカメラ、ＩＣカード等では、厚さ２５μｍ〜１２５μｍ程度のポリエステルやポリイミド等の樹脂フイルム上に集積回路を実装したフイルム回路基板が用いられている。
フィルム回路基板は、その製造工程においては、例えば幅２５０ｍｍ、厚さ１００μｍ、長さ数百ｍの帯状のワークであり、通常リールに巻かれている。
また、フイルム回路基板は、上記の樹脂フイルム上に、導電体（例えば銅箔）を貼り付けられている。フイルム回路基板の製造は、レジストを塗布する工程、所望の回路パターンを転写する露光工程、レジストの現像工程、不要の導電体を除去するエッチング工程等を、例えば４回から５回、繰り返すことにより行なわれる。
各工程においては、フイルム回路基板がリールから巻き出され、処理加工され、再びリールに巻き取られる。以下フイルム回路基板のことを帯状ワークと呼ぶ。
図５に帯状ワークの露光装置の一例を示す。
帯状ワークＷ（以下、単にワークＷともいう）は、ワークＷを保護するスペーサと重ね合せて巻き出しロール１にロール状に巻かれている。巻き出しロール１から引き出す時、スペーサはスペーサ巻き取りロール１ａに巻き取られる。
巻き出しロール１から出た帯状ワークＷは、たるみ部Ａ１、中間ガイドロールＲ２を経てエンコーダロールＲ３と押さえロールＲ３’により狭持される。エンコーダロールＲ３は、ワーク搬送時、後述する搬送ロールにおいてスリップが生じていないか確認するためのロールである。
In a display panel such as a liquid crystal display, a mobile phone, a digital camera, and an IC card, a film circuit board in which an integrated circuit is mounted on a resin film such as polyester or polyimide having a thickness of about 25 μm to 125 μm is used.
In the manufacturing process, the film circuit board is, for example, a strip-shaped workpiece having a width of 250 mm, a thickness of 100 μm, and a length of several hundreds of meters, and is usually wound on a reel.
Moreover, the conductor (for example, copper foil) is affixed on the said resin film in the film circuit board. Film circuit boards are manufactured by repeating a resist coating process, an exposure process for transferring a desired circuit pattern, a resist developing process, an etching process for removing unnecessary conductors, etc., for example, 4 to 5 times. Done.
In each process, the film circuit board is unwound from the reel, processed, and taken up on the reel again. Hereinafter, the film circuit board is referred to as a belt-like work.
FIG. 5 shows an example of a belt-shaped workpiece exposure apparatus.
A belt-like workpiece W (hereinafter, also simply referred to as a workpiece W) is wound around the unwinding roll 1 in a roll shape so as to overlap with a spacer that protects the workpiece W. When pulling out from the unwinding roll 1, the spacer is wound around the spacer winding roll 1a.
The strip-shaped workpiece W that has come out of the unwinding roll 1 is sandwiched between the encoder roll R3 and the pressing roll R3 ′ through the slack portion A1 and the intermediate guide roll R2. The encoder roll R3 is a roll for confirming whether or not slip has occurred in a later-described transport roll during workpiece transport.
巻き出しロール１から引き出された帯状ワークＷは、露光部３を経て、搬送ロールＲ４と押さえロールＲ４’によって狭持される。帯状ワークＷは、搬送ロールＲ４が回転することにより設定された所定量搬送され、露光部３のワークステージ１０上に送られる。
露光部３上には、ランプ４ａと集光鏡４ｂから構成される光照射部４と、マスクパターンを有するマスクＭと、投影レンズ５が設けられている。また、ワークステージ１０はワークステージ駆動機構６上に取り付けられており、上下、左右方向に駆動可能であるとともに、ワークステージ面に垂直な軸を中心として回転可能である。
露光部３で、帯状ワークＷは、露光される領域の裏面側が、ワークステージ１０の表面に真空吸着等の保持手段により保持される。これは、投影レンズ５により投影されるマスクパターンの結像位置に、ワークＷの露光する領域を固定し、露光中にワークＷが光軸方向または搬送方向に移動することを防ぐためである。
その後、ワークステージ駆動機構６を駆動して、回路等のマスクパターンを形成したマスクＭとワークＷの露光領域とを位置合せする。位置合わせ終了後、光照射部４から放射される露光光がマスクＭ、投影レンズ５を介してワークＷに照射され、マスクパターンがワークＷに転写される。
露光が終わると、帯状ワークＷは搬送ロールＲ４と押さえロールＲ４’によって狭持され、次の露光領域がワークステージ１０上に来るように搬送され、露光される。
このようにして帯状ワークＷは順次露光され、ガイドロールＲ５、たるみ部Ａ２を経て巻き取りロール２に巻き取られる。その際、スペーサ巻き出しロール２ａからスペーサが送り出され、露光済の帯状ワークＷは、スペーサとともに巻き取りロール２に巻き取られる。
The strip-shaped workpiece W drawn out from the unwinding roll 1 passes through the exposure unit 3 and is held between the transport roll R4 and the pressing roll R4 ′. The belt-like workpiece W is transported by a predetermined amount set by the rotation of the transport roll R4 and is sent onto the work stage 10 of the exposure unit 3.
On the exposure unit 3, a light irradiation unit 4 including a lamp 4a and a condenser mirror 4b, a mask M having a mask pattern, and a projection lens 5 are provided. The work stage 10 is mounted on the work stage drive mechanism 6, can be driven in the vertical and horizontal directions, and can be rotated about an axis perpendicular to the work stage surface.
