JP4388815B2 - 薬剤容器用の滅菌トンネル - Google Patents

Description

【０００１】
技術分野：
本発明は、請求項１の上位概念部に記載した形式の、薬剤容器用の滅菌トンネルに関する。
【０００２】
背景技術：
前記形式の、薬剤容器用の滅菌トンネルは、例えばドイツ連邦共和国特許第１９８４６２７７号明細書に基づいて公知である。特に薬剤産業分野においてアンプル、小ボトル、水薬瓶等を滅菌するために使用されるような、前記形式の滅菌トンネルは、容器が搬送される個々のゾーンに、容器周面に沿って層状に上から下へ向かって流動する空気流を供給するための送風機を有している。この場合、循環させられる空気はゾーンに応じて、容器の上位に配置された清浄空気フィルタ（いわゆるＨＥＰＡフィルタ）によって浄化され、かつ加熱装置もしくは冷却装置によって加熱もしくは冷却される。この場合、空気の流動方向に基づいて、容器の加熱もしくは冷却は、容器口の方向から容器底部の方向へ、つまり容器高さにわたって不均等に行われる。この結果、特に容器が比較的肉薄の場合、又は容器の壁厚が異なった寸法の場合、容器にはプレ損傷又は応力亀裂が起こり得る。
【０００３】
更に、滅菌トンネル内に進入する前に、容器に乳剤状物質（例えばシリコーン）でコーティングを施すことが公知である。この事例では、滅菌トンネルは付加的に、容器表面に前記物質を定着させかつ焼き付けるためにも使用される。この場合、フィルタを通して熱空気を循環させるようになっている、従来慣用の滅菌トンネルでは、前記物質の燃え滓によってフィルタに目詰まりが生じ、ひいてはフィルタの耐用寿命が短かくなることがあり得る。
【０００４】
更に、輻射熱発生器（例えば赤外線照射器）のみによって運転される加熱装置を備えた滅菌トンネルも公知である。
【０００５】
発明の開示：
請求項１の特徴部に記載した構成を有する、本発明による薬剤容器用の滅菌トンネルは、従来のものに比べて、容器が熱的に特に損傷されないように処理され、これにより応力亀裂の発生確率が低下させられるという利点を有している。この利点は、本発明によれば、輻射熱を生ぜしめる加熱装置の付加的な使用によって達成される。この加熱装置は容器底部に作用するので、送風装置による熱空気と協働して、容器全高にわたる容器の均等加熱が可能になる。
【０００６】
本発明による薬剤容器用の滅菌トンネルの更なる有利な構成手段は、従属請求項に記載した通りである。
【０００７】
容器底部に対する輻射熱の作用を改善するためには、容器を載せて搬送する搬送装置を、照射線透過性のワイヤ編組ベルトとして形成すると、有利である。
【０００８】
滅菌トンネルを、乳剤状物質をコーティングしかつ焼き付けるためにも使用したい場合には、加熱ゾーンにおいて、輻射熱を生ぜしめる付加的な加熱装置を使用し、該加熱装置が容器の上位もしくは側方に配置されているようにした。このことによって、コーティングプロセス及び焼き付けプロセスは、容器に沿った熱空気による後続のフラッシング処理時には、すでに少なくともほぼ終結されている。これにより、フィルタを通って循環させられる空気中に含まれる燃え滓分は減少される。
【０００９】
更に、応力亀裂に対する容器の感度を低下させるためには、冷却ゾーンにおいて容器口の少なくとも上位に、やはり輻射熱を生ぜしめる加熱装置を設けると、有利である。
【００１０】
発明を実施するための最良の形態：
以下に、本発明の２つの実施例を図面につき詳しく説明する。
【００１１】
図１に概略的に図示した本発明の第１実施例による滅菌トンネル１０は、実質的に、進入ゾーン１１と加熱ゾーン１２と２つの冷却ゾーン１３，１４とから成っている。洗浄機（図示せず）から到来するアンプル、小ボトル、水薬瓶等の薬剤容器１は、進入ゾーン１１において滅菌トンネル１０に供給され、この滅菌トンネル１０の反対側の、冷却ゾーン１４の後方の端部１５で、滅菌トンネル１０から出て、後続の充填機械および閉塞機械（図示せず）において更に処理される。
【００１２】
滅菌トンネル１０の内部で個々のゾーンを通して容器１を搬送するためには、水平方向で殊に連続的に駆動されるエンドレスの搬送ベルト１７が使用される。該搬送ベルト１７は、有利には、特殊鋼から成る空気透過性のワイヤ編組ベルトとして形成されている。
【００１３】
滅菌トンネル１０の諸ゾーンにおいて搬送ベルト１７の上位には、大面積のフィルタエレメント１８，１９，２０が配置されている。該フィルタエレメント１８，１９，２０は送風装置２２，２３，２４と協働しており、該送風装置２２，２３，２４は各ゾーンに配設されていて、それぞれ閉じられた循環路内で空気を循環させるために使用される。送風装置２２，２３，２４によって生ぜしめられる空気流は、容器１が滅菌トンネル１０を通って搬送される間、該容器１に沿っていわゆる層流として実質的に上から下へ（流動矢印２５の方向に）流れ、加熱装置もしくは冷却装置（図示せず）によって温度調整される。このために個々の処理ゾーンには温度センサが配置されており、該温度センサが、計測温度を入力値として滅菌トンネル１０の制御装置に供給する。次いで、該制御装置が加熱装置もしくは冷却装置を適当に制御する。このためには、各ゾーンに配置された給気弁及び排気弁（図示せず）も使用され、該給気弁及び排気弁は、更に、漏れ流損失及び溢流損失を補償するために使用される。個々のゾーン間の前記溢流損失を低下させるためには、ゾーン間及び各ゾーン内に更に、高さ調節可能な仕切ゲート（スルース）２６，２７，２８が付加的に配置されており、該仕切ゲート２６，２７，２８の位置は、各容器高さに適合されている。
【００１４】
容器１の壁面に沿って上から、つまり容器口２から容器底部３の方向へ向かって流れる空気流が送風装置２２，２３，２４によって生ぜしめられることに基づいて、容器全高にわたって不均等な温度分布が生じる。すなわち容器口２は、加熱ゾーン１２の通走時に、容器底部３よりも高い温度を有している。これは、加熱ゾーン１２において熱空気がまず容器口２に接触することに起因する。
