JP2001079754A - ウェーハ研磨装置およびウェーハ研磨方法 - Google Patents
ウェーハ研磨装置およびウェーハ研磨方法Info
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- JP2001079754A JP2001079754A JP2000132697A JP2000132697A JP2001079754A JP 2001079754 A JP2001079754 A JP 2001079754A JP 2000132697 A JP2000132697 A JP 2000132697A JP 2000132697 A JP2000132697 A JP 2000132697A JP 2001079754 A JP2001079754 A JP 2001079754A
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- wafer
- polishing
- carrier
- center
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体ウェーハの表面に対して、均一な研磨
作用が得られるようにする。 【解決手段】 半導体基板を押圧するキャリアの下面
に、膨張収縮が容易な配管部材を固定し、配管部材に流
体を注入することにより、ウェーハの各部分に独立に制
御された加重をかける。これにより、ウェーハの曲率コ
ントロールが可能となり、ウェーハ表面に対する均一な
研磨作用が実現する。
作用が得られるようにする。 【解決手段】 半導体基板を押圧するキャリアの下面
に、膨張収縮が容易な配管部材を固定し、配管部材に流
体を注入することにより、ウェーハの各部分に独立に制
御された加重をかける。これにより、ウェーハの曲率コ
ントロールが可能となり、ウェーハ表面に対する均一な
研磨作用が実現する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板（以
下、適宜ウェーハと称する）などの研磨装置及び研磨方
法に関する。さらに詳しくは、ウェーハの表面に対して
均一な研磨作用が得られるようにした研磨装置および方
法に関するものである。
下、適宜ウェーハと称する）などの研磨装置及び研磨方
法に関する。さらに詳しくは、ウェーハの表面に対して
均一な研磨作用が得られるようにした研磨装置および方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、ウェーハの化学機械研磨におい
ては、キャリアと回転テーブルの間にウェーハが挿入さ
れ、キャリアと回転テーブルを同時に回転させ、スラリ
ーを送り込み、研磨を行う。図４は、このような従来の
半導体基板の研磨装置の例を示す断面図である。図４に
示すように、従来の研磨装置では、表面をクロス１１で
覆われたターンテーブル１２が下側に位置している。そ
の上に、ウェーハ１３が載せられる。その上から、マッ
ト１４を介して、キャリア１５によりウェーハ１３を加
圧しながら回転させる。クロス１２とウェーハ１３との
間にはスラリ１６が供給され、ウェーハ１３の表面加工
が行われる。
ては、キャリアと回転テーブルの間にウェーハが挿入さ
れ、キャリアと回転テーブルを同時に回転させ、スラリ
ーを送り込み、研磨を行う。図４は、このような従来の
半導体基板の研磨装置の例を示す断面図である。図４に
示すように、従来の研磨装置では、表面をクロス１１で
覆われたターンテーブル１２が下側に位置している。そ
の上に、ウェーハ１３が載せられる。その上から、マッ
ト１４を介して、キャリア１５によりウェーハ１３を加
圧しながら回転させる。クロス１２とウェーハ１３との
間にはスラリ１６が供給され、ウェーハ１３の表面加工
が行われる。
【０００３】このように、ウェーハ１３は、剛体により
形成されたキャリア１５に保持され、研磨時はスピンド
ルからの加重がキャリア１５を介してウェーハ１３へと
伝達される。このようにして、ウェーハ１３の表面から
は、研磨作用により材料が取り除かれる。
形成されたキャリア１５に保持され、研磨時はスピンド
ルからの加重がキャリア１５を介してウェーハ１３へと
伝達される。このようにして、ウェーハ１３の表面から
は、研磨作用により材料が取り除かれる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課頴】しかし前記のような従
