JP4372957B2 - 有機el素子の製造方法及び製造装置 - Google Patents

有機el素子の製造方法及び製造装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4372957B2
JP4372957B2 JP2000106150A JP2000106150A JP4372957B2 JP 4372957 B2 JP4372957 B2 JP 4372957B2 JP 2000106150 A JP2000106150 A JP 2000106150A JP 2000106150 A JP2000106150 A JP 2000106150A JP 4372957 B2 JP4372957 B2 JP 4372957B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organic
chamber
electrode
inspection
sealing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2000106150A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2001291585A (ja
Inventor
浩志 安彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tohoku Pioneer Corp
Original Assignee
Tohoku Pioneer Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tohoku Pioneer Corp filed Critical Tohoku Pioneer Corp
Priority to JP2000106150A priority Critical patent/JP4372957B2/ja
Publication of JP2001291585A publication Critical patent/JP2001291585A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4372957B2 publication Critical patent/JP4372957B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機エレクトロルミネセンス素子(以下、有機EL素子と示す。)の製造方法及び製造装置に関し、特には、製造工程において、有機EL素子に対して所定の検査を行う工程を有する有機EL素子の製造方法及び製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
EL(エレクトロルミネセンス;電界発光)素子は、例えば液晶ディスプレイのバックライト等の各種面光源として用いられているが、従来の無機EL素子では困難であった青色発光を含む各色の発光波長が得られる有機EL素子の開発により、フラットパネルカラーディスプレイへの利用が図られている。
【0003】
図4は、有機EL素子の基本構造及び製造工程の概略を示す説明図である。図において、基板(ガラス等の透明基板)1の表面にITO膜で形成される透明電極2を陽極として成膜した電極付基板1Aを処理材として(同図(a)参照)、これを抵抗加熱真空蒸着装置に供給し、例えばCuPcやH2Pcなどのフタロシアニン系材料や芳香族アミン系化合物からなるホール輸送層3を一層目として成膜し(同図(b)参照)、その上にAlq3やBeBq3などの母体にキナクリドンやクマリンをドープした材料を用いた発光層4を積層し(同図(c)参照)、引き続いてAlq3を主体とする電子輸送層5を積層して成膜し、ホール輸送層3,発光層4及び電子輸送層5からなる有機層を形成する(同図(d)参照)。そして、その有機層上にアルミニウムの電極6を蒸着し(同図(e)参照)、その後にこれらの蒸着層を封止するための保護層7を成膜する(同図(f)参照)。
【0004】
図5は、上記の有機EL素子を製造するための製造装置の一例を示す説明図である。この製造装置10は、基板の表面に透明電極を形成した電極付基板1A(図4(a)参照)に対して、搬入、洗浄及び各層の成膜及び搬出を行うための装置であり、直列に連設された搬入用ロードロック室11、洗浄室12、上記のホール輸送層,発光層,電子輸送層,電極,保護層を成膜するための第1〜第5成膜室13〜17、及び搬出用ロードロック室18を有して構成されている。上記の洗浄室12及び第1〜第5成膜室13〜17は、それぞれ真空排気系を備えた真空槽であり、バルブ19A〜19Gを介して互いに連通している。また、上記の各室内には、それぞれベルト式,ロボットアーム式等の搬送系が配設され(不図示)、これらの搬送系により、各室を大気に開放することなく処理材である電極付基板1Aを移送できるようになっている。
【0005】
このような有機EL素子の製造装置10においては、有機溶媒中で超音波洗浄した電極付基板1Aを搬入用ロードロック室11を介して洗浄室12に搬入し、この洗浄室12においてプラズマ洗浄した後、第1〜第5成膜室13〜17に順次搬送して、各成膜室においてホール輸送層,発光層,電子輸送層,電極,保護層を順次成膜し、搬出用ロードロック室18を介して搬出するもので、有機EL素子を真空一貫で連続的に製造できるようにしたものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
一般に、有機EL素子を製造する場合、製造工程において上記有機層(ホール輸送層,発光層及び電子輸送層)が不均一に積層されること、その有機層の上に電極を成膜する際に有機層が何らかのダメージを受けること、或いは成膜される電極自体に不純物が混入すること等が原因で、有機EL素子に輝度ムラや発光不良が生じることがある。したがって、現段階の製造技術では歩留まり100%で製品を得ることは不可能であって、製造物に対して発光特性等を検査して所望の評価基準をクリアした製造物のみを製品とする検査工程を設けることが不可欠となっている。