【００１５】
容器１の全高にわたって温度分布に所期のように影響を与えられるようにするために、ひいては容器１にプレ損傷を起こし得る熱応力を回避するために、更には容器内壁における乳剤状粒子の焼き付けに良い影響を与えるために、滅菌トンネル１０は特別に形成されている。このために加熱ゾーン１２は隔壁３１によって２つの加熱域３３，３４に分割されており、しかも前記隔壁３１の、搬送ベルト１７寄りの側は、高さ調節可能な中間壁３２として形成されている。一方の加熱域３３には送風装置２２が、加熱された空気流を供給するために設けられているのに対して、進入ゾーン１１寄りの側に配置されている他方の加熱域３４には、輻射熱を生ぜしめる複数の加熱装置３５，３６，３７が配置されている。
【００１６】
本実施例ではロッド状に図示してある、特に赤外線照射器として形成された加熱装置３５，３６，３７は、照射線透過性の搬送ベルト１７の下位で容器底部３の近くに配置されていて、前記搬送ベルト１７の上位で容器口２の近くに配置されていて、かつ場合によっては前記搬送ベルト１７の側方に、該搬送ベルト１７用の不動の又は一緒に走行するサイドガイド３８の外側で前記容器口２の高さレベルに配置されている。しかも本実施例では加熱装置３５，３６は、滅菌トンネル１０を通走する容器１の搬送方向に対して横方向に延在しており、加熱装置３７は、容器１の搬送方向に対して長手方向に延在している。更に加熱域３４には、少なくとも１つの温度センサ３９が配置されており、該温度センサ３９は、滅菌トンネル１０の制御装置に連結されている。
【００１７】
加熱装置３５，３６，３７は適用例に応じて、空気流による加熱域３３の後続のさらなる加熱に際して容器１における熱応力を回避するために、特定の容器域、例えば容器底部３を、狙い通りに、より強く予熱することを可能にする。この場合、容器底部３寄りの加熱装置３５は、その他の加熱装置３６，３７よりも高い温度に調節されている。
【００１８】
これに対して、例えば容器１をコーティングするために使用される乳剤状物質（例えばシリコーン）を、すでに加熱域３４において焼き付けておいて、生成可能な燃え滓が、次いで加熱域３３におけるフィルタエレメント１８にかける負荷を、可能な限り僅少にしたい場合には、加熱装置３５，３６，３７の照射熱は、極めてアグレッシブに設定されていてよい。すなわち、最短時間内に加熱装置３５，３６，３７によって、容器１のコーティング成膜のために必要とされる温度が容器１において得られ、該温度が次いで加熱域３３において、場合によっては再び降下せしめられるようにすることも可能である。
【００１９】
図３及び図４に示した第２実施例による滅菌トンネル１０ａの場合、第１実施例による滅菌トンネル１０とは異なって、加熱ゾーン１２では照射線透過性の搬送ベルト１７の下位に付加的な加熱装置３５が配置されていて、滅菌トンネル１０に類似してサイドガイド３８の側方外位に加熱装置３７が配置されているが、容器１の上位に、輻射熱を生ぜしめる加熱装置は配置されていない。むしろ容器１は、加熱ゾーン１２の全域において、送風装置２２によって熱空気で上方から加熱される。この結果、滅菌トンネル１０ａ内には、滅菌トンネル１０のように加熱ゾーン１２を異なった加熱域に分割する隔壁３１は設けられていない。
【００２０】
滅菌トンネル１０ａでは第１冷却ゾーン１３に、やはり輻射熱を生ぜしめる別の加熱装置４０，４１が付加的に配置されている。同じくロッド形に形成されている前記加熱装置４０，４１は、加熱ゾーン１２寄りの側で容器口２の上位に配置されていて、サイドガイド３８の側方外位で容器口２の高さレベルに配置されている。これらの加熱装置４０，４１は、冷却ゾーン１３において加熱装置４０の近くに配置された温度センサ（図示せず）を介して制御され、該温度センサは、滅菌トンネル１０ａの制御装置に連結されている。
【００２１】
加熱ゾーン１２から移送された、比較的に高い温度を有している容器１の冷却を、その容器口２の領域において幾分遅延させることが、加熱装置４０，４１によって可能である。これにより、全体的に見て、容器１の一層均等な冷却が可能になる。したがって、滅菌トンネル１０ａ内で実現される付加的な加熱装置３５，３７，４０，４１の配置形式によって、容器１における熱応力及び熱亀裂を回避するための、容器１の材料を損傷させないような加熱及び冷却が得られる。
【００２２】
本発明の両実施例による滅菌トンネル１０，１０ａは、本発明の核心的思想を逸脱することなしに、多様な形式で改良され得る。前記本発明の核心的思想は、送風装置によって生ぜしめられる空気流と協働して、容器１を均等に加熱するかもしくは均等に冷却するために働く、輻射熱を生ぜしめる付加的な加熱装置を、滅菌トンネル１０内に配置する点にある。したがって例えば、上位及び側方位の加熱装置３６，３７を省くことが考えられる。更に、滅菌トンネル１０は、熱応力に関して容器１を特に損傷させないように処理するために、滅菌トンネル１０ａの冷却ゾーン１３内に位置する加熱装置４０，４１を付加的に有していてよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１実施例による滅菌トンネルの略示縦断面図である。
【図２】 第１実施例による滅菌トンネルの運転時の、図１のＩＩ−ＩＩ平面に沿って断面して示した部分横断面図である。
【図３】 本発明の第２実施例による滅菌トンネルの略示縦断面図である。
【図４】 第２実施例による滅菌トンネルの運転時の、図３のＩＶ−ＩＶ平面に沿って断面して示した部分横断面図である。
【符号の説明】
１ 薬剤容器、２ 容器口、３ 容器底部、１０，１０ａ 滅菌トンネル、１１ 進入ゾーン、１２ 加熱ゾーン、１３，１４ 冷却ゾーン、１５ 後端部、１７ 搬送ベルト、１８，１９，２０ フィルタエレメント、２２，２３，２４ 送風装置、２５ 流れの矢印、２６，２７，２８ 仕切ゲート、３１ 隔壁、３２ 中間壁、３３，３４ 加熱域、３５，３６，３７ 加熱装置、３８ サイドガイド、３９ 温度センサ、４０，４１ 加熱装置