来の方法では、ウェーハに生じたソリの影響によりウェ
ーハ面内への均一な加重が得られず、ウェーハ表面の均
一な研磨作用が得られなかった。本発明は上述のような
課題に鑑みてなされたもので、ウェーハの反りに影響さ
れず、ウェーハ表面の均一な加工ができるようにした研
磨装置および研磨方法を得ることを目的とする。さらに
詳しくは、スピンドルからの加重と新たに独立に異なる
部分からの加重を作用させることによりウェーハの曲率
を変え、ウェーハ表面の研磨作用が均一に行われるよう
にするものである。
来の方法では、ウェーハに生じたソリの影響によりウェ
ーハ面内への均一な加重が得られず、ウェーハ表面の均
一な研磨作用が得られなかった。本発明は上述のような
課題に鑑みてなされたもので、ウェーハの反りに影響さ
れず、ウェーハ表面の均一な加工ができるようにした研
磨装置および研磨方法を得ることを目的とする。さらに
詳しくは、スピンドルからの加重と新たに独立に異なる
部分からの加重を作用させることによりウェーハの曲率
を変え、ウェーハ表面の研磨作用が均一に行われるよう
にするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手投】本発明のウェーハ研磨装
置は、研磨布で覆われた回転テーブルと、この回転テー
ブルに対向し、この回転テーブルとの間に配置される１
葉のウェーハのほぼ中心に、その中心が位置するように
して上記ウェーハを加圧して回転させるキャリアと、上
記キャリアが上記ウェーハを加圧する面に装着され独立
して膨張収縮の制御可能な複数の膨張部材を備え、上記
膨張部材を介して上記ウェーハへの加圧力を調整し、上
記ウェーハと上記研磨布との間に研磨剤を供給して上記
ウェーハを研磨するようにしたものである。これによ
り、ウェーハの曲率コントロールが可能となり、ウェー
ハ表面に対する均一な研磨作用が実現できる。
置は、研磨布で覆われた回転テーブルと、この回転テー
ブルに対向し、この回転テーブルとの間に配置される１
葉のウェーハのほぼ中心に、その中心が位置するように
して上記ウェーハを加圧して回転させるキャリアと、上
記キャリアが上記ウェーハを加圧する面に装着され独立
して膨張収縮の制御可能な複数の膨張部材を備え、上記
膨張部材を介して上記ウェーハへの加圧力を調整し、上
記ウェーハと上記研磨布との間に研磨剤を供給して上記
ウェーハを研磨するようにしたものである。これによ
り、ウェーハの曲率コントロールが可能となり、ウェー
ハ表面に対する均一な研磨作用が実現できる。
【０００６】また、本発明のウェーハ研磨装置は、好ま
しくは、上記膨張部材として、膨張収縮の制御可能な管
状部材を用いる。また、好ましくは、上記複数の管状部
材をほぼ同心のリング状に配置する。また、好ましく
は、上記複数の管状部材にそれぞれ独立に流体を加圧注
入することにより上記管状部材の加圧力をそれぞれ制御
する。上記流体として液体または気体を用いる。
しくは、上記膨張部材として、膨張収縮の制御可能な管
状部材を用いる。また、好ましくは、上記複数の管状部
材をほぼ同心のリング状に配置する。また、好ましく
は、上記複数の管状部材にそれぞれ独立に流体を加圧注
入することにより上記管状部材の加圧力をそれぞれ制御
する。上記流体として液体または気体を用いる。
【０００７】また、本発明のウェーハ研磨方法は、研磨
布で覆われた回転テーブルと、この回転テーブルに対向
して配置され、この回転テーブルとの間に配置される１
葉のウェーハのほぼ中心に、その中心が位置するように
して上記ウェーハを加圧して回転させるキャリアを備
え、上記キャリアが上記ウェーハを押圧する面に独立し
て膨張収縮の制御可能な複数の膨張部材を装着し、この
膨張部材を介して上記ウェーハへの加圧力を調整し、上
記ウェーハと上記研磨布との間に研磨剤を供給して上記
ウェーハを研磨するするようにしたものである。また、
本発明のウェーハ研磨方法は、研磨布で覆われた回転テ
ーブルとこれに対向したキャリアとの間に１葉のウェー
ハを配置し、上記キャリアの中心と上記ウェーハの中心
とをほぼ一致させるようにし、上記キャリアが上記ウェ
ーハを押圧する加圧力を上記ウェーハ面内の位置により
調整しつつ上記キャリアにより上記ウェーハを加圧して
回転させ、上記ウェーハと上記研磨布との間に研磨剤を
供給して上記ウェーハを研磨するようにしたものであ
る。このような本発明の方法によれば、ウェーハの曲率
コントロールが可能となり、ウェーハ表面に対する均一
な研磨作用が実現できる。