In the exposure unit 3, the back surface side of the exposed area of the belt-like workpiece W is held on the surface of the work stage 10 by a holding means such as vacuum suction. This is to fix the exposure area of the workpiece W at the imaging position of the mask pattern projected by the projection lens 5 and prevent the workpiece W from moving in the optical axis direction or the conveyance direction during the exposure.
Thereafter, the work stage driving mechanism 6 is driven to align the mask M on which a mask pattern such as a circuit is formed with the exposure area of the work W. After the alignment is completed, the exposure light emitted from the light irradiation unit 4 is irradiated onto the workpiece W via the mask M and the projection lens 5, and the mask pattern is transferred to the workpiece W.
When the exposure is finished, the belt-like work W is held between the transport roll R4 and the pressing roll R4 ′, and transported and exposed so that the next exposure area is on the work stage 10.
In this way, the strip-shaped workpiece W is sequentially exposed and wound on the winding roll 2 through the guide roll R5 and the slack portion A2. At that time, the spacer is fed out from the spacer unwinding roll 2a, and the exposed belt-like workpiece W is wound up on the winding roll 2 together with the spacer.
ところで、上記帯状ワークＷには、ＴＡＢテープのように、ポリイミド等の樹脂フィルムに銅箔といった金属箔が貼りつけられているものがある。銅箔の貼りつけは、熱や圧力をかけて行なわれるので、銅箔と有機化合物フイルムとの熱膨張係数の違い等により、幅方向にそりが生じることがある。
また、前工程において、帯状ワークＷを、ワーク周辺部に設けられているパーフォレーションホールの、ピッチに応じた突起を有するスプロケットローラによって搬送すると、パーフォレーションホール付近のフイルムが延びや変形を生じることがある。
このような帯状ワークにおいて、上記したように露光工程、現像工程、エッチング工程が繰り返されると、そりやしわが大きくなり、図６に示すように、帯状ワークＷのパーフォレーションホールＰＨ付近のフイルムに凹凸ができ、例えばワカメのように全体にしわが生じた状態になる場合がある。
By the way, the said strip | belt-shaped workpiece | work W has a thing with which metal foils, such as copper foil, are affixed on resin films, such as a polyimide, like a TAB tape. Since the application of the copper foil is performed by applying heat or pressure, warpage may occur in the width direction due to a difference in thermal expansion coefficient between the copper foil and the organic compound film.
Further, in the previous step, when the belt-like workpiece W is transported by a sprocket roller having a projection corresponding to the pitch of the perforation hole provided in the peripheral portion of the workpiece, the film near the perforation hole may be extended or deformed. .
In such a belt-like work, when the exposure process, the development process, and the etching process are repeated as described above, warpage and wrinkles increase, and the film near the perforation hole PH of the belt-like work W is uneven as shown in FIG. For example, there may be a wrinkled state like wakame.
前記したように、露光に際し、帯状ワークＷは平面のワークステージ１０上に真空吸着等の保持手段により保持される。ワークステージ１０上に帯状ワークＷが保持されたことは、ワークステージ１０に供給される真空の圧力より検出する。
図７に、従来のワークステージ１０の概略構成を示し、同図により上記保持手段について説明する。なお、同図は帯状ワークの幅方向（帯状ワーク搬送方向に直交する方向）から見た断面図である。
図７に示すように、ワークステージ１０の内部には真空供給室１１が設けられており、真空供給室１１には、電磁弁１５を介して、真空ポンプ１２からの真空供給系が接続されている。
ワークステージ１０の表面には多数の真空吸着孔１３が設けられており、真空吸着孔１３には、真空供給室１１を介して真空が供給され、ワークＷがワークステージ１０の表面に吸着保持される。
As described above, at the time of exposure, the belt-like workpiece W is held on the flat workpiece stage 10 by holding means such as vacuum suction. The fact that the belt-like workpiece W is held on the workpiece stage 10 is detected from the vacuum pressure supplied to the workpiece stage 10.
FIG. 7 shows a schematic configuration of a conventional work stage 10, and the holding means will be described with reference to FIG. In addition, the figure is sectional drawing seen from the width direction (direction orthogonal to a strip | belt-shaped workpiece conveyance direction) of a strip | belt-shaped workpiece | work.
As shown in FIG. 7, a vacuum supply chamber 11 is provided inside the work stage 10, and a vacuum supply system from a vacuum pump 12 is connected to the vacuum supply chamber 11 via an electromagnetic valve 15. Yes.
A large number of vacuum suction holes 13 are provided on the surface of the work stage 10. A vacuum is supplied to the vacuum suction holes 13 through the vacuum supply chamber 11, and the work W is sucked and held on the surface of the work stage 10. The
真空供給系には真空の圧力を検出する真空センサ１４が設けられており、ワークＷの吸着を検出する。即ち、ワークステージ１０表面にワークＷが吸着されない時は、真空供給室１１に真空を供給しても、真空吸着孔１３から大気が引き込まれるので、真空供給系はほとんど減圧されず、圧力は大気圧に近いままである。
しかし、ワークステージ１０表面にワークＷが吸着されると、真空吸着孔１３からの大気の引き込みがなくなり真空供給系が減圧される。したがって圧力が下がる。
真空センサ１４は上記真空供給系の圧力を検出し、この圧力が設定された閾値圧力よりも低い場合はＯＮ信号を、高い場合はＯＦＦ信号を、露光装置の制御部３０に送る。制御部３０は、ＯＮ信号が入力されると、ワークステージ１０表面にワークＷが吸着されたと認識し、露光装置は露光のための次の動作、例えばマスクＭとワークＷの位置合せ動作や実際の露光動作に移る。
マスクＭのパターンが解像度良くワークＷの表面に結像するように、ワークステージ１０の表面位置はあらかじめ前記ワークステージ駆動機構６により、所定位置に設定されている。
The vacuum supply system is provided with a vacuum sensor 14 that detects the pressure of the vacuum, and detects the adsorption of the workpiece W. That is, when the workpiece W is not attracted to the surface of the workpiece stage 10, even if a vacuum is supplied to the vacuum supply chamber 11, the atmosphere is drawn from the vacuum suction hole 13, so that the vacuum supply system is hardly depressurized and the pressure is large. It remains close to atmospheric pressure.