【0007】
一方、有機EL素子は、その構造上、素子周辺から侵入してくる水分,酸素に対して非常に敏感で、その影響を受けやすい。特に、電子輸送層上の電極は仕事関数が小さく、容易に水分や酸素によって酸化されやすいので、これによって非電子輸送領域を形成して、発光面の中に非発光領域(黒点,ダークスポット)を生じさせることがある。更には、有機層の中には、水分や酸素で劣化されやすい有機化合物が存在し、発光時の発熱によっても一層劣化が促進され、発光特性を低下させてしまう場合もある。
【0008】
従って、上記従来の製造装置による製造方法では、有機層を成膜し、その上に電極を成膜した後に、直ちにそれらを封止するための保護層を成膜する工程を設けており、上記のような有機EL素子の不良品を排除するための検査工程は、保護層を成膜してロードロック室から搬出された後の製造の最終工程で行っていた。
【0009】
しかしながら、このように製造の最終工程に検査工程を設ける従来の製造方法では、当然のことながら不良品を発見した時には既に多くの工程を経た後であって、製造工程の途中で不良となったものに対しても保護層形成等の工程を行うことになり、生産効率が悪いものとなっていた。
【0010】
本発明は、このような事情に対処するために提案されたものであって、製造工程で生じた不良を早期に発見でき、生産効率の高い製造方法及び製造装置を提供することを目的とするものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、基板に有機層及び電極を蒸着する蒸着工程と、該蒸着工程の後に有機層及び電極を封止する封止工程とを備える有機EL素子の製造方法において、蒸着工程の後に、蒸着された有機層及び電極に対して所定の検査を行う検査工程を備え、該検査工程は真空又は乾燥雰囲気中で行い、検査工程の後に検査結果が良好な、有機層と電極が形成された段階の有機EL素子のみを封止室に搬送して、封止工程を行うことを特徴とする。
【0012】
また、上記の製造方法を実施するための製造装置として、基板に有機層及び電極を蒸着する成膜室と、該有機層及び電極を封止する封止室とを備えた有機EL素子の製造装置において、成膜室と封止室との間に、真空中又は乾燥雰囲気中での検査が可能な検査室を設け、有機層及び電極に対して所定の検査を行い、検査結果が良好な、有機層と電極が形成された段階の有機EL素子のみを封止室に搬送することを特徴とする。
【0013】
更に、上記の検査工程及びこの検査工程を実施するための検査室においては、有機EL素子の発光特性に関する検査がなされることを特徴とする。
【0014】
上記構成によると、基板上に有機層及び電極を形成した後に、これらを封止する前に有機層及び電極に不良が無いかを検査する検査工程を設けており、製造工程において早期に不良を発見することができるので、不良品に対してはその後の工程を省くことが可能になり、工程ロスを削減し生産効率を向上させることができる。また、封止工程前に行う検査工程を、真空中又は乾燥雰囲気中で行うようにすることで、検査の過程で有機層や電極が水分等に晒されて劣化することを防止することができる。また、検査工程を有機EL素子の発光特性を検査するようにすることで、カラーディスプレイ用有機EL素子の製造にも対応させることが可能になる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する(なお、従来と同一の部分には同一の番号を付している)。図1は本発明の一実施例に係る有機EL素子の製造装置を示す説明図である。この製造装置20は、搬入用ロードロック室11,洗浄室12及び第1〜第4成膜室13,14,15,16を有するところまでは従来のものと同様である。これらについて更に説明を付け加えると、洗浄室12は、電極付基板1A(図4参照)の洗浄を行うための室であって、二極放電形,熱電子放電形,マグネトロン放電形等のプラズマ発生形式からなるプラズマ洗浄装置(不図示)を備えるものである。洗浄室12の前段にはバルブ19Aを介して互いに連通されている搬入用ロードロック室11が設けられる。この搬入用ロードロック室11を介して電極付基板1Aを洗浄室12内に搬入することによって、洗浄室12を大気に開放することなく電極付基板を洗浄室12に搬入することができる。
【0016】
この洗浄室12にバルブ19Bを介して隣接する第1成膜室13は、透明電極2(図4参照)上にホール輸送層3(図4参照)を蒸着するための室であり、ホール輸送層3を構成する蒸着材料を加熱して蒸発させる蒸着源を備える抵抗加熱式等の真空蒸着装置を形成している。この第1成膜室13にバルブ19Cを介して隣接する第2成膜室14は、ホール輸送層3上に発光層4(図4参照)を成膜するための室であり、発光層4を構成する蒸着材料を加熱して蒸発させる蒸着源を備える抵抗加熱式等の真空蒸着装置を形成している。この第2成膜室14にバルブ19Dを介して隣接する第3成膜室15は、発光層4上に電子輸送層5(図4参照)を成膜するための室であり、電子輸送層5を構成する蒸着材料を加熱して蒸発させる蒸着源を備える抵抗加熱式等の真空蒸着装置を形成している。更に、この第3成膜室15にバルブ19Eを介して隣接する第4成膜室16は、電子輸送層5上に陰極となる電極6(図4参照)を成膜するための室であり、電極6を構成する金属を蒸発させる蒸着源を備える抵抗加熱式等の真空蒸着装置を形成している。
【0017】
そして、本実施例においては、第4成膜室16に隣接してバルブ19Hを介して検査室21が設けられている。この検査室21は真空状態を維持しながら、ホール輸送層3,発光層4及び電子輸送層5からなる有機層と電極6が形成された段階の有機EL素子に対して不良が無いかを検査するためのものである。特には、透明電極2及び電極6に検査用電源を接続する装置(不図示)、或いは検査用電源印加時の発光状態を測定する測定装置(不図示)等を備え、有機EL素子の発光特性を検査する装置を備えるものである。また、検査室21には検査の結果が不良であると評価された製造物を製造ラインから排除するための搬出用ロードロック室23がバルブ19Jを介して隣接している。