布で覆われた回転テーブルと、この回転テーブルに対向
して配置され、この回転テーブルとの間に配置される１
葉のウェーハのほぼ中心に、その中心が位置するように
して上記ウェーハを加圧して回転させるキャリアを備
え、上記キャリアが上記ウェーハを押圧する面に独立し
て膨張収縮の制御可能な複数の膨張部材を装着し、この
膨張部材を介して上記ウェーハへの加圧力を調整し、上
記ウェーハと上記研磨布との間に研磨剤を供給して上記
ウェーハを研磨するするようにしたものである。また、
本発明のウェーハ研磨方法は、研磨布で覆われた回転テ
ーブルとこれに対向したキャリアとの間に１葉のウェー
ハを配置し、上記キャリアの中心と上記ウェーハの中心
とをほぼ一致させるようにし、上記キャリアが上記ウェ
ーハを押圧する加圧力を上記ウェーハ面内の位置により
調整しつつ上記キャリアにより上記ウェーハを加圧して
回転させ、上記ウェーハと上記研磨布との間に研磨剤を
供給して上記ウェーハを研磨するようにしたものであ
る。このような本発明の方法によれば、ウェーハの曲率
コントロールが可能となり、ウェーハ表面に対する均一
な研磨作用が実現できる。
【０００８】
【発明の実施の形態】図1〜図３は、本発明の実施の形
態による研磨装置を説明するための図である。図１は、
キャリアの下面に装着した膨張部材を示す平面図、図２
および図３は、この実施の形態のキャリアによりウェー
ハを押圧する状態を示す断面図である。なお、図１は、
図２のキャリアの下面を、下から見上げたときの平面図
である。図１〜３において、１は被研磨剤であるウェー
ハを保持して加圧し回転させるキャリアであり、剛体で
ある。２はキャリア１の下面に固定された可撓性の配管
部材である。３は被研磨材であるウェーハ（半導体基
板）であり、研磨動作時には、１葉のウェーハ３が、研
磨布（クロス）で覆われた回転テーブル（図示省略、図
４参照）の上でキャリア１との間に挟まれて配置され
る。４は配管部材２を覆うように張られた部材で、研磨
動作時にウェーハ３を保持する部材である。ここでは保
持マットと称する。
態による研磨装置を説明するための図である。図１は、
キャリアの下面に装着した膨張部材を示す平面図、図２
および図３は、この実施の形態のキャリアによりウェー
ハを押圧する状態を示す断面図である。なお、図１は、
図２のキャリアの下面を、下から見上げたときの平面図
である。図１〜３において、１は被研磨剤であるウェー
ハを保持して加圧し回転させるキャリアであり、剛体で
ある。２はキャリア１の下面に固定された可撓性の配管
部材である。３は被研磨材であるウェーハ（半導体基
板）であり、研磨動作時には、１葉のウェーハ３が、研
磨布（クロス）で覆われた回転テーブル（図示省略、図
４参照）の上でキャリア１との間に挟まれて配置され
る。４は配管部材２を覆うように張られた部材で、研磨
動作時にウェーハ３を保持する部材である。ここでは保
持マットと称する。
【０００９】さらに詳述すると、この実施の形態では、
図１〜３に示すように、キャリア１をその中心がウェー
ハ３の中心とほぼ一致するようにウェーハ１に対して位
置させる。この位置は、ウェーハ３をどのように研磨す
る必要があるかにより、両者の中心を一致させる場合
と、いくらかずらす場合とがある。キャリア１のウェー
ハ３を押圧する下面には、サークル状の複数の配管部材
２をキャリア１の押圧面の中心点に対して実質的に点対
称な同心円状になるように固定している。これにより１
葉のウェーハ３に対してその面内の位置に応じて加圧力
の分布を調整することができる。なお、図では、配管部
材は、５本であるが、配管部材の数及び太さは任意に設
定可能である。またこの配管部材２は、膨張収縮が可能
な材料、たとえばシリコンチューブなどで作られたもの
である。また、この複数の配管部材２には、内部に液
体、空気などの流体がそれぞれ独立に制御して加圧注入
されるように加減圧装置が付随して設けられている（図
示省略）。配管部材２がウェーハ３を押圧する接触面
は、ウェーハ３の保持機能を有する材料４で覆われてい
る（例えばスエードなどが考えられる）。
図１〜３に示すように、キャリア１をその中心がウェー
ハ３の中心とほぼ一致するようにウェーハ１に対して位
置させる。この位置は、ウェーハ３をどのように研磨す
る必要があるかにより、両者の中心を一致させる場合
と、いくらかずらす場合とがある。キャリア１のウェー
ハ３を押圧する下面には、サークル状の複数の配管部材
２をキャリア１の押圧面の中心点に対して実質的に点対