However, when the workpiece W is adsorbed on the surface of the workpiece stage 10, the atmosphere is not drawn from the vacuum suction hole 13 and the vacuum supply system is depressurized. Therefore, the pressure drops.
The vacuum sensor 14 detects the pressure of the vacuum supply system, and sends an ON signal to the
The surface position of the work stage 10 is set to a predetermined position by the work stage driving mechanism 6 in advance so that the pattern of the mask M is imaged on the surface of the work W with high resolution.
しかし、帯状ワークＷに、図６のような、しわやそりによる凹凸が生じていると、ワークＷがワークステージ１０に吸着される時、ワークＷの吸着される領域（露光される領域）の周辺部において、ワークＷとワークステージ１０との間に隙間ができ、その隙間から図７に示すように真空がリークする。
リークが生じると真空供給系は減圧されず、真空センサ１４はＯＮ信号を出力しない。したがって、ワークステージ１０表面にワークＷが存在するにもかかわらず、制御部３０はワークＷの吸着を認識できず、吸着エラーとなり、装置は露光のための次の動作に移ることができない。
真空センサ１４によりワークＷの吸着を検出するためには、ワークＷの吸着される領域（露光される領域）の周辺部からのリークを防げばよい。
However, if the belt-like workpiece W has irregularities due to wrinkles or warpage as shown in FIG. 6, when the workpiece W is attracted to the workpiece stage 10, the area where the workpiece W is attracted (exposed region). In the peripheral portion, a gap is formed between the workpiece W and the workpiece stage 10, and the vacuum leaks from the gap as shown in FIG.
When a leak occurs, the vacuum supply system is not decompressed and the vacuum sensor 14 does not output an ON signal. Therefore, despite the presence of the workpiece W on the surface of the workpiece stage 10, the
In order to detect the suction of the workpiece W by the vacuum sensor 14, it is only necessary to prevent leakage from the periphery of the area where the workpiece W is attracted (exposed area).
帯状ワークＷの幅方向両側（パーフォレーションホールが形成されるエッジの部分）からのリークを防ぐ方法として、例えば、ワークの周辺部をワークステージに機械的に押しつける方法が提案されている（特許文献１参照）。パーフォレーションホールが形成されるエッジの部分は、露光される領域外であるので、機械的に押しつけても問題はない。
また、特許文献２には、そりやしわを生じさせることなく、ワークをワークステージに真空吸着させるため、ワークステージ上の露光領域内に設けられた真空吸着孔を、複数の孔群に区分けし、各孔群をそれぞれ異なる連通室に接続し、各連通室を順次真空引きする方法が提案されている。
In Patent Document 2, the vacuum suction holes provided in the exposure area on the work stage are divided into a plurality of hole groups in order to vacuum-suck the work to the work stage without causing warpage or wrinkles. A method has been proposed in which each hole group is connected to a different communication chamber, and each communication chamber is sequentially evacuated.
しかし、前記図６に示したようにそりやしわが大きくなり、帯状ワークＷのエッジ部分全体に凹凸ができた状態であると、上記特許文献１に記載されるように、ワークＷのエッジ部分をワークステージ１０に押しつけても、エッジ部分のしわが、帯状ワークの長手方向に出てきてしまい、前記図７に示したように、しわが生じたままステージに吸引されてリークが生じる。
また、図８の搬送方向からの断面図に示すように、前記特許文献１に記載されるワークおさえ部２１により、ワークＷのエッジ部分をワークステージ１０に押しつけても、しわになっている以外の部分は、ワークステージ１０に張り付くものの、しわの部分はワークステージ１０に対して浮いたままとなり、この部分からリークが生じる。
この長手方向に生じたしわは、ワークステージに供給する真空の量を大きくしても、なくならず、リークを止めることはできなかった。
また、帯状ワークＷの長手方向については、パターンが形成される領域であり、機械的に押しつけると、形成されたパターンに傷がついたりゴミが付着したりするなど、不具合の原因になる場合がある。したがって、機械的にワークを押さえつける手段を取ることができない。
However, as shown in FIG. 6, when the warp or wrinkle is large and the entire edge portion of the strip-shaped workpiece W is uneven, as described in Patent Document 1, the edge portion of the workpiece W is formed. Is pressed against the work stage 10, wrinkles at the edge portion come out in the longitudinal direction of the strip-shaped work, and as shown in FIG. 7, the wrinkles are attracted to the stage and leakage occurs.
Further, as shown in the cross-sectional view from the conveying direction in FIG. 8, except that the edge portion of the workpiece W is pressed against the workpiece stage 10 by the workpiece holding portion 21 described in Patent Document 1 except for wrinkles. Although this part sticks to the work stage 10, the wrinkled part remains floating with respect to the work stage 10, and leakage occurs from this part.