【0018】
また、この検査室21にバルブ19Kを介して隣接する封止室22は、有機EL素子のホール輸送層3,発光層4,電子輸送層5からなる有機層及び電極6を覆いこれらを水分或いは酸素等から遮断するための封止を行うためのものであり、従来の装置のように保護層を蒸着する成膜室であってもよいし、或いは有機層及び電極6を他の封止材で覆うための装備を備えるものであってもよい。そして、封止室22にはバルブ19Lを介して隣接する搬出用ロードロック室18が設けられている。
【0019】
本実施例の製造装置20によると、有機層と電極6が形成された段階の有機EL素子が、その周囲が真空に維持されたままの状態で検査室21に搬送され、この検査室でこれまでの製造工程で不良が生じているか否かの検査がなされる。そして、この検査室21で不良であると評価されたものは、バルブ19Jを介して隣接される搬出用ロードロック室23を介して製造ラインから排除され、検査結果が良好なもののみが、バルブ19Kを介して封止室22に送られる。
【0020】
図2は、本発明の他の実施例を示す説明図である。上記の実施例と同様の箇所には同一の符号を付して重複する説明を省略する。この実施例の製造装置30では、第4成膜室16にバルブ19Mを介して搬出用ロードロック室33が隣接され、この搬出用ロードロック室33と対面して搬入用ロードロック室34が設けられ、この搬入用ロードロック室34と隣接してバルブ19Nを介して上記と同様の封止室22が設けられている。そして、対面したロードロック室33,34のそれぞれの搬出口及び搬入口を室内に設けるように、室内を乾燥雰囲気に維持した検査室31が形成されている。
【0021】
この実施例の製造装置30によると、第4成膜室16を経て有機層と電極6が形成された段階の有機EL素子は、一旦真空槽から取り出され、室内を乾燥雰囲気に維持した検査室31内に搬送される。そして、この検査室31で上述の検査室21と同様の検査を行い、検査結果が良好なもののみを搬入用ロードロック室34から封止室22に送る。
【0022】
上記の製造装置20,30によって有機EL素子を製造する製造方法を図3に示すフローに従って説明する。先ず、有機溶媒中で超音波洗浄した処理材となる電極付基板1Aを搬入用ロードロック室11内に搬入する(a)。この後、ロードロック室11を洗浄室12よりも低い圧力に減圧して、バルブ19Aを開放し、基板1Aを洗浄室12内に移送する。これにより、基板1Aの移送時にロードロック室11内の不純物が洗浄室12内に流入するのを防止できる。この洗浄室12において、電極付基板1Aをプラズマ洗浄する(b)。この洗浄工程が終了した後、洗浄室12と第1成膜室13間のバルブ19Bを開放し、処理材を第1成膜室13に搬入して、バルブ19Bを閉める。そして、この第1成膜室13にてホール輸送層3を蒸着させる(c)。このホール輸送層蒸着工程が終了した後、第1成膜室13と第2成膜室14との間のバルブ19Cを開放して成膜した処理材を第2成膜室14内に搬入し、バルブ19Cを閉めて、第2成膜室14にて発光層4を蒸着する(d)。以下同様の操作により第3成膜室15にて電子輸送層5(e)、第4成膜室にて対向電極となる電極5を蒸着する(f)。
【0023】
そして、上記の製造装置20(図1)の実施例では、バルブ19Hを開放して上記の有機層と電極6が蒸着された段階の有機EL素子を検査室21に搬入する。また、上記の製造装置30(図2)の実施例では、バルブ19Mを開放して、上記段階の有機EL素子を、搬出用ロードロック室33に移し、バルブ19Mを閉めてからロードロック室33の搬出口から検査室31に搬入する。ここで、この検査室21,31では、これまでの蒸着工程を経た有機EL素子に上述のような検査を行い、この検査結果が不良なものはこの段階で製造ラインから排除し、検査結果が良好なもののみを次の工程に移す(g)。上記の検査工程を経た良品は封止室22に搬入され、そこで所定の封止処理がなされる(h)。更に必要なものは、封止室22から搬出用ロードロック室を経て排出されたものに対してカット工程を施し(i)、所望の製品を得る。
【0024】
このような製造方法によると、製造される有機EL素子に対して封止工程を経る前に検査工程を行い、その段階で不良が確認されたものに対してはそれ以降の工程を省くことができる。したがって、蒸着工程で発生した不良品に対してその後の封止工程等を行わなくて済むので工程ロスを削減でき、生産効率を向上させることができる。
【0025】
【発明の効果】
本発明による有機EL素子の製造方法及び製造装置は、上記のように構成されるので、製造工程で生じた不良を早期に発見でき、有機層及び電極の蒸着以後の工程ロスを削減することができるので、生産効率の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る有機EL素子の製造装置を示す説明図。
【図2】本発明の他の実施例に係る有機EL素子の製造装置を示す説明図。
【図3】本発明の実施例に係る有機EL素子の製造方法を示す説明図。
【図4】有機EL素子の基本構造及び製造工程の概略を示す説明図。
【図5】従来の有機EL素子の製造装置を示す説明図。
【符号の説明】
1 基板
1A 電極付基板
2 透明電極
3 ホール輸送層
4 発光層
5 電子輸送層
6 電極
7 保護層
10,20,30 製造装置
11,34 搬入用ロードロック室
12 洗浄室
13 第1成膜室
14 第2成膜室
15 第3成膜室
16 第4成膜室
17 第5成膜室
18,23,33 搬出用ロードロック室
19A〜19H,19J〜19N バルブ
21,31 検査室
22 封止室