称な同心円状になるように固定している。これにより１
葉のウェーハ３に対してその面内の位置に応じて加圧力
の分布を調整することができる。なお、図では、配管部
材は、５本であるが、配管部材の数及び太さは任意に設
定可能である。またこの配管部材２は、膨張収縮が可能
な材料、たとえばシリコンチューブなどで作られたもの
である。また、この複数の配管部材２には、内部に液
体、空気などの流体がそれぞれ独立に制御して加圧注入
されるように加減圧装置が付随して設けられている（図
示省略）。配管部材２がウェーハ３を押圧する接触面
は、ウェーハ３の保持機能を有する材料４で覆われてい
る（例えばスエードなどが考えられる）。
【００１０】図２は、反りを持つウェーハを押圧しよう
とする最初の状態を示す断面図である。このウェーハ３
は、その中心部分よりその外周部分の方が、下側に向か
って出ている。言い換えれば、下側に対して中心部分が
へこんでいる。この反りは、環状の場合も鞍状の場合も
ある。いま、図２のように、キャリア１の下面が平面
で、これに装着された配管部材２が均一であるとウェー
ハ３には保持マット３の中心部分でキャリア１から加重
Ｆが作用するが、ウェーハの周辺部分では加重がかから
ない。したがって、このような状態でウェーハ３を研磨
したとき、ウェーハ３のソリによりウェーハ３の表面は
平坦にはならない。
とする最初の状態を示す断面図である。このウェーハ３
は、その中心部分よりその外周部分の方が、下側に向か
って出ている。言い換えれば、下側に対して中心部分が
へこんでいる。この反りは、環状の場合も鞍状の場合も
ある。いま、図２のように、キャリア１の下面が平面
で、これに装着された配管部材２が均一であるとウェー
ハ３には保持マット３の中心部分でキャリア１から加重
Ｆが作用するが、ウェーハの周辺部分では加重がかから
ない。したがって、このような状態でウェーハ３を研磨
したとき、ウェーハ３のソリによりウェーハ３の表面は
平坦にはならない。
【００１１】図３は、この実施の形態によりウェーハ３
を研磨する状態を示す断面図である。図３に示すよう
に、複数の配管部材２に流体（たとえば水やエアー）を
注入し、その量を調整する。中心部分の配管部材２に
は、大きな圧力をかけて膨張させる。周辺の配管部材２
には、比較して小さい圧力をかけ膨張させない。膨張し
た配管部材２の部分では直下へ加重Ｆがかかり、周辺の
未膨張部分では、加重がかからない。すなわち、被研磨
ウェーハ３への加重は、ウェーハ３の反りの状態に応じ
て、あるいは、ウェーハ３の面内での必要な研磨量の分
布に応じて、調整して印加される。このような加重によ
り、ウェーハ３の表面が平坦に強制され、ウェーハ３の
表面の研磨作用が均一に行われる。
を研磨する状態を示す断面図である。図３に示すよう
に、複数の配管部材２に流体（たとえば水やエアー）を
注入し、その量を調整する。中心部分の配管部材２に
は、大きな圧力をかけて膨張させる。周辺の配管部材２
には、比較して小さい圧力をかけ膨張させない。膨張し
た配管部材２の部分では直下へ加重Ｆがかかり、周辺の
未膨張部分では、加重がかからない。すなわち、被研磨
ウェーハ３への加重は、ウェーハ３の反りの状態に応じ
て、あるいは、ウェーハ３の面内での必要な研磨量の分
布に応じて、調整して印加される。このような加重によ
り、ウェーハ３の表面が平坦に強制され、ウェーハ３の
表面の研磨作用が均一に行われる。
【００１２】図３では、ウェーハ３の中心部が上方向に
凸状の場合に、ウェーハ３の中央部の配管部材２の膨張
により、加重がかけられている状態を示した。一方、ウ
ェーハ３が図３に示したものと逆の反りを示している場
合、すなわち、下方向に中心部が凸状になっている場合
には、ウェーハ３の周辺部の加重を増大するようにコン
トロールすれば、逆の曲率を持つウェーハの補正が可能
である。このような加重により、ウェーハ表面が平坦に
強制されウェーハ表面の研磨作用が均一に行われる。な
お、複数の膨張部材２はリング状のものを示したが、そ
の形状は、かならずしもリング状に限られない。要は、
ウェーハの変形に対応して、所定の個所の押圧力を増大
するような望ましい形状あるいは配置を選択しうるもの
である。
凸状の場合に、ウェーハ３の中央部の配管部材２の膨張
により、加重がかけられている状態を示した。一方、ウ
ェーハ３が図３に示したものと逆の反りを示している場
合、すなわち、下方向に中心部が凸状になっている場合
には、ウェーハ３の周辺部の加重を増大するようにコン