The wrinkles generated in the longitudinal direction were not lost even if the amount of vacuum supplied to the work stage was increased, and the leak could not be stopped.
In addition, the longitudinal direction of the strip-shaped workpiece W is an area where a pattern is formed. If mechanically pressed, the formed pattern may be damaged, or dust may be attached to the pattern. is there. Therefore, it is not possible to take a means for mechanically pressing the workpiece.
一方、前記特許文献２に記載されるように、ワークステージ上の露光領域内に設けられた真空吸着孔を、複数の孔群に区分けし、各孔群を順次真空引きする方法を用いることも考えられるが、前記図６に示したような凹凸ができた帯状ワークに対しては、効果を期待できない。
すなわち、ワークステージの露光領域内に設けられた孔群を順次真空引きすると、露光領域の中心部分は、ワークステージに吸着されるものの、露光領域の周辺部分には、前記図７に示したようにしわが残り、しわの部分はワークステージに対して浮いたままとなって、この部分からリークが生じる。
このため、前記真空センサ１４は、ＯＮ信号を出力せず、前記したように、装置は露光のための次の動作に移ることができない。
本発明は上記従来技術の問題点を解決するためになされたものであって、本発明の目的は、全体に凹凸が生じワークステージに吸着されにくい帯状ワークに対して、パターンが形成される領域を機械的に押さえつけることなく、リークを防ぎながらワークステージ上に吸着保持できるようにし、帯状ワークがワークステージに吸着されたことを確実に検出できるようにすることである。
On the other hand, as described in Patent Document 2, it is also possible to use a method in which the vacuum suction holes provided in the exposure area on the work stage are divided into a plurality of hole groups, and each hole group is sequentially evacuated. Although it is conceivable, the effect cannot be expected for the strip-shaped workpiece having the unevenness as shown in FIG.
That is, when the holes provided in the exposure area of the work stage are sequentially evacuated, the central portion of the exposure area is adsorbed by the work stage, but the peripheral portion of the exposure area is as shown in FIG. Wrinkles remain and the wrinkled part remains floating with respect to the work stage, and leakage occurs from this part.
Therefore, the vacuum sensor 14 does not output an ON signal, and as described above, the apparatus cannot move to the next operation for exposure.
The present invention has been made in order to solve the above-described problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide an area in which a pattern is formed on a strip-shaped work that is uneven as a whole and is not easily attracted to a work stage. In other words, it is possible to adsorb and hold the work piece on the work stage while preventing leakage and to reliably detect that the belt-like work is adsorbed to the work stage.
上記課題を本発明においては、次のように解決する。
ワークステージに、ワークの露光される領域を真空吸着するための多数の第１の孔群に加えて、少なくともワーク搬送方向の上流側と下流側の上記第１の孔群が設けられたステージと同一平面の一体のステージ上に、上記露光される領域以外の領域を吸引する第２の孔群を設ける。
また、上記第１の孔群と第２の孔群に、それぞれ別個の真空供給系を接続し、少なくとも第１の孔群に供給される真空供給系に上記ワークの吸着を検出するセンサを設ける。
そして、ワークステージにワークが搬送された時、上記第２の孔群でワークの露光される領域外の部分を吸引し、ワークが露光される領域の周辺部におけるしわの発生を防ぐ。これにより、リークが発生することなくワークの露光される領域を吸着することができる。
In the present invention, the above problem is solved as follows.
A stage provided with at least the first hole group at the upstream side and the downstream side in the workpiece transfer direction in addition to a plurality of first hole groups for vacuum-sucking the exposed area of the workpiece on the workpiece stage; A second hole group for sucking a region other than the region to be exposed is provided on an integrated stage on the same plane .
In addition, a separate vacuum supply system is connected to each of the first hole group and the second hole group, and at least a sensor for detecting adsorption of the workpiece is provided in the vacuum supply system supplied to the first hole group. .
When the work is transferred to the work stage, the second hole group sucks a portion outside the area where the work is exposed, thereby preventing wrinkles from occurring in the peripheral area of the area where the work is exposed. As a result, the exposed area of the workpiece can be adsorbed without causing a leak.
本発明においては、以下の効果を得ることができる。
（１）ワークの露光される領域に対してワーク搬送方向上流側と下流側の露光される領域以外の領域を、ワークの露光される領域を吸着する第１の孔群とは別個の真空供給系に接続された第２の孔群により吸引するので、ワークの露光される領域の周辺ではワークはしわが減って平面になり、ワークの露光される領域とワークステージの間に隙間ができなくなる。
したがって、ワークの露光される領域を吸着する第１の孔群におけるリークを防ぐことができる。
このため、そりやしわが大きくなったワークであっても、上記第１の孔群に接続された真空供給系に設けた真空センサにより、ワークが吸着されたことを確実に検出することができ、露光のための次の動作に移ることが可能となる。
なお、上記第２の孔群が設けられた露光される領域以外の領域では、リークを生じるが、ワークの露光される領域を吸着する第１の孔群とは別個の真空供給系が接続されているので、第１の孔群に接続された真空供給系は、そのリークの影響で圧力が上がるということはなく、ワークの吸着を正しく認識することができる。
（２）ワークのパターンが形成される領域を機械的に押さえつけないので、パターンに傷をつけたりごみを付着させたりすることがない。
In the present invention, the following effects can be obtained.