Claims (4)

  1. 基板に有機層及び電極を蒸着する蒸着工程と、該蒸着工程の後に記有機層及び電極を封止する封止工程とを備える有機EL素子の製造方法において、
    記蒸着工程の後に、蒸着された有機層及び電極に対して所定の検査を行う検査工程を備え、
    該検査工程は真空又は乾燥雰囲気中で行い、
    前記検査工程の後に検査結果が良好な、前記有機層と前記電極が形成された段階の有機EL素子のみを封止室に搬送して、前記封止工程を行うことを特徴とする有機EL素子の製造方法。
  2. 記検査工程は有機EL素子の発光特性を検査するものであることを特徴とする請求項1記載の有機EL素子の製造方法。
  3. 基板に有機層及び電極を蒸着する成膜室と、該有機層及び電極を封止する封止室とを備えた有機EL素子の製造装置において、
    記成膜室と記封止室との間に、真空中又は乾燥雰囲気中での検査が可能な検査室を設け、
    記有機層及び電極に対して所定の検査を行い、検査結果が良好な、前記有機層と前記電極が形成された段階の有機EL素子のみを前記封止室に搬送することを特徴とする有機EL素子の製造装置。
  4. 記検査室は有機EL素子の発光特性を検査するものであることを特徴とする請求項3記載の有機EL素子の製造装置。
JP2000106150A 2000-04-07 2000-04-07 有機el素子の製造方法及び製造装置 Expired - Lifetime JP4372957B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000106150A JP4372957B2 (ja) 2000-04-07 2000-04-07 有機el素子の製造方法及び製造装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000106150A JP4372957B2 (ja) 2000-04-07 2000-04-07 有機el素子の製造方法及び製造装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001291585A JP2001291585A (ja) 2001-10-19
JP4372957B2 true JP4372957B2 (ja) 2009-11-25