Claims (6)

1. 薬剤容器（１）用の滅菌トンネル（１０；１０ａ）であって、１つの加熱ゾーン（１２）と少なくとも１つの冷却ゾーン（１３，１４）とに沿って容器（１）を搬送する搬送装置（１７）が設けられており、加熱ゾーン（１２）と少なくとも１つの冷却ゾーン（１３，１４）とに、容器（１）の周面をフラッシングする空気流を生ぜしめるための送風装置（２２，２３，２４）が設けられている形式のものにおいて、加熱ゾーン（１２）が、加熱ゾーン（１２）を第１の領域（３３）と、容器（１）の搬送方向に関して前記第１の領域（３３）の上流に配置されている第２の領域（３４）とに分割する隔壁（３１）を有しており、第１の領域（３３）が、容器（１）に沿って上から下へ流れ、加熱装置により加熱される空気流を生ぜしめる送風装置（２２）を有しており、第２の領域（３４）が、輻射熱を生ぜしめ、容器底部（３）に作用する少なくとも１つの別の加熱装置（３５）を有していることを特徴とする、薬剤容器用の滅菌トンネル。
2. 搬送装置（１７）が、照射線透過性のワイヤ編組ベルトとして形成されており、前記別の加熱装置（３５）が、搬送装置（１７）の、容器（１）とは反対の側に配置されている、請求項１記載の滅菌トンネル。
3. 第２の領域（３４）において容器（１）の上位もしくは側方位に、輻射熱を生ぜしめるさらに別の加熱装置（３６，３７）が配置されている、請求項１または２記載の滅菌トンネル。
4. 冷却ゾーン（１３，１４）の領域における、加熱ゾーン（１２）寄りの側に付加的に、輻射熱を生ぜしめる少なくとも１つの付加的な加熱装置（４０）が配置されている、請求項１から３までのいずれか１項記載の滅菌トンネル。
5. 前記少なくとも１つの付加的な加熱装置（４０）が、容器（１）の上位に配置されている、請求項４記載の滅菌トンネル。
6. 前記別の加熱装置（３５）の領域に、温度センサ（３９）が配置されており、該温度センサ（３９）が、滅菌トンネル（１０）の制御装置と協働するようになっている、請求項１から５までのいずれか１項記載の滅菌トンネル。

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