(1) Vacuum supply of a region other than the exposed region on the upstream side and the downstream side in the workpiece conveyance direction with respect to the exposed region of the workpiece, separate from the first hole group that sucks the exposed region of the workpiece Since the suction is performed by the second hole group connected to the system, the work is reduced in wrinkles around the exposed area of the work and becomes a flat surface, and there is no gap between the exposed area of the work and the work stage. .
Therefore, it is possible to prevent leakage in the first hole group that adsorbs the exposed area of the workpiece.
For this reason, even if the workpiece has increased warpage or wrinkles, the vacuum sensor provided in the vacuum supply system connected to the first hole group can reliably detect that the workpiece has been adsorbed. It is possible to move to the next operation for exposure.
A leak occurs in an area other than the exposed area where the second hole group is provided, but a vacuum supply system separate from the first hole group that sucks the exposed area of the workpiece is connected. Therefore, the vacuum supply system connected to the first hole group does not increase in pressure due to the leakage, and can correctly recognize the adsorption of the workpiece.
(2) Since the area where the workpiece pattern is formed is not mechanically pressed, the pattern is not scratched or dust is attached.
図１、図２に本発明の実施例のワークステージの構成を示す。図１は帯状ワークの幅方向（帯状ワークの搬送方向に直交する方向）から見たワークステージの断面図、図２は、ワークステージを上方から見た図である（同図では後述する帯状ワークのエッジ部分をおさえるワークおさえ機構は省略されている）。
なお、本実施例の帯状ワークの露光装置の全体構成は、前記図５に示したものと同じであり、前記したように、巻き出しロール１から引き出された帯状ワークＷは、露光部３に設けられた上記図１、図２に示すワークステージ１０上に送られ、真空吸着により保持される。そして、位置合わせ終了後、マスクパターンが帯状ワークＷのされる領域に転写される。帯状ワークＷは、順次、上記ワークステージ１０に搬送されて露光され、露光後、巻き取りロール２に巻き取られる。
1 and 2 show the configuration of the work stage according to the embodiment of the present invention. FIG. 1 is a cross-sectional view of a work stage as seen from the width direction of the belt-like workpiece (direction perpendicular to the conveyance direction of the belt-like workpiece), and FIG. 2 is a view of the workpiece stage as seen from above. The work holding mechanism that holds the edge part of is omitted).
The overall configuration of the belt-shaped workpiece exposure apparatus of the present embodiment is the same as that shown in FIG. 5, and as described above, the strip-shaped workpiece W drawn from the unwinding roll 1 is transferred to the exposure unit 3. It is sent onto the work stage 10 shown in FIGS. 1 and 2 provided and held by vacuum suction. Then, after the alignment is completed, the mask pattern is transferred to the area where the belt-like workpiece W is formed. The strip-shaped workpiece W is sequentially conveyed to the workpiece stage 10 and exposed, and after the exposure, the strip-shaped workpiece W is wound around the winding roll 2.
図１、図２に示すように、本実施例のワークステージ１０は、露光時、帯状ワークＷの露光される領域が載置される第１のステージ（露光ステージ）１０ａと、帯状ワークＷの搬送方向上流側と下流側に設けられ、露光される領域外の部分が載置される第２のステージ（補助ステージ）１０ｂから構成される。
なお、第１のステージ１０ａと第２のステージ１０ｂは、同一平面の一体のステージから構成することができ、第１のステージ１０ａと第２のステージ１０ｂは真空供給系を異にするだけで、上方から見た外観は同じである。また、第１のステージ１０ａには帯状ワークＷの露光される領域が載置されるので、第１のステージ１０ａの大きさは前記図７に示したワークステージとほぼ同じであり、本実施例のワークステージ１０は、上記第２のステージ１０ｂの分だけ、従来のワークステージより帯状ワークＷの搬送方向に長い。
As shown in FIGS. 1 and 2, the work stage 10 of the present embodiment includes a first stage (exposure stage) 10 a on which an area to be exposed of the strip-shaped workpiece W is placed during exposure, and the strip-shaped workpiece W. The second stage (auxiliary stage) 10b is provided on the upstream side and the downstream side in the transport direction and on which a portion outside the region to be exposed is placed.
Note that the first stage 10a and the second stage 10b can be composed of an integral stage on the same plane, and the first stage 10a and the second stage 10b are different only in the vacuum supply system. The appearance seen from above is the same. In addition, since the exposed area of the strip-shaped workpiece W is placed on the first stage 10a, the size of the first stage 10a is substantially the same as the workpiece stage shown in FIG. The work stage 10 is longer in the conveying direction of the belt-like work W than the conventional work stage by the amount of the second stage 10b.
第１のステージ（露光ステージ）１０ａの断面構造は、図１に示すように、従来のワークステージと同様の構造である。
内部には真空供給室１１ａが、また、表面には多数の真空吸着孔（第１の孔群）１３ａが設けられており、真空供給室１１ａには真空ポンプ１２ａからの第１の真空供給系１６ａが接続されている。第１の真空供給系１６ａにはワークＷの吸着を検出する真空センサ１４と第１のステージ１０ａに真空を供給する第１の電磁弁１５ａが取りつけられている。真空センサ１４は、前記したように上記真空供給系の圧力を検出し、この圧力が設定された閾値圧力よりも低い場合はＯＮ信号を、高い場合はＯＦＦ信号を、露光装置の制御部３０に送る。制御部３０は、ＯＮ信号が入力されると、ワークステージ１０表面にワークＷが吸着されたと認識し、露光装置は露光のための次の動作、例えばマスクＭとワークＷの位置合せ動作や実際の露光動作に移る。
第１のステージ１０ａの帯状ワーク搬送方向の上流側、下流側には、第２のステージ（補助ステージ）１０ｂが設けられている。
第２のステージ１０ｂの断面構造も、第１のステージ１０ａの断面構造と同様であり、内部には真空供給室１１ｂが、表面には多数の真空吸着孔（第２の孔群）１３ｂが設けられており、真空供給室１１ｂには真空ポンプ１２ｂからの第２の真空供給系１６ｂが接続される。第２の真空供給系１６ｂには第２の電磁弁１５ｂが取りつけられているが真空センサを設ける必要はない。
The cross-sectional structure of the first stage (exposure stage) 10a is the same as that of a conventional work stage as shown in FIG.