トロールすれば、逆の曲率を持つウェーハの補正が可能
である。このような加重により、ウェーハ表面が平坦に
強制されウェーハ表面の研磨作用が均一に行われる。な
お、複数の膨張部材２はリング状のものを示したが、そ
の形状は、かならずしもリング状に限られない。要は、
ウェーハの変形に対応して、所定の個所の押圧力を増大
するような望ましい形状あるいは配置を選択しうるもの
である。
【００１３】以上のように、本発明の研磨装置および研
磨方法は、半導体ウェーハの表面にその所定の位置を基
準に点対称に均一な加工を施すことができるものであ
り、研磨布に対面する回転可能なウェーハ保持部分（キ
ャリア）に、その押圧面の中心点に対して実質的に点対
称になるように、少なくとも２つ以上の膨張収縮可能な
配管部材を備えたキャリア構造を有している。そして、
配管部材に流体を注入し、配管部材の膨張作用により、
ウェーハに独立に制御された加重をかけ、ウェーハの曲
率を変えることを可能にしている。また、各配管部材へ
の膨張収縮作用は、流体の注入量により加減されるが、
各配管部材への流体の注入は独立に行なうことができ
る。また、本発明の研磨装置および研磨方法は、１葉の
ウェーハに対して、ウェーハとキャリアとを適切な位置
関係に配置して研磨することができる。また、１葉のウ
ェーハに対してウェーハ面内の位置に応じて加圧力を調
整できるので、個々のウェーハの反りなどの状況に応じ
た最適な研磨をすることができる。
磨方法は、半導体ウェーハの表面にその所定の位置を基
準に点対称に均一な加工を施すことができるものであ
り、研磨布に対面する回転可能なウェーハ保持部分（キ
ャリア）に、その押圧面の中心点に対して実質的に点対
称になるように、少なくとも２つ以上の膨張収縮可能な
配管部材を備えたキャリア構造を有している。そして、
配管部材に流体を注入し、配管部材の膨張作用により、
ウェーハに独立に制御された加重をかけ、ウェーハの曲
率を変えることを可能にしている。また、各配管部材へ
の膨張収縮作用は、流体の注入量により加減されるが、
各配管部材への流体の注入は独立に行なうことができ
る。また、本発明の研磨装置および研磨方法は、１葉の
ウェーハに対して、ウェーハとキャリアとを適切な位置
関係に配置して研磨することができる。また、１葉のウ
ェーハに対してウェーハ面内の位置に応じて加圧力を調
整できるので、個々のウェーハの反りなどの状況に応じ
た最適な研磨をすることができる。
【００１４】
【発明の効果】本発明による、改良されたキャリア構造
を有する研磨装置および研磨方法によれば、ウェーハへ
の加圧力をウェーハの部分に応じて調整することができ
るので、反りあるウェーハに対しても、ウェーハ表面の
均一な研磨作用が得られる。
を有する研磨装置および研磨方法によれば、ウェーハへ
の加圧力をウェーハの部分に応じて調整することができ
るので、反りあるウェーハに対しても、ウェーハ表面の
均一な研磨作用が得られる。
【図１】 本発明の実施の形態による研磨装置を説明す
るための図で、キャリアの下面に膨張部材を装着した状
態を示す平面図である。
るための図で、キャリアの下面に膨張部材を装着した状
態を示す平面図である。
【図２】 本発明の実施の形態のキャリアによりウェー
ハを押圧する初期状態を示す断面図である。
ハを押圧する初期状態を示す断面図である。
【図３】 本発明の実施の形態のキャリアによりウェー
ハを押圧する状態を示す断面図である。
ハを押圧する状態を示す断面図である。
【図４】 従来の半導体基板の研磨装置の例を示す断面
図である。
図である。
１ キャリア、 ２ 配管部材、 ３ ウェーハ、 ４ 保持マット。
Claims (7)
- 【請求項１】 研磨布で覆われた回転テーブルと、この
回転テーブルに対向し、この回転テーブルとの間に配置
される１葉のウェーハのほぼ中心に、その中心が位置す
るようにして上記ウェーハを加圧して回転させるキャリ
アと、上記キャリアが上記ウェーハを加圧する面に装着
され独立して膨張収縮の制御可能な複数の膨張部材を備
え、上記膨張部材を介して上記ウェーハへの加圧力を調
整し、上記ウェーハと上記研磨布との間に研磨剤を供給
して上記ウェーハを研磨することを特徴とするウェーハ
研磨装置。 - 【請求項２】 上記膨張部材として、膨張収縮の制御可
能な管状部材を用いたことを特徴とする請求項１に記載
のウェーハ研磨装置。 - 【請求項３】 上記複数の管状部材をほぼ同心のリング
状に配置したことを特徴とする請求項２に記載のウェー