Family

ID=18619375

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000106150A Expired - Lifetime JP4372957B2 (ja) 2000-04-07 2000-04-07 有機el素子の製造方法及び製造装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4372957B2 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004319321A (ja) * 2003-04-17 2004-11-11 Sony Corp 有機発光表示装置の製造装置および製造方法
JP4476073B2 (ja) * 2004-04-08 2010-06-09 東北パイオニア株式会社 有機el素子の製造方法及び製造装置
JP4796677B2 (ja) * 2006-06-14 2011-10-19 トッキ株式会社 封止膜形成装置及び封止膜形成方法
JP2009158126A (ja) 2007-12-25 2009-07-16 Toppan Printing Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子欠陥検査装置および有機エレクトロルミネッセンス素子および有機エレクトロルミネッセンス素子欠陥検査方法
JP5012633B2 (ja) * 2008-04-16 2012-08-29 セイコーエプソン株式会社 有機エレクトロルミネッセンス装置、並びにその製造方法および製造装置
JP2011070920A (ja) * 2009-09-25 2011-04-07 Toppan Printing Co Ltd 有機elディスプレイパネルの検査方法及び修正方法と、検査装置及び修正装置と、有機elディスプレイパネル
JP2015163941A (ja) 2014-01-29 2015-09-10 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置、電子機器
CN110438466A (zh) * 2019-08-30 2019-11-12 深圳市超为龙科技有限公司 一种高效智能连续式真空镀膜设备

Also Published As

Publication number Publication date
JP2001291585A (ja) 2001-10-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8263175B2 (en) Method for manufacturing color organic EL display
WO2006041240A1 (en) Large-size oled manufacturing apparatus using ink- jet printing techniques and low molecule thermal deposition techniques
JP4372957B2 (ja) 有機el素子の製造方法及び製造装置
US10233528B2 (en) Mask for deposition system and method for using the mask
JP4096353B2 (ja) 有機電界発光表示素子の製造装置および製造方法
KR100531390B1 (ko) 일렉트로 루미네센스 표시 장치 및 그 제조 방법
US7095170B2 (en) Method of manufacturing an organic electroluminescent device and resulting device
JP2009301768A (ja) 電子デバイス装置の製造方法、および電子デバイス装置の製造装置
KR20110027483A (ko) 증착 장치 및 막 검사 방법
JP2010223669A (ja) マスク検査装置、有機el装置の製造装置、マスク検査方法、有機el装置の製造方法
US7632704B2 (en) Manufacturing method for organic electronic element and manufacturing apparatus therefor
JP2008204767A (ja) 電子デバイス装置の製造方法および電子デバイス装置の製造装置
JP5913974B2 (ja) 有機elデバイスの製造装置、及び有機elデバイスの製造方法
JP2008288017A (ja) 有機el表示装置の製造方法
JP2008240016A (ja) 真空成膜装置、真空成膜方法および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法
JP2006019087A (ja) 有機el表示素子の製造方法
JP2005101008A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
JPH10255972A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法およびその製造装置
JP4859074B2 (ja) 表示装置、表示パネル、表示パネルの検査方法及び表示パネルの製造方法
JP2008260072A (ja) 不良原因特定方法及び基板処理装置
JP2003257649A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
JP2007227214A (ja) 吸湿膜形成方法、吸湿膜形成装置および有機エレクトロルミネッセンス素子
JP2006220486A (ja) 輝度検査装置および輝度検査方法
KR20210136207A (ko) 증착 시스템
EP1771041A1 (en) Process for fabricating organic el element and method for cleaning system for fabricating organic el element

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061117

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090609

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090616

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090729

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090821

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090903

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4372957

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120911

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130911

Year of fee payment: 4

EXPY Cancellation because of completion of term