A vacuum supply chamber 11a is provided inside, and a number of vacuum suction holes (first hole group) 13a are provided on the surface, and a first vacuum supply system from a vacuum pump 12a is provided in the vacuum supply chamber 11a. 16a is connected. The first vacuum supply system 16a is provided with a vacuum sensor 14 for detecting the adsorption of the workpiece W and a first electromagnetic valve 15a for supplying a vacuum to the first stage 10a. As described above, the vacuum sensor 14 detects the pressure of the vacuum supply system, and when the pressure is lower than a set threshold pressure, the vacuum sensor 14 sends an ON signal to the
A second stage (auxiliary stage) 10b is provided on the upstream side and the downstream side of the first stage 10a in the belt-shaped workpiece conveyance direction.
The cross-sectional structure of the second stage 10b is the same as that of the first stage 10a. A vacuum supply chamber 11b is provided inside, and a number of vacuum suction holes (second hole group) 13b are provided on the surface. The second vacuum supply system 16b from the vacuum pump 12b is connected to the vacuum supply chamber 11b. Although the second electromagnetic valve 15b is attached to the second vacuum supply system 16b, it is not necessary to provide a vacuum sensor.
ここで、第１のステージ１０ａに真空を供給する第１の真空供給系１６ａと、第２のステージ１０ｂに真空を供給する第２真空供給系１６ｂとは、独立した別個の系統であり、第１の真空供給系１６ａは第１の真空ポンプ１２ａに接続され、第２の真空供給系１６ｂは第２の真空ポンプ１２ｂに接続されている。
したがって、第２の真空供給系１６ｂの圧力変動が変動しても、そのことによって第１の真空供給系１６ａの圧力が変化することはない。
上記の「独立した別個の系統」とは、一方の真空供給系の圧力変動が、他方の圧力に影響を与えないという意味である。同図では真空ポンプを２台用いて完全に別の系統にしているが、例えば、工場のような大容量の、圧力変動のない真空供給ラインであれば、同じ真空供給ラインに接続しても問題ない。
Here, the first vacuum supply system 16a for supplying a vacuum to the first stage 10a and the second vacuum supply system 16b for supplying a vacuum to the second stage 10b are independent and separate systems. One vacuum supply system 16a is connected to the first vacuum pump 12a, and the second vacuum supply system 16b is connected to the second vacuum pump 12b.
Therefore, even if the pressure fluctuation of the second vacuum supply system 16b fluctuates, the pressure of the first vacuum supply system 16a does not change.
The above "independent separate system" means that the pressure fluctuation of one vacuum supply system does not affect the pressure of the other. In this figure, two vacuum pumps are used to completely separate the system. For example, if the vacuum supply line has a large capacity and no pressure fluctuation as in a factory, it can be connected to the same vacuum supply line. no problem.
上記ワークステージ１０の帯状ワーク幅方向両側（図１の紙面前後方向）には、帯状ワークＷの幅方向両側からのリークを防ぐため、前記した帯状ワークのエッジ部分をおさえるワークおさえ機構２０が設けられている。
図３に上記ワークおさえ機構の構成例を示す。
ワークおさえ機構２０は、同図に示すように、ワークステージ１０の両側に取り付けられたフレーム２５上に設けられ、帯状ワークＷのエッジ部分をおさえるワークおさえ部２１と、このワークおさえ部２１を駆動するワークおさえ部駆動部２２から構成される。
ワークおさえ部駆動部２２は、上記ワークおさえ部２１に連結されたＬ字部材２３と、このＬ字部材２３を駆動するエアシリンダ２４を備える。
ワークおさえ部２１は上記ワークおさえ部駆動部２２により駆動され、同図に示すように帯状ワークＷの露光される領域が露光位置まで搬送されてくると、帯状ワークＷのパーフォレーションホールＰＨが設けられたエッジ部分を上からおさえ付け、ワークステージ１０に押し付ける。なお、ワークＷには、ワークＷの位置合わせのためのワークマークＷＡＭが設けられており、このワークマークＷＡＭを逃げるため、ワークおさえ部２１には切り欠き部２１ａが設けられている。
図４は、上記ワークおさえ機構２０の動作を説明する図である。同図（ａ）に示すように、ワークＷのエッジ部分をおさえていない状態では、エアシリンダ２４のシャフト２４ａは後退しており、ワークおさえ部２１は、ワークステージ１０から離間している。
エアシリンダ２４が駆動され、シャフト２４ａが前進すると、同図（ｂ）に示すように、シャフト２４ａによりＬ字部材２３がシャフト２４ａにより押されて、軸２３ａを中心に回転し、ワークおさえ部２１が、帯状ワークＷのエッジ部分をワークステージ１０に押さえつける。
In order to prevent leakage from both sides in the width direction of the belt-like workpiece W, workpiece holding mechanisms 20 for holding the edge portions of the belt-like workpiece are provided on both sides of the workpiece stage 10 in the width direction of the belt-like workpiece (in the longitudinal direction in FIG. 1). It has been.
