CN103170000A - 一种气体过滤杀菌装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种气体过滤杀菌装置，包括杀菌装置本体，其特征在于：所述杀菌装置本体通过底部的支架固定，所述杀菌装置本体顶部设有入气口，所述杀菌装置本体底部设有出气口，所述杀菌装置本体内部设有加温室、高温杀菌室和冷却室，所述加温室、高温杀菌室和冷却室从上至下依次放置，所述加温室外围设有加温腔体，所述加温腔体内设有低温加热管，所述高温杀菌室周边设有高温杀菌腔体，所述高温杀菌腔体内设有高温照射装置，所述冷却室周边设有冷却腔体，所述冷却腔体内设有循环冷却管。本发明的优点是：杀菌效果好，整体结构简单，操作方便，投入成本低，收益高，适用于气体的过滤杀菌使用。

Description

一种气体过滤杀菌装置
技术领域
本发明涉及杀菌设备技术领域，尤其涉及一种气体过滤杀菌装置。
背景技术
目前，用于气体净化处理的设备，大多数均是采用过滤和净化为主，而对空气中携带的细菌无法完全去除，因此，在某些特殊的化学实验或药品制作过程中，气体中的细菌将直接影响了整个实验或药品的制作条件，导致了实验结果不准确，生产出的药品性能不能达到所需的标准，这样造成操作中大量的原材料的浪费。
因此，急需一种改进的技术来解决现有技术中所存在的这一问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种气体过滤杀菌装置。
本发明采用的技术方案是：
一种气体过滤杀菌装置，包括杀菌装置本体，所述杀菌装置本体通过底部的支架固定，所述杀菌装置本体顶部设有入气口，所述杀菌装置本体底部设有出气口，所述杀菌装置本体内部设有加温室、高温杀菌室和冷却室，所述加温室、高温杀菌室和冷却室从上至下依次放置，所述加温室外围设有加温腔体，所述加温腔体内设有低温加热管，所述高温杀菌室周边设有高温杀菌腔体，所述高温杀菌腔体内设有高温照射装置，所述冷却室周边设有冷却腔体，所述冷却腔体内设有循环冷却管。
所述循环冷却管顶部冷却腔体上设有循环冷却管入口，所述循环冷却管底部冷却腔体上设有循环冷却管出口。
所述加温室和高温杀菌室之间、高温杀菌室和冷却室之间设有隔板。
所述隔板为高密度隔板。
本发明的优点是：杀菌效果好，整体结构简单，操作方便，投入成本低，收益高，适用于气体的过滤杀菌使用。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
图1为本发明的结构示意图。
其中：1、杀菌装置本体，2、支架，3、入气口，4、出气口，5、加温室，6、高温杀菌室，7、冷却室，8、加温腔体，9、低温加热管，10、高温杀菌腔体，11、高温照射装置，12、冷却腔体，13、循环冷却管，14、循环冷却管入口，15、循环冷却管出口，16、隔板。
具体实施方式
如图1所示，本发明的一种气体过滤杀菌装置，包括杀菌装置本体1，所述杀菌装置本体1通过底部的支架2固定，所述杀菌装置本体1顶部设有入气口3，所述杀菌装置本体1底部设有出气口4，所述杀菌装置本体1内部设有加温室5、高温杀菌室6和冷却室7，所述加温室5、高温杀菌室6和冷却室7从上至下依次放置，所述加温室5外围设有加温腔体8，所述加温腔体8内设有低温加热管9，所述高温杀菌室6周边设有高温杀菌腔体10，所述高温杀菌腔体10内设有高温照射装置11，所述冷却室7周边设有冷却腔体12，所述冷却腔体12内设有循环冷却管13，所述循环冷却管13顶部冷却腔体上设有循环冷却管入口14，所述循环冷却管13底部冷却腔体上设有循环冷却管出口15，所述加温室5和高温杀菌室6之间、高温杀菌室6和冷却室7之间设有隔板16，所述隔板16为高密度隔板，杀菌效果好，整体结构简单，操作方便，投入成本低，收益高，适用于气体的过滤杀菌使用。 

Claims (4)

1.一种气体过滤杀菌装置，包括杀菌装置本体，其特征在于：所述杀菌装置本体通过底部的支架固定，所述杀菌装置本体顶部设有入气口，所述杀菌装置本体底部设有出气口，所述杀菌装置本体内部设有加温室、高温杀菌室和冷却室，所述加温室、高温杀菌室和冷却室从上至下依次放置，所述加温室外围设有加温腔体，所述加温腔体内设有低温加热管，所述高温杀菌室周边设有高温杀菌腔体，所述高温杀菌腔体内设有高温照射装置，所述冷却室周边设有冷却腔体，所述冷却腔体内设有循环冷却管。
2.根据权利要求1所述的一种气体过滤杀菌装置，其特征在于：所述循环冷却管顶部冷却腔体上设有循环冷却管入口，所述循环冷却管底部冷却腔体上设有循环冷却管出口。
3.根据权利要求1所述的一种气体过滤杀菌装置，其特征在于：所述加温室和高温杀菌室之间、高温杀菌室和冷却室之间设有隔板。
4.根据权利要求3所述的一种气体过滤杀菌装置，其特征在于：所述隔板为高密度隔板。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
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WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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