JP4376807B2 - 位置合わせ後のウェハ滑りを減じることによるオーバーレイ修正 - Google Patents
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Description
Claims (23)
- ウェハチャックを有するリソグラフィシステムにおいてウェハ滑りを低減する方法において:
a.ウェハとウェハチャックとの間に境界面を形成するようにウェハをウェハチャックに取り付けて締付け固定し、
b.ウェハとウェハチャックとの間の境界面における摩擦力より小さい外向きの初期応力を締付け固定したウェハに形成するようにウェハチャックを膨張させ、
c.その状態でウェハとチャックとをウェハステージに整列させ、
d.ウェハを放射源に対して曝したときに生じる初期応力とは反対方向の膨張応力を相殺することを特徴とする、ウェハ滑りを低減する方法。 - 前記初期応力が、前記露光ステップ中にウェハの滑りを防止するために十分である、請求項1記載の方法。
- 前記膨張させるステップが、ウェハチャックに取り付けられた環状リングを加圧することを含む、請求項2記載の方法。
- 前記膨張させるステップが、ウェハチャックから外向きの方向にウェハチャックに力を加えることを含む、請求項2記載の方法。
- 前記膨張させるステップが、ウェハチャックを加熱することを含む、請求項2記載の方法。
- 前記膨張させるステップが、ウェハチャックを均一に全ての方向に膨張させる、請求項2記載の方法。
- 真空中でリソグラフィを行う方法において:
a.ウェハとウェハチャックとの間に境界面を形成するようにウェハをウェハチャックに取り付けて締付け固定し、
b.ウェハをウェハチャックに対して整列させ、
c.ウェハとウェハチャックとの間の境界面における摩擦力より小さい外向きの初期応力を締付け固定したウェハに形成するように前記ウェハチャックを膨張させ、
d.前記ウェハを放射源に曝し、
前記ウェハと前記ウェハチャックとの間の境界面における前記初期応力により、前記露光ステップ中に生じる前記初期応力とは反対方向の膨張応力を相殺して前記ウェハの滑りを防止することを特徴とする、真空中でリソグラフィを行う方法。 - 前記膨張させるステップが、前記ウェハチャックを加熱することを含む、請求項7記載の方法。
- 前記膨張させるステップが、前記ウェハチャックの縁部に力を加えることを含み、前記力が、前記ウェハチャックに対して外向きである、請求項7記載の方法。
- 前記曝すステップが前記ウェハを膨張させる、請求項7記載の方法。
- ウェハチャックを有するリソグラフィシステムにおいてオーバーレイを低減する方法において:
a.ウェハの寸法を半径方向外向きに膨張させるようにウェハを加熱し、
b.膨張したウェハをウェハチャックに取り付けて締付け固定し、
c.ウェハを冷却し、ウェハの寸法を収縮させ、ウェハとウェハチャックとの間の境界面における摩擦力より小さい外向きの初期応力をウェハに形成し、露光ステップ中に生じる前記初期応力とは反対方向の膨張応力を相殺しての前記ウェハの滑りを防止することを特徴とする、オーバーレイを低減する方法。 - リソグラフィシステムにおいて、
a.ウェハを収容して締付け固定するように構成されたウェハチャックが設けられており、
b.ウェハチャックを膨張させかつウェハとウェハチャックとの間の境界面における摩擦力より外向きの初期応力を形成し、露光ステップ中に生じる前記初期応力とは反対方向の膨張応力を相殺しての前記ウェハの滑りを防止するようにウェハチャックに結合された膨張装置が設けられていることを特徴とする、リソグラフィシステム。 - 前記膨張装置が、前記ウェハチャックに結合された環状リングを含んでいる、請求項12記載のシステム。
- 前記環状リングが、前記ウェハチャックの外縁部に結合されている、請求項13記載のシステム。
- 前記環状リングが、前記ウェハチャックに設けられたキャビティ内に取り付けられている、請求項13記載のシステム。
- 前記膨張装置に、
前記ウェハチャックに取り付けられた複数の力アクチュエータが設けられており、
該複数の力アクチュエータが、前記ウェハチャックを伸長させるように構成されている、請求項12記載のシステム。 - 前記複数の力アクチュエータが、前記ウェハチャックの周囲に均一に分散されている、請求項16記載のシステム。
- 前記膨張装置が、前記ウェハチャックを加熱するように構成されたヒータを含んでいる、請求項12記載のシステム。
- 前記ヒータが、前記ウェハチャックと接触するように配置された接触式ヒータである、請求項18記載のシステム。
- 前記ヒータが、前記ウェハチャックから離れて配置された近接ヒータである、請求項18記載のシステム。
- 前記ヒータが、前記ウェハチャックに電流を流すために前記ウェハチャックに結合された電流源を含んでいる、請求項18記載のシステム。
- 前記ヒータが、電磁放射によって前記ウェハチャックを加熱する、請求項18記載のシステム。
- 前記膨張装置が、前記ウェハチャックを均一に膨張させるように構成されている、請求項12記載のシステム。
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