FIG. 3 shows a configuration example of the workpiece holding mechanism.
As shown in the figure, the work presser mechanism 20 is provided on a frame 25 attached to both sides of the work stage 10, and a work presser part 21 that holds the edge part of the belt-like work W, and drives the work presser part 21. The work presser part drive unit 22 is configured.
The work presser part drive unit 22 includes an L-shaped member 23 connected to the work presser part 21 and an air cylinder 24 that drives the L-shaped member 23.
When the work holding unit 21 is driven by the work holding unit driving unit 22 and the exposed area of the belt-like workpiece W is transported to the exposure position as shown in the figure, a perforation hole PH for the belt-like workpiece W is provided. The edge portion is pressed from above and pressed against the work stage 10. The workpiece W is provided with a workpiece mark WAM for positioning the workpiece W, and the workpiece holder 21 is provided with a notch 21a to escape the workpiece mark WAM.
FIG. 4 is a diagram for explaining the operation of the workpiece holding mechanism 20. As shown in FIG. 5A, in a state where the edge portion of the workpiece W is not held, the shaft 24a of the air cylinder 24 is retracted, and the workpiece holding portion 21 is separated from the workpiece stage 10.
When the air cylinder 24 is driven and the shaft 24a moves forward, the L-shaped member 23 is pushed by the shaft 24a by the shaft 24a and rotates about the shaft 23a, as shown in FIG. However, the edge portion of the belt-like workpiece W is pressed against the workpiece stage 10.
次に、帯状ワークが、第１のステージ１０ａと第２のステージ１０ｂに吸着される際の動作について、前記図１〜図３により説明する。
(1) 帯状ワークＷがワークステージ１０上に搬送され、その回に露光を行なう領域がワークステージ１０の第１のステージ１０ａ上に置かれる。ワークの幅方向のエッジ部分が、図３に示したワーク押え機構２０によって、ワークステージ１０に押さえつけられる。
(2) 図１に示す第１の電磁弁１５ａと第２の電磁弁１５ｂが動作し、第１のステージ１０ａと第２のステージ１０ｂに真空が供給される。
(3) ワークＷの露光される領域（の裏面側）が第１のステージ１０ａに吸着される。また、露光領域に対しワーク長手方向の搬送方向上流側と下流側の領域も、第２のステージ１０ｂによって、図１の点線に示す状態から同図の矢印に示すように第２のステージ１０ｂ側に引き寄せられる。
Next, the operation when the belt-like workpiece is attracted to the first stage 10a and the second stage 10b will be described with reference to FIGS.
(1) The belt-like workpiece W is conveyed onto the workpiece stage 10, and an area to be exposed at that time is placed on the first stage 10 a of the workpiece stage 10. Edge portions in the width direction of the workpiece are pressed against the workpiece stage 10 by the workpiece pressing mechanism 20 shown in FIG.
(2) The first solenoid valve 15a and the second solenoid valve 15b shown in FIG. 1 operate, and a vacuum is supplied to the first stage 10a and the second stage 10b.
(3) The exposed area (the back side) of the workpiece W is attracted to the first stage 10a. Further, the upstream and downstream regions in the conveyance direction in the longitudinal direction of the workpiece with respect to the exposure region are also moved by the second stage 10b from the state indicated by the dotted line in FIG. 1 to the second stage 10b side as indicated by the arrow in FIG. Be drawn to.
(4）第２のステージ１０ｂにおいて、帯状ワークＷは、リークがある状態で吸引される。このときの状態は、前記図８に示したのと同様の状態である。すなわち、図３に示したワークおさえ部２１により、ワークＷのエッジ部分をワークステージ１０に押しつけても、しわの部分はワークステージ１０に対して浮いたままとなり、この部分からリークが生じている。
しかし、第２のステージ１０ｂの外側では、しわは多少残るものの、内側、即ち露光される領域の方向に近づくに従い、第２のステージ１０ｂの表面に沿って矯正されて、概ね平面になる。
(5) これにより、第１のステージ１０ａで吸着される露光される領域の、従来しわが発生しリークが生じていた周辺部分において、ワークＷが平面となり、ワークＷと第１のステージ１０ａの間に隙間ができず、ワークＷは第１のステージ１０ａにリークなく吸着される。
(6) このため、第１の真空供給系１６ａはリークなく減圧されて圧力が下がり、真空センサ１４がＯＮ信号を制御部３０に出力する。
制御部３０は真空センサ１４からの信号に基づき、第１のステージ１０ａにワークＷの露光される領域が吸着され、投影レンズ５（前記図５参照）の結像位置において平面に保持したことを認識し、装置は露光のための次の動作、例えばマスクとワークの位置合せ動作や露光動作に移ることができる。
(4) In the second stage 10b, the belt-like workpiece W is sucked in a leaky state. The state at this time is the same as that shown in FIG. That is, even if the edge portion of the workpiece W is pressed against the workpiece stage 10 by the workpiece holding portion 21 shown in FIG. 3, the wrinkle portion remains floating with respect to the workpiece stage 10, and leakage occurs from this portion. .
However, some wrinkles remain on the outside of the second stage 10b. However, as it approaches the inside, that is, the direction of the region to be exposed, the wrinkles are corrected along the surface of the second stage 10b and become substantially flat.