ハ研磨装置。 - 【請求項４】 上記複数の管状部材にそれぞれ独立に流
体を加圧注入することにより上記管状部材の加圧力をそ
れぞれ制御するようにしたことを特徴とする請求項２ま
たは３に記載のウェーハ研磨装置。 - 【請求項５】 上記流体として液体または気体を用いる
ことを特徴とする請求項４に記載のウェーハ研磨装置。 - 【請求項６】 研磨布で覆われた回転テーブルと、この
回転テーブルに対向して配置され、この回転テーブルと
の間に配置される１葉のウェーハのほぼ中心に、その中
心が位置するようにして上記ウェーハを加圧して回転さ
せるキャリアを備え、上記キャリアが上記ウェーハを押
圧する面に独立して膨張収縮の制御可能な複数の膨張部
材を装着し、この膨張部材を介して上記ウェーハへの加
圧力を調整し、上記ウェーハと上記研磨布との間に研磨
剤を供給して上記ウェーハを研磨するするようにしたこ
とを特徴とするウェーハ研磨方法。 - 【請求項７】 研磨布で覆われた回転テーブルとこれに
対向したキャリアとの間に１葉のウェーハを配置し、上
記キャリアの中心と上記ウェーハの中心とをほぼ一致さ
せるようにし、上記キャリアが上記ウェーハを押圧する
加圧力を上記ウェーハ面内の位置により調整しつつ上記
キャリアにより上記ウェーハを加圧して回転させ、上記
ウェーハと上記研磨布との間に研磨剤を供給して上記ウ
ェーハを研磨することを特徴とするウェーハ研磨方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000132697A JP2001079754A (ja) | 1999-07-12 | 2000-05-01 | ウェーハ研磨装置およびウェーハ研磨方法 |
| KR1020010001918A KR100802866B1 (ko) | 2000-05-01 | 2001-01-12 | 웨이퍼 연마 장치 및 웨이퍼 연마 방법 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19789499 | 1999-07-12 | ||
| JP11-197894 | 1999-07-12 | ||
| JP2000132697A JP2001079754A (ja) | 1999-07-12 | 2000-05-01 | ウェーハ研磨装置およびウェーハ研磨方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001079754A true JP2001079754A (ja) | 2001-03-27 |
Family
ID=26510633
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000132697A Pending JP2001079754A (ja) | 1999-07-12 | 2000-05-01 | ウェーハ研磨装置およびウェーハ研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001079754A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7542263B2 (en) | 2004-02-19 | 2009-06-02 | Asml Holding N.V. | Overlay correction by reducing wafer slipping after alignment |
| CN113427387A (zh) * | 2021-08-25 | 2021-09-24 | 南通江淤新材料有限公司 | 一种球状金属鳞片式抛光设备 |
| CN115070536A (zh) * | 2022-07-26 | 2022-09-20 | 徐州盛科半导体科技有限公司 | 一种半导体晶片加工用减薄机 |
| US11945073B2 (en) | 2019-08-22 | 2024-04-02 | Applied Materials, Inc. | Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing |
-
2000
- 2000-05-01 JP JP2000132697A patent/JP2001079754A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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