(5) Thereby, the work W becomes a flat surface in the exposed area attracted by the first stage 10a in the peripheral portion where the wrinkle has been generated and the leak has occurred, and the work W and the first stage 10a There is no gap between them, and the workpiece W is adsorbed to the first stage 10a without leakage.
(6) For this reason, the first vacuum supply system 16 a is decompressed without leakage and the pressure is lowered, and the vacuum sensor 14 outputs an ON signal to the
Based on the signal from the vacuum sensor 14, the
ここで、第２のステージ１０ｂにおいては、ワークＷに生じている凹凸によりリークが生じ、第２の真空供給系１６ｂは圧力が下がらなかったり、空気の流れ込みにより変動したりする。
しかし、前記したように、第１の真空供給系１６ａと第２の真空供給系１６ｂは独立した別個の系統であるので、第１の真空供給系１６ａはその影響を受けることなく減圧され、真空センサ１４は、ワークＷの露光される領域が、第１ワークステージ１０ａへ吸着されたことを正しく検出することができる。
なお、第１の電磁弁１５ａと第２の電磁弁１５ｂの動作のタイミングをずらしてもよい。即ち、まず第１の電磁弁１５ａを動作させ、ワークＷを第１のステージ１０ａに吸着させ、次に第２の電磁弁１５ｂを動作させ、第２のステージ１０ｂによりワークＷを吸引する。
このように電磁弁１５ａ，１５ｂを動作させると、凹凸の激しいワークであっても、ワークが露光領域からその周辺部に向かって吸着される。したがって、露光される領域にしわが残るのを防ぐことができ、その結果、真空センサにより保持を検出することができた。
なお、図１、図２においては、第１のステージ１０ａと第２のステージ１０ｂを一体構造としたが、ワークステージと補助吸引ステージを別体としても良い。
Here, in the 2nd stage 10b, a leak arises by the unevenness | corrugation which has generate | occur | produced in the workpiece | work W, and the 2nd vacuum supply system 16b does not fall, or fluctuates by inflow of air.
However, as described above, since the first vacuum supply system 16a and the second vacuum supply system 16b are independent and separate systems, the first vacuum supply system 16a is depressurized without being affected by the vacuum, The sensor 14 can correctly detect that the exposed area of the work W has been attracted to the first work stage 10a.
In addition, you may shift the timing of operation | movement of the 1st solenoid valve 15a and the 2nd solenoid valve 15b. That is, first, the first electromagnetic valve 15a is operated, the work W is attracted to the first stage 10a, then the second electromagnetic valve 15b is operated, and the work W is attracted by the second stage 10b.
When the electromagnetic valves 15a and 15b are operated in this way, even if the workpiece is extremely uneven, the workpiece is attracted from the exposure area toward the periphery thereof. Therefore, wrinkles can be prevented from remaining in the exposed area, and as a result, the holding can be detected by the vacuum sensor.
In FIG. 1 and FIG. 2, the first stage 10a and the second stage 10b are integrated, but the work stage and the auxiliary suction stage may be separated.
１０ ワークステージ
１０ａ 第１のステージ（露光ステージ）
１０ｂ 第２のステージ（補助ステージ）
１１ａ，１１ｂ 真空供給室
１２ａ，１２ｂ 真空ポンプ
１３ａ 第１の孔群
１３ｂ 第２の孔群
１４ 真空センサ
１５ａ，１５ｂ 電磁弁
１６ａ 第１の真空供給系
１６ｂ 第２の真空供給系
２０ ワークおさえ機構
２１ ワークおさえ部
２２ ワークおさえ部駆動部
２３ Ｌ字部材
２４ エアシリンダ
３０ 制御部
10 Work stage 10a First stage (exposure stage)
10b Second stage (auxiliary stage)
11a, 11b Vacuum supply chambers 12a, 12b Vacuum pump 13a First hole group 13b Second hole group 14 Vacuum sensor 15a, 15b Electromagnetic valve 16a First vacuum supply system 16b Second vacuum supply system 20 Work holding mechanism 21 Work holding part 22 Work holding part drive part 23 L-shaped member 24
Claims (1)
上記搬送したワークを、ステージに真空吸着して露光する帯状ワークの露光装置において、
上記ステージには、上記ワークの露光される領域を真空吸着するための多数の第１の孔群に加えて、少なくともワーク搬送方向の上流側と下流側の上記第１の孔群が設けられたステージと同一平面の一体のステージ上に、上記露光される領域以外の領域を吸引する第２の孔群が設けられ、
上記第１の孔群と第２の孔群には、それぞれ別個の真空供給系が接続され、
少なくとも第１の孔群に供給される真空供給系には、上記ワークの吸着を検出するセンサが設けられている
ことを特徴とする帯状ワークの露光装置。 Transport the belt-like workpiece intermittently,
In the belt-shaped workpiece exposure apparatus that exposes the conveyed workpiece by vacuum suction on the stage,
The stage is provided with at least the first hole group on the upstream side and the downstream side in the workpiece transfer direction in addition to a large number of first hole groups for vacuum-sucking the exposed area of the workpiece . A second hole group for sucking an area other than the area to be exposed is provided on an integral stage on the same plane as the stage ,
Separate vacuum supply systems are connected to the first hole group and the second hole group,
An apparatus for exposing a strip-shaped workpiece, wherein a sensor for detecting adsorption of the workpiece is provided in at least a vacuum supply system supplied to the first hole group.
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